真空镀膜

真空镀膜主要分蒸发镀膜、溅射镀膜、离子镀膜和化学气相沉积几种。真空镀膜栏目主要讲述了真空镀膜原理,真空镀膜工艺,真空镀膜设备等有关真空镀膜技术。

MgO/Au复合薄膜的反应射频磁控溅射法制备及表面形貌研究
本文采用反应射频磁控溅射法制备MgO/Au复合薄膜,比较了Mg靶和Au靶共溅射、分步溅射制备复合薄膜的表面成分及形貌,研究了溅射时衬底温度和Ar/O2气体流量比对薄膜晶粒分布、晶粒尺寸和结晶取向的影响。
NiFeNb缓冲层和NiO插层对坡莫合金薄膜各向异性磁电阻的影响
为了研制出高精度的地磁导航系统,必须开发出对弱磁场及方位都敏感的磁性材料-坡莫合金薄膜。
航空透明件导电膜用纳米耐磨保护涂层研究
本文以紫外光固化树脂为有机相,采用溶胶- 凝胶法制备出纳米SiO2为无机相,研制出与有机玻璃飞机透明件导电膜匹配的耐磨保护涂层。
钢铁基体沉积金刚石膜的研究进展
本文对不同成分和组织钢铁基体化学气相沉积金刚石膜的影响因素进行了分析,综述了钢铁表面化学气相沉积金刚石膜的国内外研究现状,指出了今后钢铁上沉积金刚石膜的发展方向。
基于氧化锡薄膜的表面传导场致发射阴极阵列的制备及性能研究
利用磁控溅射和阳光刻技术在玻璃基底上成功制备了不同厚度SnO2的表面传导场致发射阴极阵列,并测试其场致发射性能。
氧分压影响中频磁控溅射沉积SiO2薄膜光学性能研究
本文采用中频反应磁控溅射法制备SiO2 薄膜并对其性能进行了研究。对于氧分压影响薄膜结构和性能的机制进行了深入的分析。
正交电磁场离子源及其在PVD 法制备硬质涂层中的应用
本文介绍几种不同类型的正交电磁场离子源,并结合其在不同体系硬质涂层沉积过程中的应用,综述离子源的结构、工作原理;分析其产生的离子束对硬质涂层成分、结构、性能的影响。
新一代太阳能集热板真空镀膜生产线系统的开发
采用连续式太阳能集热板真空镀膜生产方式,以提高集热膜层在大气中使用的耐候性能及集热性能为目的的膜层、膜系研究和设备结构的研制,是当前太阳能集热器光谱选择性吸收膜层研究、生产和发展的主要方向。
CSNS/RCS二极陶瓷真空盒磁控溅射镀TiN薄膜研究进展
为降低陶瓷表面的二次电子发射系数(SEY),采用直流磁控溅射的方法,对二极陶瓷真空盒内壁镀氮化钛(TiN)薄膜工艺进行实验研究。
磁控溅射靶磁场的有限元模拟分析
本文应用COMSOL软件对JGP450C型磁控溅射镀膜机的圆平面靶表面磁感应强度进行了模拟分析计算,得到了靶面水平磁感应强度较强、分布较均匀的磁铁结构参数。
制备工艺对磁控溅射Mo-N薄膜微结构和性能的影响
本文采用射频磁控溅射的方法,通过改变反应环境中的Mo 靶功率、氩氮比、负偏压等制备一系列的Mo-N 薄膜,利用X 射线衍射仪、纳米压痕仪、扫描电子显微镜和摩擦磨损测试仪对其相结构、显微硬度和摩擦性能进行研究。
CO2对MPCVD制备金刚石膜的影响研究
应用微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)技术,以CH4/H2/N2为主要气源,通过添加CO2辅助气体,并与未添加CO2辅助气体进行对比,进行了金刚石膜沉积。
溅射靶材对TiAlN涂层形貌、结构和力学性能的影响
本文通过设计两种靶材,分别是粉末冶金方法和真空熔炼方法制备的原子比为Ti50Al50的合金靶材,在同一磁控溅射设备及同一溅射工艺条件下进行镀膜实验,研究不同组织结构的Ti50Al50合金靶材对TiAlN涂层的组织结构和性能的影响。
多弧离子镀TiN薄膜颜色性能的研究
本文旨在系统研究大颗粒、氮气流量与靶电流对膜层色泽的影响及其变化规律,为采用多弧离子镀制备氮化钛仿金装饰膜及优化膜层色泽提供依据。
阴极弧离子镀制备AlCrN涂层的高温摩擦磨损行为
本文采用阴极弧离子镀法在TiC金属陶瓷刀具表面制备了AlCrN涂层,分析其在900℃高温下摩擦磨损行为,为超大型齿圈高效切削加工提供技术参考。