影响磁控溅射制备TiO2 薄膜性能的因素研究

来源:真空技术网(www.chvacuum.com)西安工业大学 陕西省薄膜技术与光学检测重点实验室 作者:马健波

影响磁控溅射制备TiO2 薄膜性能的因素研究

马健波,徐均琪,邹逢

(西安工业大学 陕西省薄膜技术与光学检测重点实验室,陕西 西安 710032)

  从研究制备条件对Ti02薄膜的透射率及光学常数的影响出发,利用分光光度计测量薄膜的透射率,椭圆偏振光谱仪作为确定薄膜光学参数的测试仪器,研究了不同制备条件对Ti02薄膜光学特性的影响。

  研究结果表明,溅射电流、工作气压和氧气/氩气流量比对Ti02薄膜光学特性的影响主要表现为:随着溅射电流由4A增大到8A,Ti02薄膜的消光系数由0.043减小至基本为0。随着工作气压由1.3Pa减小到0.7Pa,Ti02薄膜的折射率由2.2增大到2.25,消光系数由0增大到0.035,适当的增大工作气压,能够获得较小消光系数的Ti02薄膜。当氧气和氩气的流量比过高(3:2)或过低(2:3),都会使薄膜性能降低,当氧气和氩气的流量比为1:1时最佳,Ti02光学薄膜的消光系数在氧气/氩气的比率为1:1时最小基本为零。

  因此可以通过加大溅射电流或增加工作气压来获得消光系数极低的Ti02薄膜。同时把氧气和氩气流量比控制在1:1时能获得低消光系数的Ti02薄膜。同时文章得出了采用磁控溅射时最佳工艺参数为:溅射电流为8A,工作气压为1.3Pa,氧气和氩气流量比为1:1。

  关键词:磁控溅射,TiO2 薄膜,光学常数,消光系数

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