真空溅射镀膜

真空溅射镀膜栏目主要讲述了真空溅射镀膜相关溅射镀膜原理、溅射沉积成膜技术、磁控溅射镀膜、射频溅射镀膜、离子溅射镀膜等方面的知识。

基片温度对磁控溅射沉积二氧化硅的影响
本文详细地研究了基片温度对磁控溅射沉积二氧化硅的影响,随着基片温度的增加,溅射沉积速率下降明显,薄膜的折射率也出现上升趋势,薄膜也由低温时的疏松粗糙发展为致密光滑。
铀表面非平衡磁控溅射离子镀Ti基薄膜的组织结构与腐蚀性能
金属铀的化学性质十分活泼,极易发生氧化腐蚀。本文采用磁过滤多弧离子镀在金属铀表面制备Ti过渡层,然后采用非平衡磁控溅射离子镀技术制备了Ti、TiN单层膜及Ti/TiN多层薄膜,以期改善基体的抗腐蚀性能。
基于遗传算法的真空磁控溅射射频阻抗匹配仿真研究
针对真空磁控溅射射频电源阻抗匹配问题, 设计射频L型阻抗匹配网络结构。
溅射气压对碳化钒薄膜微结构与力学性能的影响
采用碳化钒靶的磁控溅射方法在不同的Ar气压下制备了一系列碳化钒薄膜, 利用能量分析光谱仪, X射线衍射,扫描电子显微镜, 原子力显微镜和微力学探针研究了气压对薄膜成分、相组成、微结构以及力学性能的影响。
磁控溅射TiAlN和WTiN薄膜的制备与摩擦性能研究
采用双靶反应磁控溅射的方法在40Cr基体上制备了TiAlN薄膜和WTiN薄膜。
高功率脉冲磁控溅射氩氮比对ZrN薄膜结构及性能的影响
采用高功率复合脉冲磁控溅射的方法(HPPMS)在不锈钢基体上制备ZrN薄膜,对比DCMS方法制备的ZrN薄膜,得出HPPMS制备的薄膜表面更平整光滑、致密,既无空洞、又无大颗粒等缺陷。
磁控溅射镀膜膜厚均匀性设计方法
在现有的理论基础之上,对溅射镀膜的综合设计方法进行了初步的建立和研究,系统的建立可以采用“整体到部分,再到整体”这一动态设计理念,不断完善设计方法,并将设计方法分为镀膜设备工程设计、镀膜工艺设计和计算机数值仿真三大部分。
磁控溅射沉积二氧化钒薄膜及其电致相变特性研究
采用反应射频磁控溅射技术在熔融石英玻璃衬底上制备了组分单一的二氧化钒薄膜。
旋转圆柱靶溅射沉积产额分布
采用数值计算模型,计算了旋转圆柱靶溅射产额分布。
高脉冲功率密度复合磁控溅射电源研制及放电特性研究
高功率脉冲磁控溅射技术(HPPMS)由于能够产生较高的离化率而受到人们的重视。
闭合磁场非平衡磁控溅射离子镀离化特性研究
应用闭合磁场非平衡磁控溅射离子镀系统,研究了溅射靶电流、偏压和Ar 流量对偏流密度的影响。
平面磁控溅射薄膜厚度均匀性的研究概述
在平面磁控溅射镀膜系统中,薄膜厚度均匀性作为衡量薄膜质量和成膜系统性能的一项重要指标,得到了国内外学者们的广泛研究。
真空磁控溅射法沉积平板集热器板芯选择性吸收涂层
介绍了采用真空磁控溅射技术在平板集热器板芯上沉积选择性吸收涂层,提高平板集热器的集热效率和使用的耐候性。
小圆平面靶磁控溅射镀膜均匀性研究
从圆平面靶磁控溅射的原理出发,针对圆形平面靶面积小于基片面积的特点进行分析,建立膜厚分布的数学模型,并利用计算机进行模拟计算,目的在于探寻平面靶材面积小于基片面积时影响膜厚均匀性的因素
磁控溅射制备纳米二氧化钒半导体薄膜及表征
采用射频磁控溅射法,结合氩气气氛退火工艺制备了VO2薄膜。