真空镀膜

真空镀膜主要分蒸发镀膜、溅射镀膜、离子镀膜和化学气相沉积几种。真空镀膜栏目主要讲述了真空镀膜原理,真空镀膜工艺,真空镀膜设备等有关真空镀膜技术。

真空蒸镀锗掺杂多晶硅薄膜的研究
用扫描电子显微镜(KYKY-1000B)和显微激光拉曼光谱仪(JY Labram HR 800)分析研究了不同掺杂分数的锗成分对掺锗多晶硅薄膜的表面形貌、组织结构及薄膜晶化率的影响。
铝掺杂及温度对氧化锌薄膜发光特性的影响
本文中采用水热法制备了掺铝氧化锌(AZO)纳米结构薄膜,使用X射线衍射(XRD)、扫描电镜(SEM)和变温光致发光谱技术测试了薄膜的微结构和在低温下的光致发光特性,并分析了铝掺杂和温度变化对氧化锌光致发光谱的影响。
一种窄带导模共振负滤光片的设计
由于弱调制光栅可以等效为平面波导, 本文从平面波导的本征方程出发, 导出垂直入射时弱调制光栅共振位置的表达式。
新型双通道日夜滤光片的设计与镀制
红外相机和监控系统在日夜成像时使用日夜滤光片代替红外截止滤光片, 以保证白天成像无色差, 同时晚上能成黑白像。
光谱拟合法确定一种钙钛矿结构薄膜材料的复数光学常数
为了获得一种钙钛矿结构镧锶锰氧薄膜材料的复数光学常数, 利用光学薄膜原理和数学优化方法,对磁控溅射技术制备的不同厚度的镧锶锰氧薄膜。
SrHfON高k栅介质薄膜的漏电特性研究
采用射频反应磁控溅射法在p-Si(100) 衬底上成功制备出SrHfON高k栅介质薄膜, 并研究了Au/SrHfON/Si MOS 电容的漏电流机制及应力感应漏电流(SILC)效应。
航天器柔性热控薄膜研究现状
环境至关重要。本文针对空间热控技术发展要求, 综述了国内外柔性热控薄膜材料的技术指标以及应用现状。
真空环境中多场耦合对Au/Cu/Si薄膜界面结构的影响
采用磁控溅射方法在Si基底上制备了Au/Cu薄膜。利用扫描俄歇微探针纳米化分析技术进行表面成分分析与深度剖析, 研究在真空环境中, 紫外辐照、微氧氧含量及处理温度等因素作用对Au/ Cu薄膜界面结构的影响。
电致变色薄膜器件在空间中的应用前景
电致变色薄膜器件的光学性质可以随外加电场而发生可逆的变化, 利用这种性质, 电致变色薄膜器件可以广泛应用于建筑、汽车、航天等领域, 在节能、热控等方面发挥作用。
不同衬底温度下生长的Bi1.5Zn1.0Nb1.5O7.0薄膜的XPS 研究
采用固相反应法合成具有焦绿石立方结构的Bi1.5Zn1.0Nb1.5O7(BZN) 陶瓷靶材, 采用脉冲激光沉积法在Pt/TiO2/SiO2/Si(100) 基片制备立方BZN 薄膜, 衬底温度在500~ 700℃范围内变化。
前驱膜叠层及硒化升温方式对铜铟镓硒薄膜性能的影响
以钠钙玻璃为衬底, 利用两靶磁控溅射的方法, 选择不同的叠层方式制备铜铟镓前驱膜。
硒掺杂对NbS2形貌的影响及其摩擦学性能研究
通过固相合成NbS2及Se掺杂NbS2,采用X 射线衍射、扫描电镜、能量色散谱分别分析了样品中的相成分、微观形貌和元素成分。
化学水浴法制备In2S3薄膜的组织和性能研究
采用化学水浴法在InCl3.4H2O 和CH3CSNH2 的酸性混合溶液体系中制备In2S3薄膜,并研究不同工艺下制备In2S3薄膜的晶相结构、表面形貌及光学性能。
ICP-CVD制备a-CHON及光学性能分析
采用外置电感耦合等离子体化学气相沉积法, 以高纯CH4/N2/ CO2/H2作为反应气体, 制备出非晶的a-CHON薄膜。研究了放电功率对薄膜沉积速率、表面形貌及光学性能的影响。
双波段3.0~5. 0μm 和7. 0~10. 0μm宽带增透膜的研究
为了增加红外窗口的透射率,研制了硫化锌基底上的双波段宽带增透膜。膜系设计采用硫化锌和氟化钇分别作为高、低折射率材料的多层膜结构。