真空镀膜栏目简介

真空镀膜主要分蒸发镀膜、溅射镀膜、离子镀膜和化学气相沉积几种。真空镀膜栏目主要讲述了真空镀膜原理,真空镀膜工艺,真空镀膜设备等有关真空镀膜技术。

真空卷绕镀膜技术研究进展

本文从系统结构、参数控制和镀膜方式等综述了真空卷绕镀膜技术研究进展。

基于氧化锡薄膜的表面传导场致发射阴极阵列的制备及性能研究
利用磁控溅射和阳光刻技术在玻璃基底上成功制备了不同厚度SnO2的表面传导场致发射阴极阵列,并测试其场致发射性能。
氧分压影响中频磁控溅射沉积SiO2薄膜光学性能研究
本文采用中频反应磁控溅射法制备SiO2 薄膜并对其性能进行了研究。对于氧分压影响薄膜结构和性能的机制进行了深入的分析。
正交电磁场离子源及其在PVD 法制备硬质涂层中的应用
本文介绍几种不同类型的正交电磁场离子源,并结合其在不同体系硬质涂层沉积过程中的应用,综述离子源的结构、工作原理;分析其产生的离子束对硬质涂层成分、结构、性能的影响。
新一代太阳能集热板真空镀膜生产线系统的开发
采用连续式太阳能集热板真空镀膜生产方式,以提高集热膜层在大气中使用的耐候性能及集热性能为目的的膜层、膜系研究和设备结构的研制,是当前太阳能集热器光谱选择性吸收膜层研究、生产和发展的主要方向。
CSNS/RCS二极陶瓷真空盒磁控溅射镀TiN薄膜研究进展
为降低陶瓷表面的二次电子发射系数(SEY),采用直流磁控溅射的方法,对二极陶瓷真空盒内壁镀氮化钛(TiN)薄膜工艺进行实验研究。
磁控溅射靶磁场的有限元模拟分析
本文应用COMSOL软件对JGP450C型磁控溅射镀膜机的圆平面靶表面磁感应强度进行了模拟分析计算,得到了靶面水平磁感应强度较强、分布较均匀的磁铁结构参数。
制备工艺对磁控溅射Mo-N薄膜微结构和性能的影响
本文采用射频磁控溅射的方法,通过改变反应环境中的Mo 靶功率、氩氮比、负偏压等制备一系列的Mo-N 薄膜,利用X 射线衍射仪、纳米压痕仪、扫描电子显微镜和摩擦磨损测试仪对其相结构、显微硬度和摩擦性能进行研究。
CO2对MPCVD制备金刚石膜的影响研究
应用微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)技术,以CH4/H2/N2为主要气源,通过添加CO2辅助气体,并与未添加CO2辅助气体进行对比,进行了金刚石膜沉积。
溅射靶材对TiAlN涂层形貌、结构和力学性能的影响
本文通过设计两种靶材,分别是粉末冶金方法和真空熔炼方法制备的原子比为Ti50Al50的合金靶材,在同一磁控溅射设备及同一溅射工艺条件下进行镀膜实验,研究不同组织结构的Ti50Al50合金靶材对TiAlN涂层的组织结构和性能的影响。
多弧离子镀TiN薄膜颜色性能的研究
本文旨在系统研究大颗粒、氮气流量与靶电流对膜层色泽的影响及其变化规律,为采用多弧离子镀制备氮化钛仿金装饰膜及优化膜层色泽提供依据。
阴极弧离子镀制备AlCrN涂层的高温摩擦磨损行为
本文采用阴极弧离子镀法在TiC金属陶瓷刀具表面制备了AlCrN涂层,分析其在900℃高温下摩擦磨损行为,为超大型齿圈高效切削加工提供技术参考。
沉积参数对硅碳氧薄膜光学性能的影响研究
采用射频磁控溅射技术在K9 玻璃上制备了硅碳氧薄膜,并研究了沉积参数对硅碳氧薄膜光学性能的影响。
超纳米金刚石薄膜的性能和制备及应用
文章对超纳米金刚石与其他CVD 金刚石的性质进行了对比,对超纳米金刚石的生长机理进行了简要概述,着重分析了各种化学气相沉积技术制备超纳米金刚石的基本原理、特点及取得的研究成果,最后详细讨论了超纳米金刚石的应用和今后研究方向。
Se离子束辅助沉积CIS过程的数值分析
通过研究离子束辅助沉积与传统气相原子沉积生成CIS 薄膜的过程,从扩散均匀性角度分析,对离子束的注入深度效应进行数值计算。
溅射膜电极与氧化锌压敏陶瓷的界面机制研究
利用溅射法制备半导体陶瓷表面的电极有着广阔的产业化前景,但关于溅射膜电极与陶瓷表面的界面机制研究尚鲜有报道。本文采用磁控溅射法在ZnO压敏陶瓷表面制备了Cr+Cu电极,通过X射线光电子能谱等技术研究分析了Cr/ZnO的界面反应及界面成分。