真空镀膜

真空镀膜主要分蒸发镀膜、溅射镀膜、离子镀膜和化学气相沉积几种。真空镀膜栏目主要讲述了真空镀膜原理,真空镀膜工艺,真空镀膜设备等有关真空镀膜技术。

真空蒸发制备CdSexTe1-x薄膜及其性能研究
按不同比例混合CdTe和CdSe两种化合物,利用真空蒸发法在玻璃衬底上制备了CdSexTe1-x三元化合物薄膜,分别利用XRD、SEM、EDX、XPS、紫外-可见分光光度计对薄膜的物相结构、表面形貌、元素组成以及光学性能进行了测试。
电子回旋共振波射频溅射系统设计
本文以ECWR技术为背景,介绍了一种电子回旋共振波射频溅射镀膜系统的设计。
复杂工件表面磁控溅射镀膜均一化控制的研究
介绍了复杂型腔工件表面薄膜涂覆机理与技术特点。
基于PLC的磁控溅射温度控制系统设计
本文以西门子S7-300可编程控制器(PLC)为控制核心,通过触摸屏构成人机交换界面(HMI),论述了磁控溅射温度控制系统的性能特征与控制方法。
大颗粒缺陷在电弧离子镀所制备薄膜中的分布状态研究
针对电弧离子镀制备薄膜产生的大颗粒问题,本文主要研究了大颗粒在薄膜中的分布状态。
HMX颗粒的气相沉积包覆研究
本文通过真空气相沉积技术,在HMX炸药颗粒表面成功包覆了石蜡和paralene膜,并且在膜较薄情况下实现了包覆度100%。测试了HMX气相包覆颗粒的机械感度和静电火花感度。
有机器件中低温低损伤磁控溅射沉积透明导电薄膜技术的研究进展
索出一种低温低损伤高速沉积性能优异透明导电薄膜的制备技术,是提高有机光电器件性能的关键。
铝诱导晶化低温制备多晶硅薄膜的机理研究
本文根据热力学第二定律的Gibbs自由能描述,理论研究了AIC制备多晶硅薄膜的ALILE机理,同时结合理论研究和实验结果理论计算了AIC制备多晶硅薄膜的激活能。
W含量对CrSiWN薄膜微观结构、力学及摩擦性能的影响
采用射频磁控溅射制备不同W含量的CrSiWN薄膜。利用X射线衍射、扫描电镜、能量散射谱、纳米压痕仪和摩擦磨损实验机对薄膜的相结构、形貌、成分和摩擦性能进行分析。
ZnO插层对超薄坡莫合金薄膜各向异性磁电阻的影响
本实验以ZnO作为Ta(4nm)/Ni81Fe19(20nm)/Ta(3nm)薄膜中Ta层和Ni81Fe19层界面处的纳米氧化层,研究氧化层ZnO的插入对坡莫合金薄膜AMR的影响。
铀上激光辅助化学气相沉积铝薄膜研究
为了防止金属铀的腐蚀,本文采用激光辅助化学气相沉积在铀上制备了铝薄膜。
镀膜技术对金属薄膜性能与制备氢化物薄膜的影响
分析了热蒸发、溅射和脉冲激光沉积三种镀膜技术镀金属薄膜的性能特点。根据文献报道数据,研究了三种镀膜技术镀金属薄膜的成膜机理、晶格参数、膜力学性能的差别。