真空镀膜栏目简介

真空镀膜主要分蒸发镀膜、溅射镀膜、离子镀膜和化学气相沉积几种。真空镀膜栏目主要讲述了真空镀膜原理,真空镀膜工艺,真空镀膜设备等有关真空镀膜技术。

真空卷绕镀膜技术研究进展

本文从系统结构、参数控制和镀膜方式等综述了真空卷绕镀膜技术研究进展。

光谱拟合法确定一种钙钛矿结构薄膜材料的复数光学常数
为了获得一种钙钛矿结构镧锶锰氧薄膜材料的复数光学常数, 利用光学薄膜原理和数学优化方法,对磁控溅射技术制备的不同厚度的镧锶锰氧薄膜。
SrHfON高k栅介质薄膜的漏电特性研究
采用射频反应磁控溅射法在p-Si(100) 衬底上成功制备出SrHfON高k栅介质薄膜, 并研究了Au/SrHfON/Si MOS 电容的漏电流机制及应力感应漏电流(SILC)效应。
航天器柔性热控薄膜研究现状
环境至关重要。本文针对空间热控技术发展要求, 综述了国内外柔性热控薄膜材料的技术指标以及应用现状。
真空环境中多场耦合对Au/Cu/Si薄膜界面结构的影响
采用磁控溅射方法在Si基底上制备了Au/Cu薄膜。利用扫描俄歇微探针纳米化分析技术进行表面成分分析与深度剖析, 研究在真空环境中, 紫外辐照、微氧氧含量及处理温度等因素作用对Au/ Cu薄膜界面结构的影响。
电致变色薄膜器件在空间中的应用前景
电致变色薄膜器件的光学性质可以随外加电场而发生可逆的变化, 利用这种性质, 电致变色薄膜器件可以广泛应用于建筑、汽车、航天等领域, 在节能、热控等方面发挥作用。
不同衬底温度下生长的Bi1.5Zn1.0Nb1.5O7.0薄膜的XPS 研究
采用固相反应法合成具有焦绿石立方结构的Bi1.5Zn1.0Nb1.5O7(BZN) 陶瓷靶材, 采用脉冲激光沉积法在Pt/TiO2/SiO2/Si(100) 基片制备立方BZN 薄膜, 衬底温度在500~ 700℃范围内变化。
前驱膜叠层及硒化升温方式对铜铟镓硒薄膜性能的影响
以钠钙玻璃为衬底, 利用两靶磁控溅射的方法, 选择不同的叠层方式制备铜铟镓前驱膜。
硒掺杂对NbS2形貌的影响及其摩擦学性能研究
通过固相合成NbS2及Se掺杂NbS2,采用X 射线衍射、扫描电镜、能量色散谱分别分析了样品中的相成分、微观形貌和元素成分。
化学水浴法制备In2S3薄膜的组织和性能研究
采用化学水浴法在InCl3.4H2O 和CH3CSNH2 的酸性混合溶液体系中制备In2S3薄膜,并研究不同工艺下制备In2S3薄膜的晶相结构、表面形貌及光学性能。
ICP-CVD制备a-CHON及光学性能分析
采用外置电感耦合等离子体化学气相沉积法, 以高纯CH4/N2/ CO2/H2作为反应气体, 制备出非晶的a-CHON薄膜。研究了放电功率对薄膜沉积速率、表面形貌及光学性能的影响。
双波段3.0~5. 0μm 和7. 0~10. 0μm宽带增透膜的研究
为了增加红外窗口的透射率,研制了硫化锌基底上的双波段宽带增透膜。膜系设计采用硫化锌和氟化钇分别作为高、低折射率材料的多层膜结构。
多孔阳极氧化铝有序阵列表面润湿机制的研究
基于二次阳极氧化法制备的多孔阳极氧化铝(AAO)有序阵列薄膜,研究了二次蒸馏水和1,2-二氯乙烷两种液体在该结构化、化学异质表面的润湿特性。
多孔Cr-TiO2/P3HT异质结薄膜的制备及光伏特性研究
采用溶胶-凝胶法,利用聚乙二醇2000(PEG 2000),成制备了多孔Cr掺杂TiO2(Cr-TiO2)纳米薄膜,并实现了PEG 2000 含量对Cr-TiO2薄膜多孔结构及其光透射特性的有效调制。
形核密度对金刚石薄膜表面形貌及其质量的影响
在2kW 微波等离子体化学气相沉积(MPCVD) 装置中,采用CH4和H2作气源,在最佳生长工艺参数条件下,可重复制备出高质量的金刚石薄膜。
光学级CVD金刚石膜的研究进展与应用
首先介绍了光学级CVD金刚石厚膜和薄膜的制备,随后指出了国内外光学级CVD金刚石膜的研究进展,最后进行了光学级CVD金刚石膜的前景展望。