真空溅射镀膜栏目简介

真空溅射镀膜栏目主要讲述了真空溅射镀膜相关溅射镀膜原理、溅射沉积成膜技术、磁控溅射镀膜、射频溅射镀膜、离子溅射镀膜等方面的知识。

磁控溅射靶磁场的有限元模拟分析

本文应用COMSOL软件对JGP450C型磁控溅射镀膜机的圆平面靶表面磁感应强度进行了模拟分析计算,得到了靶面水平磁感应强度较强、分布较均匀的磁铁结构参数。

压电陶瓷阀特性在反应溅射AlN参数设置中的应用
本文主要讲述了压电陶瓷阀特性在反应溅射AlN参数设置中的应用。
气体流量随压电陶瓷阀偏置电压变化速率
本文描述了气体流量随压电陶瓷阀偏置电压变化速率实验情况。
气体流量随压电陶瓷阀偏置电压变化的温度特性
本文讲述了气体流量随压电陶瓷阀偏置电压变化的温度特性。
气体流量随压电陶瓷阀偏置电压变化的迟滞特性
本文讲述了气体流量随压电陶瓷阀偏置电压变化的迟滞特性。
压电陶瓷阀在真空磁控反应溅射中的特性
在真空磁控溅射镀膜线上, 采用PCV25型压电陶瓷阀作为反应气体流量输出的驱动元件。研究了不同环境温度下压电阀偏置电压Vo对N2输出流量Q的影响。
掺钼氧化锌薄膜的发光特性
使用磁控溅射法在石英基底上制备钼掺杂氧化锌薄膜。
不锈钢双极板表面Cr与Cr2N镀层导电与耐蚀性研究
采用等离子体磁控溅射的方法在304不锈钢双极板表面沉积出致密均匀的Cr层和Cr2N层,研究了表面镀层对不锈钢双极板导电和耐腐蚀性能的影响。
采用真空磁控反应溅射和沸水氧化法制备Al2O3增透膜
在玻璃基片上采用金属Al 靶在溅射气体Ar 和反应气体O2 的混合气体中,真空磁控溅射半透明的Al- Al2O3金属陶瓷薄膜,再将沉积薄膜的玻璃基片浸入沸腾的去离子水中氧化,制备成陶瓷增透膜。
基于InGaN量子点的GaN盖层生长条件优化
本文采用金属有机物化学气相沉积(MOCVD)技术外延生长有GaN 盖层的InGaN 量子点,研究不同外延生长条件下的GaN 盖层表面形貌和光学性质。
溅射气压对PI衬底CIGS薄膜太阳电池Mo背电极的影响
本文采用直流磁控溅射方法在PI 上沉积Mo 背电极,研究不同溅射气压对Mo 薄膜电学特性、结构特性及对CIGS 薄膜太阳电池的影响。
磁控溅射MoS2/W复合薄膜的微结构与摩擦学性能研究
采用磁控溅射法, 用纯MoS2/ W 双靶在模具钢Cr12 和硅基片上溅射MoS2/ W 复合纳米薄膜, 通过X 射线衍射仪、能谱仪、扫描电子显微镜对薄膜的成分和结构进行分析。
Al-Sn共掺杂ZnO薄膜的结构与光电性能研究
在固定ZnO:Al(AZO) 靶溅射功率不变的条件下, 研究了Sn 靶溅射功率对ATZO 薄膜的结晶质量、表面形貌、电学和光学性能的影响。
高功率脉冲磁控溅射电源的研制
本论文介绍了一种HPPMS高功率脉冲磁控溅射电源, 该电源由充电电源、斩波输出两部分组成, 给出了主电路框图。
直流磁控溅射法在玻璃上沉积制备金属镍膜的研究
采用直流磁控溅射法在玻璃基板上制备的半透明镍膜,用原子力显微镜(AFM)分析溅射功率对镍膜的表面粗糙度的影响。