真空镀膜

真空镀膜主要分蒸发镀膜、溅射镀膜、离子镀膜和化学气相沉积几种。真空镀膜栏目主要讲述了真空镀膜原理,真空镀膜工艺,真空镀膜设备等有关真空镀膜技术。

ECR等离子体刻蚀增强机械抛光CVD金刚石
本文采用ECR等离子体刻蚀与机械抛光相结合的方法抛光CVD金刚石,并与单纯的机械抛光CVD金刚石相比较,发现在机械抛光中增加ECR等离子体刻蚀能明显增强机械抛光效率,特别是在机械抛光前期,组合抛光效率是机械抛光效率的3倍。
溅射气压对Li-W共掺杂ZnO薄膜性能的影响
本文主要在不同溅射气压制备得到Li-W共掺杂薄膜(LWZO) ,分析了溅射气压对LWZO薄膜的结晶性能、表面形貌、光学性能的影响以及电学性能的影响。
银修饰氮掺杂TiO2薄膜的制备及光催化性能研究
本文采用磁控溅射法制备不同Ag含量的氮掺杂TiO2薄膜,并分析其形貌结构、表面元素化学态、光学性能以及可见光催化活性,研究Ag的含量对薄膜性能的影响。
固态碳源温度对法CVD生长石墨烯薄膜影响的研究
本文主要探索了固态源温度变化对石墨烯生长的影响,并采用固态源动态变温的方法生长了石墨烯,有效提高了所得石墨烯薄膜的覆盖率。
行星周转镀膜装置设计
针对现有的蒸镀圆柱形腔体杜瓦镀膜工艺存在工艺繁琐、膜层不均匀等问题,设计了行星周转镀膜装置。
电子束蒸发TiO2膜通氧量对薄膜光学性能的影响
文章研究了离子束辅助电子束蒸发镀制TiO2薄膜的通氧量对薄膜性能的影响,获得最优的镀制工艺以及最好的薄膜光学特性。
高温真空镀膜夹具的设计
对于要求整面镀膜的大规格玻璃面板,镀膜环境为高温的情况下,采用传统夹子夹持的方法,不能满足大规格玻璃整面镀膜的需要。提出一种新的思路,并设计了新夹具解决此问题。
MPCVD法制备低粒径纳米金刚石薄膜的研究
采用MPCVD法,以Ar/H2/CH4为气源,探索较高浓度氩气和气压条件下低粒径纳米金刚石的制备工艺,并对生长的纳米金刚石膜的晶粒尺寸,薄膜质量,残余应力,表面形貌进行分析。
微波等离子体化学气相沉积超纳米晶金刚石膜研究
超纳米晶金刚石(UNCD)在短毫米波特别是太赫兹真空器件输能窗中具有潜在的应用价值。本文介绍了UNCD膜的制备工艺和性能表征。
多层HfO2/Al2O3薄膜基电荷陷阱存储器件的存储特性研究
本文利用多层HfO2/Al2O3薄膜作为存储层,借助脉冲激光和原子层沉积系统制备电荷陷阱存储器件,并对器件的存储特性进行了系统分析。
等离子喷涂涂层微观结构的蒙特卡罗模拟
本文使用蒙特卡罗方法建立随机模型预测等离子喷涂涂层显微结构及其孔隙率和粗糙度,并研究工艺参数对涂层孔隙率和表面粗糙度的影响。
氩气/空气辉光放电对聚乙烯薄膜的表面改性研究
利用氩气/空气混合气体辉光放电对聚乙烯(PE) 材料表面改性。
预热处理前驱体后硫化温度对Cu2ZnSnS4薄膜性能影响的研究
本文在优化过的预热处理条件的基础上研究了不同硫化温度对于制备的CZTS薄膜性能的影响。
DC-HCPCVD法低温低压下纳米金刚石膜的制备及生长特性研究
本文在CH4/H2气氛下,在低温低压下低成本生长纳米金刚石膜,研究所得纳米金刚石膜的组成结构特点,扩展直流热阴极PCVD法纳米金刚石膜制备工艺。
占空比对磁控溅射TiAlN薄膜性能影响的实验研究
采用中频孪生磁控溅射技术,通过调整薄膜沉积过程中占空比大小,制备TiAlN 薄膜。