真空镀膜栏目简介

真空镀膜主要分蒸发镀膜、溅射镀膜、离子镀膜和化学气相沉积几种。真空镀膜栏目主要讲述了真空镀膜原理,真空镀膜工艺,真空镀膜设备等有关真空镀膜技术。

真空卷绕镀膜技术研究进展

本文从系统结构、参数控制和镀膜方式等综述了真空卷绕镀膜技术研究进展。

层状Cr2AlC纳米晶的合成及其摩擦学行为
本工作以Cr、Al、石墨单质为原料,通过优化混料方式( 磁力搅拌混料) ,采用无压烧结方法合成了Cr2AlC粉末,开展了Cr2 AlC 纳米材料在润滑油中摩擦学性能的研究。
不同调制周期TiAlSiN/Mo2N 层膜的微观结构、力学和摩擦性能研究
本文利用射频磁控溅射法制备一系列不同调制周期的TiAlSiN/Mo2N 薄膜,研究其微结构、力学性能和摩擦性能。
Ag超薄膜生长的动力学蒙特卡罗模拟
本论文采用二维动力学蒙特卡罗的方法模拟了Ag薄膜在Pt(111)上的生长过程,并将仿真结果与国外已报道的实验结果进行了比较,从而证明计算机仿真模型的合理性。进一步地,通过计算机模拟预测了岛形貌明显转变的温度区域。
FeCoB-Al2O3软磁颗粒膜磁特性研究
为了获得软磁颗粒膜,本实验采用了更易控制薄膜成分的射频双靶共溅射制备了一系列的( Fe40Co40B20)1 - x( Al2O3)x软磁颗粒膜。通过振动样品磁强计( VSM) 以及矢量网络分析仪( VNA) 的测量,研究了基片转速、溅射气压、以及双靶溅射功率对于软磁颗粒膜特性的影响。
Ti/TiB2多层膜在Hank’s 模拟体液中耐蚀性研究
采用磁控溅射法在医用钛合金Ti6Al4V 和硅基体上沉积了Ti /TiB2多层膜。通过X 射线衍射仪分析了薄膜的相结构,采用扫描电镜观察了薄膜的表面形貌和断面多层结构,利用电化学法研究了Ti /TiB2多层膜在Hank’s 模拟体液中的抗腐蚀性能。
ZrB2体材及薄膜制备技术研究
本研究采用冷等静压成型加高温烧结的方法制备ZrB2块材,并采用磁控溅射技术在UO2燃料芯块表面制备ZrB2膜层,为一体化可燃毒物的制备奠定基础。
新型La2Zr2O7环境障涂层的1300℃热冲击行为研究
采用化学气相沉积和原位合成工艺在Cf/SiC 基体上制备了Si/3Al2O3·2SiO2/La2Zr2O7 新型环境障涂层,研究了EBC 涂层在1300 ℃的抗热冲击性能。
小靶材实现大平面基片均匀性膜层沉积的方法
本文针对常规磁控溅射设备存在的上述问题,提出了一种新的思路,设计改造了一种新型布局的磁控溅射设备,以解决小靶材溅射在较大基底沉积均匀性膜层的难题。
稀土Dy掺杂ZnTe薄膜光学性能及其XPS研究
本文利用真空蒸发双源法制备了稀土元素Dy掺杂ZnTe薄膜,发现掺杂并没有改变薄膜的物相结构,但对薄膜的结晶、形貌及光学性质产生了明显影响,为CdTe太阳电池背接触层的进一步发展提供了实验依据。
双排全幅宽无间隔布局快速蒸发ZnS镀膜技术的研究
本文详细介绍了双排全幅宽无间隔布局快速蒸发ZnS 镀膜技术的工作原理、结构组成、性能特点和创新设计要点。分析并指出影响ZnS 镀膜质量、生产效益的主要因素和解决途径。
大尺寸ZnS真空气相沉积炉的研制
介绍了CVD ZnS 生产工艺、真空气相沉积炉技术性能、设备结构组成及特点。该真空气相沉积炉是制备大尺寸ZnS 的关键设备。
ITO 薄膜方块电阻测试方法的探讨
针对ITO 薄膜方块电阻测试方法,文章探讨了常规的四探针法与双电测四探针法在实际生产中的适应性、准确性。根据玻璃基板上的ITO 薄膜和聚脂薄膜上的ITO 薄膜的结构、物理特性不同特点,测试方块电阻时应注意的细节作出了必要的阐述。
中频磁控溅射TiAlN薄膜的制备与性能研究
本文采用中频磁控溅射法,在硬质合金YG6上制备了TiAlN薄膜, 通过XRD、SEM、EDS、体式显微镜、显微硬度仪和划痕仪分别对薄膜的相结构、表面与断口形貌、成分以及主要性能进行了测试分析。
氢化非晶硅薄膜制备及其椭圆偏振光谱测试分析
本文采用射频磁控溅射法制备了a-Si:H 薄膜,通过椭圆偏振光谱对不同气压下薄膜的厚度、折射率和消光系数进行了测试和研究。
旋转圆柱磁控溅射阴极设计和磁场强度分析计算
本文应用ANSYS 有限元方法模拟分析单旋转圆柱靶和孪生旋转圆柱磁控溅射阴极表面磁场分布规律。