磁控阴极溅射靶的分类

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  磁控阴极溅射靶,它既是一个真空镀膜机械零部件,同时也是一个电力电子元器件。从靶电源的使用角度出发,我们更加关注的是它的电气性能。本文按照不同类型将其分类。

1. 按机械结构分

  磁控靶根据机械结构和靶材形状分类,主要有平面(矩形或圆形)磁控靶,同轴拄状磁控靶(分为旋转磁钢或旋转靶管以及“磁钢上下移动“几种方式)和环状锥形磁控靶(S枪)等几种。

2. 按平面靶材分

  平面靶分为平面矩形磁控靶、平面圆形磁控靶和电弧-磁控两用的复合结构平面靶。

3. 按磁场分

  (1)磁控靶根据磁场形成方式的不同分为永久磁铁(永磁式)和电磁铁(电磁式)两种。

  (2)根据磁控靶在真空腔体排列分布位置的不同和磁极、磁力线分布状况的不同,分为平衡磁控溅射和非平衡磁控溅射两大类(非平衡磁控溅射可将等离子体扩展到远离靶面处,提高异形工件表面膜层质量和大面积离子沉积效果);多靶闭合磁场非平衡磁控溅射系统可以获得高的沉积速率和较高质量的薄膜。

  (3)磁控溅射靶的非平衡磁场不仅可通过改变内外永磁体的大小和强度获得,也有由两组电磁线圈产生,或采用电磁线圈与永磁体混合结构;也有在阴极和基体之间增加附加的螺线管,用来改变阴极与基体之间的磁场,并以此来控制沉积中的正离子和原子的比例,达到最佳效果。

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