含氢类金刚石薄膜的制备及其光学常数研究

来源:真空技术网(www.chvacuum.com)西安工业大学陕西省薄膜技术与光学检测重点实验室 作者:张艳茹

含氢类金刚石薄膜的制备及其光学常数研究

张艳茹 杭凌侠 惠迎雪 潘永强

(西安工业大学陕西省薄膜技术与光学检测重点实验室 西安 710032)

  摘要:利用非平衡磁控溅射技术制备类金刚石薄膜时,在放电气体中引入含-CH3 原子团的甲烷气体,即采用反应磁控溅射技术得到含氢DLC 薄膜,实验系统如图1 所示。对反应气体流量进行工艺优化后,薄膜沉积速率可提高到3.8 nm/min;氢元素的加入使得折射率、消光系数降低,其中消光系数的变化比较明显,减小一个数量级,详见图2;在1064 nm 处,采用典型制备工艺参数,含氢DLC 薄膜复折射率可到达1.7032~i0.0041,根据CH4气体流量的不同,复折射率小范围上下变动;相同厚度的DLC 薄膜,在3-5mm波段,反应气体的加入使得峰值透过率增高15%。

  关键词:反应磁控溅射 含氢类金刚石薄膜 光学常数 透过率

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