脉冲辉光PECVD制备DLC薄膜的结构和性能研究

2020-04-18 真空技术网 真空技术网整理

　　摘　要：类金刚石碳膜以其优异的性能,诸如高电阻率、高硬度、低摩擦系数、良好的光学特性等显示出良好的应用前景,越来越受到人们的关注.本文利用脉冲辉光PECVD在不同的脉冲电压下成功地制备了DIE薄膜.采用拉曼光谱仪、原子力显微镜、纳米压痕仪等设备对薄膜的相结构、表面形貌和力学性能进行了综合分析.

　　关键词：脉冲放电;等离子体辅助化学气相沉积法;类金刚石碳膜;Raman光谱;表面形貌

　　分类号：O484.1　文献标识码：A

　　文章编号：1672-7126(2008)增刊-033-05

Microstructures and Properties of Diamond-Like Carbon Films Grown by Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition

Gou Wei　 Li Jianfeng　 Chu Xinpu　 Zhang Liping　 Li Guoqing