真空镀膜栏目简介

真空镀膜主要分蒸发镀膜、溅射镀膜、离子镀膜和化学气相沉积几种。真空镀膜栏目主要讲述了真空镀膜原理,真空镀膜工艺,真空镀膜设备等有关真空镀膜技术。

真空卷绕镀膜技术研究进展

本文从系统结构、参数控制和镀膜方式等综述了真空卷绕镀膜技术研究进展。

磁控溅射光学膜均匀性改进
随着光通讯的发展,对光学薄膜的性能要求越来越高,这对镀膜机的均匀性提出更高要求。本文通过直接对镀膜机的夹具进行改进来改善均匀性。
反应磁控溅射的机理与特性
采用PVD方法制备介质薄膜和化合物薄膜,除了可采用射频溅射法外,还可以采用反应溅射法。即在溅射镀膜过程中,人为控制地引入某些活性反应气体,与溅射出来的靶材物质进行反应沉积在基片上,可获得不同于靶材物质的薄膜。
中频脉冲非平衡磁控溅射技术制备类金刚石膜的结构与性能
本文采用中频脉冲磁控溅射技术制备了类金刚石薄膜,研究了沉积气压对薄膜厚度、化学键结构、机械性能和光学性能的影响。
电弧离子镀TiN/Ti纳米多层膜的力学性能
本文在TiN涂层和多层结构的基础上,采用多弧离子镀方法制备TiN/Ti 多层膜,分析研究调制周期对其结构及其性能的影响。
(TiZr)N硬质膜的沉积工艺研究
本文主要研究(TiZr)N硬质膜的沉积工艺波动范围及影响。考察了阴极靶电流、N2气流量等工艺参数对膜层组织和性能的影响。
真空卷绕镀膜技术研究进展
本文从系统结构、参数控制和镀膜方式等综述了真空卷绕镀膜技术研究进展。
杆状氧化铍表面金刚石薄膜的生长
本文利用一种新型线形微波等离子源以CH4和H2为反应气体在杆状氧化铍陶瓷表面进行金刚石膜沉积,研究了基底预处理对金刚石形核密度和膜的连续性,以及基底温度对金刚石膜表面形貌和质量的影响。
硬质涂层抗热震性的研究方法与评价
本文对硬质涂层的热震性做详细的分析探讨,并通过分析热震损伤机制及表征方法,寻求提高硬质涂层抗热震性的途径和方法。
磁控溅射中电磁场分布二维模拟
本文采用计算机FORTRAN语言自主编程,通过建立通电线圈磁场的数学模型,对磁控溅射靶附近由通电线圈产生的磁场分布进行了二维数值模拟计算。
三种聚合物薄膜氦渗透率的测试
本文利用氦质谱检漏仪测量聚合物薄膜对He的整体漏率,根据菲克定律计算出聚合物薄膜对He的渗透率,并比较分析三种常用聚合物(PET,PDMS,PI)对He渗透率的大小。
YSZ/YSZ-NiO电解质薄膜在低温条件下的电学特性研究
采用脉冲激光沉积(PLD)法,在多孔支撑的NiO-YSZ 阳极基底上制备YSZ电解质薄膜。利用XRD、SEM和射频阻抗/ 材料分析仪对多层膜的物相结构、表面形貌以及电学特性等进行表征。
La0.6Sr0.4MnO3/Fe-Ni复合吸波材料制备与性能研究
本文综合以上考虑制备了钙钛矿结构材料La0.6Sr0.4MnO3 和FeNi合金,通过真空球磨将俩种吸波材料按不同比例复合, 并进行适当退火处理, 大幅度提升了La0.6Sr0.4MnO3吸波性能。
Cu/TiO2/ITO薄膜元件阻变性能与机理研究
本文对TiO2 薄膜阻变性能与机理进行研究,分析得出元件阻变机理与导电细丝理论和普尔-法兰克效应有关,为解决TiO2 阻变机理的不明朗问题提供了参考。
晶界“背脊”形貌对热障涂层热冲击寿命的影响
本文的主要研究工作是采用化学气相沉积和电子束物理气相沉积技术在镍基单晶高温合金上分别制备铂改性铝化物涂层和陶瓷热障涂层,开展粘结层表面晶界“背脊”形貌对热障涂层体系热冲击寿命的影响行为和可能的TBCs 剥落失效机理研究。