真空镀膜

真空镀膜主要分蒸发镀膜、溅射镀膜、离子镀膜和化学气相沉积几种。真空镀膜栏目主要讲述了真空镀膜原理,真空镀膜工艺,真空镀膜设备等有关真空镀膜技术。

如何挑选真空镀膜的塑料材料
什么样的塑料才能用真空镀膜机镀膜呢,本文归纳了三种真空镀膜的塑料材料。
电子产品溅射镀膜使用的靶材
电子产品溅射镀膜使用的靶材通常有三种类型:金属靶材、合金靶材、化合物靶材。
磁控溅射镀膜不均匀的成因
造成磁控溅射镀膜不均匀的原因有很多,但把握好真空镀膜机的正确操作,那么镀膜成功的概率就会高很多。
真空制镜机功能的开发
用制镜机作装饰镀的关键是镀件在真空室体中的安装和相应的蒸发源的布置。总结了不同类型镀件的安装与蒸发源的布置方法。
工况参数对类金刚石膜摩擦学性能的影响
采用非平衡磁控溅射技术在高速钢基体上以C2H2为反应气源制备了含氢类金刚石(DLC)膜。
电弧离子镀的旋转横向磁场弧源设计
本文提出了电弧离子镀工艺一种新的旋转横向磁场的设计思路, 通过频率和强度可调且覆盖整个靶面的旋转横向磁场控制弧斑的运动。
压电陶瓷阀特性在反应溅射AlN参数设置中的应用
本文主要讲述了压电陶瓷阀特性在反应溅射AlN参数设置中的应用。
气体流量随压电陶瓷阀偏置电压变化速率
本文描述了气体流量随压电陶瓷阀偏置电压变化速率实验情况。
气体流量随压电陶瓷阀偏置电压变化的温度特性
本文讲述了气体流量随压电陶瓷阀偏置电压变化的温度特性。
气体流量随压电陶瓷阀偏置电压变化的迟滞特性
本文讲述了气体流量随压电陶瓷阀偏置电压变化的迟滞特性。
压电陶瓷阀在真空磁控反应溅射中的特性
在真空磁控溅射镀膜线上, 采用PCV25型压电陶瓷阀作为反应气体流量输出的驱动元件。研究了不同环境温度下压电阀偏置电压Vo对N2输出流量Q的影响。
基于多晶硅的曲面高反膜研究
本文提出并初步实现一种提高等离子显示面板(PDP) 出光率的多层干涉型反射膜。
磁过滤阴极电弧技术沉积高sp3键含量四面体非晶碳薄膜的工艺优化研究
通过对不同基片偏压下磁过滤器电流对四面体非晶碳( ta-C) 薄膜sp3键含量影响的研究, 探讨了磁过滤阴极电弧技术制备高sp3 键ta-C 薄膜优化工艺条件。
硬质合金表面TiAlZrCr/(Ti,Al,Zr,Cr)N梯度膜的微结构与力学性能
采用多弧离子镀技术, 使用Ti-Al-Zr合金靶和Cr单质靶, 在WC-8%CO硬质合金基体上制备了TiAlZrCr/(Ti,Al,Zr,Cr)N多组元梯度膜。
晶体结构对Er/Yb共掺TiO2薄膜荧光光谱的影响
通过对不同退火温度下Er/Yb共掺TiO2薄膜的结构和光致荧光光谱(PL) 的分析, 研究了退火处理所导致的晶体结构变化对薄膜荧光光谱的影响。