真空镀膜栏目简介

真空镀膜主要分蒸发镀膜、溅射镀膜、离子镀膜和化学气相沉积几种。真空镀膜栏目主要讲述了真空镀膜原理,真空镀膜工艺,真空镀膜设备等有关真空镀膜技术。

真空卷绕镀膜技术研究进展

本文从系统结构、参数控制和镀膜方式等综述了真空卷绕镀膜技术研究进展。

基于PLC的磁控溅射温度控制系统设计
本文以西门子S7-300可编程控制器(PLC)为控制核心,通过触摸屏构成人机交换界面(HMI),论述了磁控溅射温度控制系统的性能特征与控制方法。
大颗粒缺陷在电弧离子镀所制备薄膜中的分布状态研究
针对电弧离子镀制备薄膜产生的大颗粒问题,本文主要研究了大颗粒在薄膜中的分布状态。
HMX颗粒的气相沉积包覆研究
本文通过真空气相沉积技术,在HMX炸药颗粒表面成功包覆了石蜡和paralene膜,并且在膜较薄情况下实现了包覆度100%。测试了HMX气相包覆颗粒的机械感度和静电火花感度。
有机器件中低温低损伤磁控溅射沉积透明导电薄膜技术的研究进展
索出一种低温低损伤高速沉积性能优异透明导电薄膜的制备技术,是提高有机光电器件性能的关键。
铝诱导晶化低温制备多晶硅薄膜的机理研究
本文根据热力学第二定律的Gibbs自由能描述,理论研究了AIC制备多晶硅薄膜的ALILE机理,同时结合理论研究和实验结果理论计算了AIC制备多晶硅薄膜的激活能。
W含量对CrSiWN薄膜微观结构、力学及摩擦性能的影响
采用射频磁控溅射制备不同W含量的CrSiWN薄膜。利用X射线衍射、扫描电镜、能量散射谱、纳米压痕仪和摩擦磨损实验机对薄膜的相结构、形貌、成分和摩擦性能进行分析。
ZnO插层对超薄坡莫合金薄膜各向异性磁电阻的影响
本实验以ZnO作为Ta(4nm)/Ni81Fe19(20nm)/Ta(3nm)薄膜中Ta层和Ni81Fe19层界面处的纳米氧化层,研究氧化层ZnO的插入对坡莫合金薄膜AMR的影响。
铀上激光辅助化学气相沉积铝薄膜研究
为了防止金属铀的腐蚀,本文采用激光辅助化学气相沉积在铀上制备了铝薄膜。
镀膜技术对金属薄膜性能与制备氢化物薄膜的影响
分析了热蒸发、溅射和脉冲激光沉积三种镀膜技术镀金属薄膜的性能特点。根据文献报道数据,研究了三种镀膜技术镀金属薄膜的成膜机理、晶格参数、膜力学性能的差别。
真空蒸镀锗掺杂多晶硅薄膜的研究
用扫描电子显微镜(KYKY-1000B)和显微激光拉曼光谱仪(JY Labram HR 800)分析研究了不同掺杂分数的锗成分对掺锗多晶硅薄膜的表面形貌、组织结构及薄膜晶化率的影响。
铝掺杂及温度对氧化锌薄膜发光特性的影响
本文中采用水热法制备了掺铝氧化锌(AZO)纳米结构薄膜,使用X射线衍射(XRD)、扫描电镜(SEM)和变温光致发光谱技术测试了薄膜的微结构和在低温下的光致发光特性,并分析了铝掺杂和温度变化对氧化锌光致发光谱的影响。
一种窄带导模共振负滤光片的设计
由于弱调制光栅可以等效为平面波导, 本文从平面波导的本征方程出发, 导出垂直入射时弱调制光栅共振位置的表达式。
新型双通道日夜滤光片的设计与镀制
红外相机和监控系统在日夜成像时使用日夜滤光片代替红外截止滤光片, 以保证白天成像无色差, 同时晚上能成黑白像。