真空镀膜

真空镀膜主要分蒸发镀膜、溅射镀膜、离子镀膜和化学气相沉积几种。真空镀膜栏目主要讲述了真空镀膜原理,真空镀膜工艺,真空镀膜设备等有关真空镀膜技术。

不同频率溅射沉积的新型耐磨二硼化钒涂层的结构及性能
本文的主要目的就是选择几种不同频率的电源制备VB2涂层,测试及比较不同频率下制备出的新型VB2涂层的结构和性能。
TiN/TiCrN/TiCrAlN复合薄膜膜基结合力测定与分析
本研究以多弧离子镀制备的TiN/TiCrN/TiCrAlN 复合薄膜为对象,根据划痕仪所收集的声信号数据、摩擦力数据、摩擦系数数据,在金相显微镜下观察分析划痕形貌来综合判定膜基结合力,为膜基结合力的判定提供一个准确可信的准则。
单晶高温合金铬改性铝化物涂层的高温氧化行为研究
本文采用化学气相沉积技术在镍基单晶高温合金基体上制备了铬改性铝化物涂层,在1050℃高温氧化条件下,通过Cr-Al涂层的氧化动力学、相结构、显微组织和成分等演变规律系统研究,深入探讨Cr-Al涂层的高温氧化行为,并揭示了涂层在高温氧化环境下可能的相变机理。
脉冲偏压占空比对复合离子镀(Cr,Al)N薄膜结构和力学性能的影响
本文利用复合离子镀在基底上施加直流叠加脉冲偏压制备(Cr,Al)N薄膜,重点研究占空比对于薄膜微观结构及力学性能的影响。
Cr/CrN/Cu-TiN膜的成分与性能研究
对未作化学刻蚀处理和微纳米化刻蚀处理的不锈钢基体高功率脉冲磁控溅射沉积Cr/CrN/Cu-TiN膜,对试样成分和性能分析。
原子层沉积氧化铝包覆层增强五氧化二钒多孔薄膜电化学循环稳定性
本文是关于在由溶胶凝胶法制备的V2O5多孔薄膜上沉积Al2O3原子层以改善其循环稳定性的研究。未经沉积的薄膜拥有最高的初始放电容量,但50个循环后衰减严重。经由不同厚度的Al2O3原子层沉积后,V2O5膜的循环稳定性均有所提升。
真空镀膜制备太阳能热吸收涂层
本文介绍了选择性太阳能热吸收涂层的制备方法及发展状况,重点描述了真空镀膜在金属卷材上制备选择性太阳能热吸收涂层。
真空镀膜机比较片机构性能和强度的优化设计
分析现有光学真空镀膜机比较片机构在使用过程中存在的问题。根据现代光学真空镀膜机的发展趋势和实际生产中急需解决的问题,通过多方面的研究分析,优化设计新一代的镀膜机比较片结构,解决影响光学薄膜质量和超多层精密光学薄膜镀制的问题。
石墨靶和钛靶共溅射制备的TiCN薄膜的结构和性能
采用四川大学研发的RZP-800中频反应磁控溅射镀膜机,利用石墨靶作为碳源,代替CH4或C2H2,在氮气和氩气的混合气氛下通过共溅射石墨靶与钛靶制备TiCN 薄膜,并对该制备方法下获得的TiCN薄膜的成分、结构、硬度和结合强度进行了分析和研究。
CVD直接生长技术高效碳纳米管镍氢电池的研究
采用热化学气相沉积技术(CVD),在泡沫镍表面直接生长多壁碳纳米管(MWNT),以此MWNT-泡沫镍基底为电池集流体,并使用该基底、通过干粉末滚压工艺制备镍氢电池电极,对电池进行了一系列的充放电性能测试。
MPCVD法合成单晶金刚石的研究及应用进展
本文简介近年来MPCVD技术合成单晶金刚石的研究进展,评述了在该研究领域处于领先地位的英美日等国有关公司及研究机构所取得的成果,并对单晶金刚石的应用前景作出了展望。
固体润滑轴承用9Cr18不锈钢离子注入与磁控溅射改性真空摩擦学研究
为了提高空间固体润滑滚动轴承耐磨寿命,采用全方位离子注入和磁控溅射技术对空间固体润滑轴承用9Cr18材料进行耐磨减摩表面改性研究。
偏压对磁控溅射制备Ni掺杂TiB2基涂层结构及力学性能的影响
本文采用中频和射频电源的双靶磁控溅射设备通过改变基片偏压制备了不同偏压的TiB2-Ni涂层。对所制备的涂层进行了结构和性能的研究,探讨了偏压对其生长结构,以及硬度、断裂韧性、膜基结合力和摩擦学等方面的性能。
电弧离子镀沉积TiCx薄膜的结构和性能研究
本文采用脉冲偏压电弧离子镀技术改变分离靶弧流获得不同成分的TiCx薄膜,研究不同碳含量对薄膜结构和性能的影响。
7A04铝合金表面DLC薄膜制备及性能研究
本研究利用RF-PIII&D设备,在7A04铝合金表面制备DLC薄膜。为提高膜基结合力,采用非平衡磁控溅射技术,在铝合金表面和DLC薄膜之间沉积一层Si膜,作为过渡层。