真空镀膜

真空镀膜主要分蒸发镀膜、溅射镀膜、离子镀膜和化学气相沉积几种。真空镀膜栏目主要讲述了真空镀膜原理,真空镀膜工艺,真空镀膜设备等有关真空镀膜技术。

Sol-gel法制备Co-Mn共掺杂ZnO粉体和红外发射率的研究
采用溶胶-凝胶法制备不同Co-Mn共掺杂浓度的ZnO前驱体,并在不同温度下对其进行煅烧。
无硫化过程磁控溅射制备Cu2ZnSnS4薄膜及其结构和光学性质研究
使用Cu2ZnSnS4(CZTS) 靶材,通过射频磁控溅射方法镀膜,不经后期硫化处理,在钠钙玻璃衬底上沉积了锌黄锡矿结构的CZTS薄膜材料。
硼硅玻璃表面沉积TiAlN/SiN薄膜的结构及性能
采用连续式磁控溅射技术在硼硅玻璃表面沉积了TiAlN/SiN复合薄膜。
溶胶-凝胶法制备柱状TiO2薄膜及其光催化性能研究
在石英基板上用溶胶-凝胶法旋涂制备单层厚度约为20 nm 的柱状晶形貌TiO2薄膜,并研究了退火温度对TiO2薄膜晶体结构、微观形貌、光催化活性能的影响规律。
PLD制备CuAlO2薄膜的结构与性能研究
本文以致密的CuAlO2陶瓷为靶材,采用脉冲激光沉积技术在蓝宝石和石英衬底上制备CuAlO2薄膜,并对样品进行退火处理,研究退火条件对薄膜结构和性能的影响。
冲击载荷作用下金属薄膜缺陷的多尺度分析
应用多尺度方法对带有表面缺陷的膜-基结构进行模拟研究,旨在多角度地揭示金属薄膜失效机理。
氢化处理对Li-W共掺杂ZnO薄膜性能的影响
本论文主要通过对比讨论了Li-W 共掺杂( LWZO) 薄膜及LWZO:H 薄膜的结晶性能、表面形貌、光学性能的影响以及分析了氢化处理对LWZO薄膜的掺杂效率的影响。
基于反应气体和生长温度的Nb掺杂TiO2薄膜相图研究
应用射频磁控溅射设备在超白玻璃和石英玻璃等非晶基体上生长Nb 掺杂TiO2薄膜。
敏感陶瓷表面溅射金属化研究
本文的目的在于通过在NTC热敏电阻表面制备溅射膜Ni /V-Ag 电极来研究NTC敏感陶瓷表面溅射金属化的可行性。
聚碳酸酯表面碳基薄膜的制备及其光学性能研究
本文采用RFPECVD技术在PC材料表面沉积DLC薄膜,研究DLC薄膜和PC基片系统的摩擦学和光学性能。
H13钢-TiAlN渗/镀复合层承载能力研究
在H13 钢离子氮化基体上沉积TiAlN 镀层,在其表面形成渗镀复合层,研究渗氮基体不同表面预处理对渗/镀复合层微观形貌及承载能力的影响。
立方氮化硼薄膜的制备及研究
本文采用过渡层技术,在硅片上先沉积三元BC-N过渡层,再沉积c-BN层,有效地降低薄膜内应力,实现了c-BN厚膜的制备。同时,本文也对薄膜的结构、成分、表面状态和纳米硬度进行了表征。
Ti6Al4V表面沉积TiCN薄膜的结构及水环境中的摩擦学性能
本文即采用多弧离子镀技术在Ti6Al4V合金表面沉积TiCN薄膜,研究了该薄膜的形貌、结构以及在干摩擦、水和海水环境条件下的摩擦学行为。
氮氧化铪薄膜力学与光学特性研究
氮氧化铪薄膜作为多元化合物,讨论N、O 不同化学计量比对其力学和光学性能影响就具有重要意义。
沉积角度对激光沉积类金刚石膜的影响
本文通过倾斜衬底而不是移动或倾斜靶材来改变激光沉积类金刚石膜的沉积角度,因此等离子体的动能和分布不受影响。