真空镀膜

真空镀膜主要分蒸发镀膜、溅射镀膜、离子镀膜和化学气相沉积几种。真空镀膜栏目主要讲述了真空镀膜原理,真空镀膜工艺,真空镀膜设备等有关真空镀膜技术。

各种溅射镀膜方法的原理及特点
溅射镀膜有多种方式,其典型方式如本文所示,表中列出了各种溅射镀膜的特点及原理图。
倒圆锥面基底蒸发镀膜均匀性理论分析
通过计算得出了蒸发源位于倒圆锥面正下方外部镀膜时锥面上各点的膜厚方程,并对整个锥面上膜厚均匀性进行了理论分析。
FePtAg-C纳米颗粒薄膜的制备及表征
利用磁控溅射法在热氧化硅基片上成功制成了FePtAg-C颗粒薄膜(其中有MgO籽层),并利用XRD、SQUID和TEM分别表征其织构、磁性和微观形貌。
Si(111)基片上Mg2Si薄膜的脉冲激光沉积
本文采用PLD技术,在Si(111) 基片上制备Mg2Si薄膜,研究PLD工艺参数对Mg2Si薄膜制备的影响,通过工艺优化制备得到纯相、结构均匀、表面平整的Mg2Si薄膜。
NaCl结构VC薄膜生长过程中原子迁移的第一性原理研究
本文采用第一原理计算的方法研究了C和V原子在NaCl 结构VC 表面和晶体内部(111) 面上的迁移条件,并在此基础上讨论了工艺参数对薄膜生长的影响。
MgxZn1-xO薄膜的红外光谱及其表面浸润性
本文采用溶胶-凝胶法制备了不同Mg 含量MgxZn1-xO薄膜,研究了Mg 含量对MgxZn1-xO薄膜微结构和表面形貌的影响。
H2S气氛下硫化温度对Cu2ZnSnS4薄膜性能影响的研究
本文采用两步法制备CZTS薄膜。
有机溶剂对氧化铋纳米结构形貌和场发射性能的影响
为了研究有机溶剂对化学合成法中生成的氧化铋纳米材料结构及场发射性能的影响,反应过程中,分别添加三个不同剂量的有机溶剂,获得三种产物。利用扫描电镜对其结构进行分析,并进行场发射性能测试。
氧化处理TiNi合金薄膜的摩擦性能及其对滚动直线导轨滚道的防护
本文采用两种不同氧化工艺实现TiNi 薄膜的氧化处理。利用球-盘式摩擦实验机考察了干摩擦条件下表面氧化处理后TiNi 薄膜的摩擦学性能,并镀制到导轨表面,期望提高导轨的减摩耐磨性能,从而提高其传动和定位精度。
脉冲偏压对离子束辅助电弧离子镀TiN/Cu纳米复合膜结构及硬度的影响
本文采用离子束辅助电弧离子镀技术在高速钢(HSS) 基体上沉积TiN/Cu纳米复合膜,研究基体脉冲偏压幅值对TiN/Cu纳米复合膜的成分、结构及硬度的影响。
脉冲电压对HPPMS制备CrN薄膜的组织结构与力学性能的影响
本文采用HPPMS技术制备CrN硬质薄膜,重点研究电源脉冲电压对CrN薄膜的结构和性能的影响。
离子能流密度对AISI304不锈钢氮化层摩擦性能的影响
采用低温等离子体氮化技术,对AISI304不锈钢进行表面氮化处理,考察了离子能流密度对不锈钢氮化层性能的影响。
基体放置状态与脉冲偏压幅值对大颗粒形貌和分布的影响
本文通过改变基体上施加的脉冲偏压幅值、靶基面相对位置和基体的放置状态,来研究这些参数对电弧离子镀中大颗粒缺陷数目和分布的影响规律,为选择合适的靶基表面相对位置和脉冲偏压幅值,减少甚至消除大颗粒引起薄膜的光洁度质量问题和提升薄膜的性能奠定了基础。
(TiAlNb)N多组元硬质反应膜研究
采用多弧离子镀技术,通过采用Ti-Al 合金靶及Ti-Nb靶的组合方式,在高速钢基体上制备了(TiAlNb) N多组元硬质反应膜。
类金刚石碳膜高温摩擦学性能的研究进展
本文综述了近年来国内外高温工况条件下类金刚石碳膜的摩擦学性能研究成果,总结了类金刚石碳膜在高温环境下的摩擦学性能及其影响因素规律,阐述了类金刚石碳膜高温摩擦学行为的分析方法,提出了类金刚石碳膜高温摩擦学性能研究中存在的问题和未来发展的研究方向。