真空镀膜

真空镀膜主要分蒸发镀膜、溅射镀膜、离子镀膜和化学气相沉积几种。真空镀膜栏目主要讲述了真空镀膜原理,真空镀膜工艺,真空镀膜设备等有关真空镀膜技术。

DC-HCPCVD法高CH4流量下纳米金刚石膜的制备及生长特性研究
本文在CH4/H2气氛下,在高CH4流量(8sccm~12sccm)下制备纳米金刚石膜,研究所得纳米金刚石膜的形貌与结构,扩展直流热阴极PCVD法纳米金刚石膜制备工艺。
双靶共溅射TiAl系高温耐磨薄膜制备与研究
本实验采用纯金属铝和钛作为双靶,通过改变基体相对于靶材的溅射位置,在同一次溅射过程中,制备了一系列大范围成份变化的Ti-Al系金属间化合物薄膜。
金属/多晶锗硅肖特基接触特性的影响因素研究
本文研究了几种金属在多晶锗硅薄膜上的肖特基接触特性。
Cr层厚度对Pd/Cr/Co多层膜光学性质的影响
本文对Pd/Cr/Co多层膜的光学常数进行了测量,并研究了Cr插层的厚度对多层膜光学性质的影响。
EB-PVD在热障涂层中的研究及应用
本文介绍了EB-PVD技术在制备热障涂层时优势、不足与改进措施。
高功率脉冲磁控溅射制备TiNx涂层研究
本文利用高功率复合脉冲技术制备TiNx涂层,电源能量输出采用直流与脉冲叠加形式,主要研究氮气流量对膜层性能的影响,并与直流磁控溅射沉积涂层进行对比研究。
铜铟镓硒薄膜太阳电池的研究进展
综述了国内外铜铟镓硒(CIGS)薄膜太阳电池的研究现状。
磁控溅射AlN/Cu纳米复合涂层的性能研究
本文通过双靶反应磁控溅射的方法制备得到了一系列Cu含量不同的A-lCu-N涂层,将Cu含量最高扩展到了17.0%。
工作压强对辉光放电聚合物薄膜化学结构与表面形貌的影响
本文研究了工作压强对GDP薄膜表面形貌与化学结构的影响。利用功率谱密度(PSD)曲线对薄膜表面形貌进行全频谱分析,计算了与薄膜形貌生长相关的参数。
低气压射频空心阴极放电氩等离子体发射光谱分析
本文以射频空心阴极放电等离子体为研究对象, 重点研究低于10Pa气压的放电工艺参数对于发射光谱的影响规律。
电子回旋共振等离子体辅助原子层沉积金属铝薄膜的研究
本文在电子回旋共振等离子体辅助下,以三甲基铝为铝源,氢气为还原剂,通过将它们交替通入反应腔内,成功制备了金属铝薄膜,研究沉积参数对Al薄膜的性能和结构成分的影响。
基体偏压对高功率脉冲磁控溅射制备类石墨碳膜的影响研究
采用高功率脉冲磁控溅射技术于Si基底表面制备了类石墨碳膜, 研究了基体偏压对薄膜沉积速率、微观结构、力学性能及摩擦学性能的影响规律。
衬底温度对ZnO:Al薄膜热电性能影响的研究
本文采用AZO陶瓷靶,用直流磁控溅射的方法在不同温度的玻璃衬底上生长AZO薄膜,通过对所制备薄膜进行微结构、热电性能的检测和分析,研究衬底温度对所制备的AZO薄膜热电特性影响的变化规律。
掺杂对ZnO溶胶凝胶薄膜光电特性影响的研究进展
ZnO作为一种重要半导体材料,在光电领域具有广泛应用前景。本文从第一性原理理论计算和实验方面综述了掺杂对ZnO薄膜光电特性的影响。