真空溅射镀膜栏目简介

真空溅射镀膜栏目主要讲述了真空溅射镀膜相关溅射镀膜原理、溅射沉积成膜技术、磁控溅射镀膜、射频溅射镀膜、离子溅射镀膜等方面的知识。

磁控溅射靶磁场的有限元模拟分析

本文应用COMSOL软件对JGP450C型磁控溅射镀膜机的圆平面靶表面磁感应强度进行了模拟分析计算,得到了靶面水平磁感应强度较强、分布较均匀的磁铁结构参数。

基于负偏压收集极的绝缘体二次电子发射系数测量
通过给收集极设定负偏压,本文提出了一种新的电荷中和方法,有效地中和了在测量过程中累积在样品表面的电荷。
辉弧共溅射Ar/N2流量比对TiN薄膜结构及硬度的影响
本文在固定其它工艺参数的基础上研究了Ar/N2流量比对TiN 薄膜结构及硬度的影响。
低温等离子体辅助脉冲直流磁控溅射制备TiN薄膜
采用一种新型的等离子体辅助脉冲直流磁控溅射溅射沉积方法,在低温状态下制备了氮化钛薄膜,并对氮化钛薄膜进行了表征,研究了等离子体源在薄膜制备过程中的作用。
射频磁控溅射法沉积SiC-Al薄膜的摩擦特性
通过使用双靶位磁控溅射设备在Ti-6Al-4V合金上沉积了SiC-Al 薄膜,着重研究了Al原子的浓度对SiC-Al薄膜的摩擦系数的影响以及Al中间层对界面强度的影响。
直流磁控溅射中矩形平面靶刻蚀形貌的数值计算及优化
本文通过在基片和靶材间加正向电场,改变了电子的运动轨迹和空间分布,优化了矩形平面靶的刻蚀形貌,提高了靶材利用率。
基于反应气体和生长温度的Nb掺杂TiO2薄膜相图研究
应用射频磁控溅射设备在超白玻璃和石英玻璃等非晶基体上生长Nb 掺杂TiO2薄膜。
敏感陶瓷表面溅射金属化研究
本文的目的在于通过在NTC热敏电阻表面制备溅射膜Ni /V-Ag 电极来研究NTC敏感陶瓷表面溅射金属化的可行性。
MgO/Au复合薄膜的反应射频磁控溅射法制备及表面形貌研究
本文采用反应射频磁控溅射法制备MgO/Au复合薄膜,比较了Mg靶和Au靶共溅射、分步溅射制备复合薄膜的表面成分及形貌,研究了溅射时衬底温度和Ar/O2气体流量比对薄膜晶粒分布、晶粒尺寸和结晶取向的影响。
NiFeNb缓冲层和NiO插层对坡莫合金薄膜各向异性磁电阻的影响
为了研制出高精度的地磁导航系统,必须开发出对弱磁场及方位都敏感的磁性材料-坡莫合金薄膜。
CSNS/RCS二极陶瓷真空盒磁控溅射镀TiN薄膜研究进展
为降低陶瓷表面的二次电子发射系数(SEY),采用直流磁控溅射的方法,对二极陶瓷真空盒内壁镀氮化钛(TiN)薄膜工艺进行实验研究。
磁控溅射靶磁场的有限元模拟分析
本文应用COMSOL软件对JGP450C型磁控溅射镀膜机的圆平面靶表面磁感应强度进行了模拟分析计算,得到了靶面水平磁感应强度较强、分布较均匀的磁铁结构参数。
制备工艺对磁控溅射Mo-N薄膜微结构和性能的影响
本文采用射频磁控溅射的方法,通过改变反应环境中的Mo 靶功率、氩氮比、负偏压等制备一系列的Mo-N 薄膜,利用X 射线衍射仪、纳米压痕仪、扫描电子显微镜和摩擦磨损测试仪对其相结构、显微硬度和摩擦性能进行研究。
溅射靶材对TiAlN涂层形貌、结构和力学性能的影响
本文通过设计两种靶材,分别是粉末冶金方法和真空熔炼方法制备的原子比为Ti50Al50的合金靶材,在同一磁控溅射设备及同一溅射工艺条件下进行镀膜实验,研究不同组织结构的Ti50Al50合金靶材对TiAlN涂层的组织结构和性能的影响。
沉积参数对硅碳氧薄膜光学性能的影响研究
采用射频磁控溅射技术在K9 玻璃上制备了硅碳氧薄膜,并研究了沉积参数对硅碳氧薄膜光学性能的影响。
Se离子束辅助沉积CIS过程的数值分析
通过研究离子束辅助沉积与传统气相原子沉积生成CIS 薄膜的过程,从扩散均匀性角度分析,对离子束的注入深度效应进行数值计算。