物理法制备ZnO薄膜的方法
物理法制备ZnO薄膜的的主要方法有溅射法(Sputtering)、脉冲激光沉积法(PLD)、分子束外延法(MBE)、原子层外延生长法(ALE)等。
高真空磁场热处理装置的组成及主要技术
高真空磁场热处理装置主要由直流磁场发生装置、真空系统和热处理炉三部分组成。
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