真空镀膜

真空镀膜主要分蒸发镀膜、溅射镀膜、离子镀膜和化学气相沉积几种。真空镀膜栏目主要讲述了真空镀膜原理,真空镀膜工艺,真空镀膜设备等有关真空镀膜技术。

沉积参数对硅碳氧薄膜光学性能的影响研究
采用射频磁控溅射技术在K9 玻璃上制备了硅碳氧薄膜,并研究了沉积参数对硅碳氧薄膜光学性能的影响。
超纳米金刚石薄膜的性能和制备及应用
文章对超纳米金刚石与其他CVD 金刚石的性质进行了对比,对超纳米金刚石的生长机理进行了简要概述,着重分析了各种化学气相沉积技术制备超纳米金刚石的基本原理、特点及取得的研究成果,最后详细讨论了超纳米金刚石的应用和今后研究方向。
Se离子束辅助沉积CIS过程的数值分析
通过研究离子束辅助沉积与传统气相原子沉积生成CIS 薄膜的过程,从扩散均匀性角度分析,对离子束的注入深度效应进行数值计算。
溅射膜电极与氧化锌压敏陶瓷的界面机制研究
利用溅射法制备半导体陶瓷表面的电极有着广阔的产业化前景,但关于溅射膜电极与陶瓷表面的界面机制研究尚鲜有报道。本文采用磁控溅射法在ZnO压敏陶瓷表面制备了Cr+Cu电极,通过X射线光电子能谱等技术研究分析了Cr/ZnO的界面反应及界面成分。
层状Cr2AlC纳米晶的合成及其摩擦学行为
本工作以Cr、Al、石墨单质为原料,通过优化混料方式( 磁力搅拌混料) ,采用无压烧结方法合成了Cr2AlC粉末,开展了Cr2 AlC 纳米材料在润滑油中摩擦学性能的研究。
不同调制周期TiAlSiN/Mo2N 层膜的微观结构、力学和摩擦性能研究
本文利用射频磁控溅射法制备一系列不同调制周期的TiAlSiN/Mo2N 薄膜,研究其微结构、力学性能和摩擦性能。
Ag超薄膜生长的动力学蒙特卡罗模拟
本论文采用二维动力学蒙特卡罗的方法模拟了Ag薄膜在Pt(111)上的生长过程,并将仿真结果与国外已报道的实验结果进行了比较,从而证明计算机仿真模型的合理性。进一步地,通过计算机模拟预测了岛形貌明显转变的温度区域。
FeCoB-Al2O3软磁颗粒膜磁特性研究
为了获得软磁颗粒膜,本实验采用了更易控制薄膜成分的射频双靶共溅射制备了一系列的( Fe40Co40B20)1 - x( Al2O3)x软磁颗粒膜。通过振动样品磁强计( VSM) 以及矢量网络分析仪( VNA) 的测量,研究了基片转速、溅射气压、以及双靶溅射功率对于软磁颗粒膜特性的影响。
Ti/TiB2多层膜在Hank’s 模拟体液中耐蚀性研究
采用磁控溅射法在医用钛合金Ti6Al4V 和硅基体上沉积了Ti /TiB2多层膜。通过X 射线衍射仪分析了薄膜的相结构,采用扫描电镜观察了薄膜的表面形貌和断面多层结构,利用电化学法研究了Ti /TiB2多层膜在Hank’s 模拟体液中的抗腐蚀性能。
ZrB2体材及薄膜制备技术研究
本研究采用冷等静压成型加高温烧结的方法制备ZrB2块材,并采用磁控溅射技术在UO2燃料芯块表面制备ZrB2膜层,为一体化可燃毒物的制备奠定基础。
新型La2Zr2O7环境障涂层的1300℃热冲击行为研究
采用化学气相沉积和原位合成工艺在Cf/SiC 基体上制备了Si/3Al2O3·2SiO2/La2Zr2O7 新型环境障涂层,研究了EBC 涂层在1300 ℃的抗热冲击性能。
小靶材实现大平面基片均匀性膜层沉积的方法
本文针对常规磁控溅射设备存在的上述问题,提出了一种新的思路,设计改造了一种新型布局的磁控溅射设备,以解决小靶材溅射在较大基底沉积均匀性膜层的难题。
稀土Dy掺杂ZnTe薄膜光学性能及其XPS研究
本文利用真空蒸发双源法制备了稀土元素Dy掺杂ZnTe薄膜,发现掺杂并没有改变薄膜的物相结构,但对薄膜的结晶、形貌及光学性质产生了明显影响,为CdTe太阳电池背接触层的进一步发展提供了实验依据。
双排全幅宽无间隔布局快速蒸发ZnS镀膜技术的研究
本文详细介绍了双排全幅宽无间隔布局快速蒸发ZnS 镀膜技术的工作原理、结构组成、性能特点和创新设计要点。分析并指出影响ZnS 镀膜质量、生产效益的主要因素和解决途径。
大尺寸ZnS真空气相沉积炉的研制
介绍了CVD ZnS 生产工艺、真空气相沉积炉技术性能、设备结构组成及特点。该真空气相沉积炉是制备大尺寸ZnS 的关键设备。