真空镀膜栏目简介

真空镀膜主要分蒸发镀膜、溅射镀膜、离子镀膜和化学气相沉积几种。真空镀膜栏目主要讲述了真空镀膜原理,真空镀膜工艺,真空镀膜设备等有关真空镀膜技术。

真空卷绕镀膜技术研究进展

本文从系统结构、参数控制和镀膜方式等综述了真空卷绕镀膜技术研究进展。

微晶硅薄膜材料的沉积以及微结构与光电特性的研究
本文采用RF-PECVD技术,在较高的射频功率和沉积气压条件下,通过改变硅烷浓度和衬底温度等参数,制备微晶硅薄膜材料。研究了沉积参数对微晶硅薄膜材料的微结构以及光电特性的影响,并研究了它们光电特性及其相关性。
等离子体增强原子层沉积系统及其应用研究
关于ALD技术和工艺的研究已经较为深入,关于PEALD技术和应用的研究也越来越受到研究者的关注。为了深入研究PEALD的关键技术和工艺条件,作者设计了一套远程脉冲PEALD系统,并首次探索了其在原位沉积氮掺杂纳米TiO2可见光催化剂的应用。
直流热阴极PCVD法间歇生长模式制备透明金刚石膜
采用直流热阴极PCVD技术,进行了甲烷和氢气条件下加入氮气制备透明金刚石膜的研究,主要是通过设置刻蚀步骤,改变温度和时间参数,在间歇生长模式下使氢和氮原子共同作用,实现对非金刚石成份的刻蚀和金刚石的择优取向生长,来制备透明金刚石膜。
影响真空溅射用射频电源特性因素的研究
本文主要研究了射频电源的功率转换效率和频率稳定性的影响因素,分析了E 类功率放大器的工作特性,推演了最大输出功率;设计了射频电源驱动级电路,并对其进行了实验测试。
氧掺杂对磁控溅射ZAO薄膜性能的影响
本文使用可进行较大面积镀膜的溅射镀膜线对玻璃基片进行ZAO薄膜的制备,研究氧掺杂对ZAO薄膜性能的影响,验证其对于实际生产的应用价值。
外延BiFe0.95Mn0.05O3薄膜的结构和性能研究
本文选择用5%的Mn离子代替BiFeO3中的Fe离子,用磁控溅射的方法在SrTiO3单晶基片上外延生长了BiFe0.95Mn0.05O3薄膜,探索制备外延薄膜的最佳工艺条件,分析沉积温度对薄膜结构和电学性能的影响。
钴基高温合金铝化物涂层的高温氧化行为研究
本文在DZ40M 合金基体上采用化学气相沉积技术制备铝化物涂层,研究该涂层的高温氧化行为。
蒸发源位于半球面正下方膜厚分布理论研究
对蒸发源位于非平面基底-半球面正下方时膜厚均匀性进行了理论研究。
真空镀铝技术在反光布上的应用
本文针对真空镀铝机在反光布上的应用做一个简单的综述和实践探索。
膜层的光学薄膜参数测量方法研究
简述了研究膜层光学薄膜参数测量方法的必要性。详细介绍了各种测量方法的理论思想、测量准确度、测量范围。综合比较了各种测量方法的优缺点和适用性,研究了测量不同类型薄膜系统膜层光学薄膜参数的最佳测量方法。最后总结了膜层光学薄膜参数测量方法的发展,并提出了建
衬底对CVD生长石墨烯的影响研究
基于石墨烯的生长机理,从衬底材料的角度,综述了近几年衬底对CVD生长石墨烯的影响的研究进展。展望了衬底选择的发展新趋势。
冷水机在真空镀膜工艺中的作用
冷水机能控制真空镀膜机的温度,以保证镀件的高质量。冷水机在真空镀膜工艺中的作用是非常重要的。
磁控溅射纳米复合涂层性能研究
本文通过双靶反应磁控溅射的方法制备得到了一系列Cu含量不同的A-lCu-N涂层,将Cu含量最高扩展到了17.0%。
氧化镍薄膜阻变特性研究进展
本文从器件结构、开关机理及掺杂等方面对近年来NiO薄膜阻变特性研究进行了综述与分析,并对阻变存储未来发展趋势及面临的挑战进行了展望。
平面磁控溅射靶磁场的模拟优化设计
本文根据磁控溅射靶的特点,基于ANSYS软件模拟了二维磁控溅射靶磁场的分布,提出一种采用两磁导片结构来改善磁控溅射靶面水平磁场分布的方法。