真空镀膜

真空镀膜主要分蒸发镀膜、溅射镀膜、离子镀膜和化学气相沉积几种。真空镀膜栏目主要讲述了真空镀膜原理,真空镀膜工艺,真空镀膜设备等有关真空镀膜技术。

可调脉冲功率(MPP)磁控溅射电源研制及放电特性的研究
可调脉冲电源MPP(modulated pulsed power)磁控溅射技术是一种新型的高功率磁控溅射技术。
新型弧光辉光协同共放电(APSCD)真空镀膜机的研制
本文阐述了新型的弧光辉光协同共放电真空镀膜机的设计思想及应用,叙述了镀膜机的整体结构、圆柱靶的设计和磁场模拟、工件篮的结构和辉光弧光共放电的原理。
直流磁控溅射中磁场强度和阴极电压对圆平面靶刻蚀形貌的影响
本文借助Comsol和Matlab软件模拟了直流磁控溅射圆平面靶系统的磁场分布和荷电粒子分布,对不同磁场强度和阴极电压条件下的荷电粒子分布进行了模拟分析。
工作气压对室温磁控溅射CIGS膜的影响
研究了工作气压对磁控溅射法制备CIGS薄膜的影响, 采用X 射线衍射, 扫描电镜, X 射线萤光光谱和X 射线能量色散谱分析了膜层的组织和成分。
氮气流量对电弧离子镀CrN薄膜组织结构和性能的影响
利用电弧离子镀技术在高速钢基体上于不同氮气流量条件下制备CrN薄膜样品,分析了薄膜的硬度、弹性模量、厚度、表面形貌和物相结构。
太阳能选择性吸收薄膜研究进展及展望
本文从太阳能选择性吸收薄膜的原理出发,对材料选择、吸收机理以及制备方法等方面进行了介绍,对限制太阳能选择性吸收薄膜性能的主要因素进行了分析。
太阳能选择性吸收薄膜的国内外发展现状
对太阳能选择性吸收薄膜的国内外发展现状进行了论述。
太阳能选择性吸收薄膜常用制备方法
太阳能选择性吸收薄膜常用的制备方法主要有化学镀、电化学沉积法( 电镀和阳极氧化法)、化学转换着色法、溶胶凝胶法、刷涂法、高频磁控溅射法、气相沉积法及等离子喷涂法等。
太阳能选择性吸收薄膜材料选择与吸收机理
金属、金属氧化物、金属硫化物和半导体等成为制备太阳能选择性薄膜的主要材质,形成了很多种类型的综合应用为主要类型的多种太阳能选择性薄膜。
太阳能选择性吸收薄膜的基本原理
物体的温度不同,在相同的波长下,吸收比也不等于发射率;不同的波长,物体的吸收比与发射率也不相等,这就是太阳能选择性吸收薄膜的最基本的理论依据。
射频磁控溅射沉积Al/Al2O3纳米多层膜的结构及性能
运用射频磁控溅射技术在Si(100) 基片及40Cr钢基体上制备了调制周期K= 60nm, 调制比G= 0.25~3的Al/A12O3纳米多层膜。
磁传动式浮球液位计的设计及其在VPI中的应用
本文介绍了磁传动式浮球液位计的设计结构、原理、性能及其在VPI中的应用。
基片温度对脉冲激光沉积CNx薄膜的组织结构和摩擦学性能的影响
采用脉冲激光烧蚀氮化碳薄膜靶,在室温至450℃基片温度下制备了CNx薄膜。利用扫描电镜、X射线衍射仪、X射线光电子谱仪和拉曼光谱仪等对薄膜的形貌、结晶性和结合键状态进行了表征。
ZnSe光学薄膜对GaAs表面特性的影响
用GaAs衬底表面模拟半导体激光器的解理腔面, 研究了不同的光学薄膜对GaAs表面特性的影响。
常用的几种塑料真空镀膜材料
常用的几种塑料真空镀膜材料有:ABS塑料、聚酯、聚乙烯、聚氯乙烯等。