真空溅射镀膜栏目简介

真空溅射镀膜栏目主要讲述了真空溅射镀膜相关溅射镀膜原理、溅射沉积成膜技术、磁控溅射镀膜、射频溅射镀膜、离子溅射镀膜等方面的知识。

磁控溅射靶磁场的有限元模拟分析

本文应用COMSOL软件对JGP450C型磁控溅射镀膜机的圆平面靶表面磁感应强度进行了模拟分析计算,得到了靶面水平磁感应强度较强、分布较均匀的磁铁结构参数。

磁控溅射中电磁场分布二维模拟
本文采用计算机FORTRAN语言自主编程,通过建立通电线圈磁场的数学模型,对磁控溅射靶附近由通电线圈产生的磁场分布进行了二维数值模拟计算。
射频磁控溅射法ZnO薄膜制备工艺的优化
在采用射频磁控溅射在Si 和玻璃衬底上制备单层ZnO 薄膜时,薄膜会受到溅射功率、衬底温度、氧氩比以及工作气压等的影响。本文中将详细讨论这些因素对ZnO薄膜晶体质量,应力以及光学性能的影响。
氧分压对直流磁控溅射IGZO薄膜特性的影响
本文采用直流磁控溅射技术,在室温下通过改变氧分压的工艺条件制备了IGZO 薄膜,系统性的分析了氧分压对薄膜的物相结构、表面形貌、元素结合能及电学与光学等特性的影响。
沉积温度对磁控溅射制备V-Al-Si-N硬质涂层结构及性能的影响
本文利用磁控溅射的方法通过改变基片温度制备了不同沉积温度的V-Al-Si-N涂层,并利用X射线衍射(XRD) 、扫描电镜(SEM) 、纳米压痕仪和摩擦磨损试验机对涂层的结构及性能进行了分析。
固体润滑轴承用9Cr18不锈钢离子注入与磁控溅射改性真空摩擦学研究
为了提高空间固体润滑滚动轴承耐磨寿命,采用全方位离子注入和磁控溅射技术对空间固体润滑轴承用9Cr18材料进行耐磨减摩表面改性研究。
偏压对磁控溅射制备Ni掺杂TiB2基涂层结构及力学性能的影响
本文采用中频和射频电源的双靶磁控溅射设备通过改变基片偏压制备了不同偏压的TiB2-Ni涂层。对所制备的涂层进行了结构和性能的研究,探讨了偏压对其生长结构,以及硬度、断裂韧性、膜基结合力和摩擦学等方面的性能。
高温铝液中TiAlN硬镀层失效机理研究
本文以H13钢基体上的磁控溅射TiAlN镀层为研究对象,通过镀层在高温铝液中长时间浸蚀后对表面、截面形貌变化和成分分析等途径,探讨硬质镀层在高温铝液中的失效机理。
大曲率球形基底表面膜厚均匀性的实现
针对球形基底膜厚均匀性问题,提出了一种新的思路,设计改造了一种新型布局的磁控溅射设备,以解决大曲率球形基底外表面膜层的均匀性问题。
复合高功率脉冲磁控溅射放电等离子体特性
本文采用脉冲与直流电源并联模式的复合HIPIMS,针对Ti、Cr靶研究脉冲电压对复合HIPIMS 过程中的靶电压、靶电流、电子密度(Ne)、电子温度(Te)、等离子体电势(Vs)以及基体电流等微观参数的影响。
沉积时间对磁控溅射法制备宽禁带半导体薄膜材料ZnS物性及光学性质的影响
本文用磁控溅射法制备了ZnS薄膜,并对薄膜的物理性质及光学性质进行了细致的研究。为ZnS薄膜材料的进一步应用,提供了实验依据。
不同相结构Ti33Al67靶材磁控溅射薄膜对比研究
本文研究了一种成分相同,而相结构完全不同的Ti33Al67靶材沉积薄膜的性能,从微观角度探讨了两种靶材沉积薄膜性能产生差异的原因。
能量过滤磁控溅射技术室温制备ITO膜的光电特性及其应用
本文利用该技术制备了TOLED器件的ITO阳极,研究了ITO薄膜的结构、光学和电学性能,测试了TOLED的发光效率并与DMS 技术制备的器件作了对比。
占空比对磁控溅射TiAlN薄膜性能影响的实验研究
采用中频孪生磁控溅射技术,通过调整薄膜沉积过程中占空比大小,制备TiAlN 薄膜。
各种溅射镀膜方法的原理及特点
溅射镀膜有多种方式,其典型方式如本文所示,表中列出了各种溅射镀膜的特点及原理图。