真空溅射镀膜栏目简介

真空溅射镀膜栏目主要讲述了真空溅射镀膜相关溅射镀膜原理、溅射沉积成膜技术、磁控溅射镀膜、射频溅射镀膜、离子溅射镀膜等方面的知识。

磁控溅射靶磁场的有限元模拟分析

本文应用COMSOL软件对JGP450C型磁控溅射镀膜机的圆平面靶表面磁感应强度进行了模拟分析计算,得到了靶面水平磁感应强度较强、分布较均匀的磁铁结构参数。

影响磁控靶溅射电压的几个因素
影响磁控靶溅射电压的主要因素有:靶面磁场、靶材材质、气体压强、阴-阳极间距等。
影响磁控靶点火电压的几个因素
影响磁控靶点火电压的因素主要包括:气体压力、电源以及靶材。
磁控阴极溅射靶的分类
磁控阴极溅射靶,它既是一个真空镀膜机械零部件,同时也是一个电力电子元器件。
磁控溅射及磁控溅射产生的条件-磁控溅射基本原理与工况
本文讲解了磁控溅射镀膜靶电源一文中磁控溅射基本原理与工况章节的磁控溅射以及磁控溅射产生的条件等相关的内容。
阴极溅射与溅射阀值能量-磁控溅射基本原理与工况
本文讲解了磁控溅射镀膜靶电源一文中磁控溅射基本原理与工况章节的阴极溅射与溅射阀值能量的内容。
辉光放电与等离子体-磁控溅射基本原理与工况
本文讲解了磁控溅射镀膜靶电源一文中磁控溅射基本原理与工况章节的辉光放电与等离子体的内容。
溅射镀膜真空环境-磁控溅射基本原理与工况
本文讲述了磁控溅射基本原理与工况中的溅射镀膜真空环境。
磁控溅射靶电源研发、设制与使用小结——前言
磁控溅射靶电源研发、设制与使用小结系列文章——前言部分
共溅射法制备的Pt-C薄膜的微观结构和电化学性能的研究
用共溅射的方法制备了Pt-C薄膜,薄膜由Pt纳米粒子和非晶C组成。电子显微镜和X射线衍射的测试结果显示Pt纳米粒子镶嵌在非晶C之中。
脉冲激光沉积溅射工艺对CIGS薄膜成分和结构的影响
采用脉冲激光沉积溅射法在玻璃衬底上制备Cu-In-Ga预制膜,后经硒化、退火处理,得到CIGS薄膜。采用X射线衍射仪表征了薄膜的晶体结构,采用扫描电子显微镜和能量散射谱观察和分析了薄膜的表面形貌和元素成分,采用光电子能谱分析了薄膜表面的化学价态。
直流磁控溅射法低温制备GZO:Ti薄膜及其光电性能研究
用直流磁控溅射法在玻璃衬底上成功制备出了钛镓共掺杂氧化锌(GZO:Ti)透明导电薄膜,研究了溅射压强和功率对GZO:Ti薄膜的微观结构和光电性能的影响。
基片温度对磁控溅射沉积二氧化硅的影响
本文详细地研究了基片温度对磁控溅射沉积二氧化硅的影响,随着基片温度的增加,溅射沉积速率下降明显,薄膜的折射率也出现上升趋势,薄膜也由低温时的疏松粗糙发展为致密光滑。
铀表面非平衡磁控溅射离子镀Ti基薄膜的组织结构与腐蚀性能
金属铀的化学性质十分活泼,极易发生氧化腐蚀。本文采用磁过滤多弧离子镀在金属铀表面制备Ti过渡层,然后采用非平衡磁控溅射离子镀技术制备了Ti、TiN单层膜及Ti/TiN多层薄膜,以期改善基体的抗腐蚀性能。
基于遗传算法的真空磁控溅射射频阻抗匹配仿真研究
针对真空磁控溅射射频电源阻抗匹配问题, 设计射频L型阻抗匹配网络结构。
溅射气压对碳化钒薄膜微结构与力学性能的影响
采用碳化钒靶的磁控溅射方法在不同的Ar气压下制备了一系列碳化钒薄膜, 利用能量分析光谱仪, X射线衍射,扫描电子显微镜, 原子力显微镜和微力学探针研究了气压对薄膜成分、相组成、微结构以及力学性能的影响。