真空镀膜

真空镀膜主要分蒸发镀膜、溅射镀膜、离子镀膜和化学气相沉积几种。真空镀膜栏目主要讲述了真空镀膜原理,真空镀膜工艺,真空镀膜设备等有关真空镀膜技术。

多孔阳极氧化铝有序阵列表面润湿机制的研究
基于二次阳极氧化法制备的多孔阳极氧化铝(AAO)有序阵列薄膜,研究了二次蒸馏水和1,2-二氯乙烷两种液体在该结构化、化学异质表面的润湿特性。
多孔Cr-TiO2/P3HT异质结薄膜的制备及光伏特性研究
采用溶胶-凝胶法,利用聚乙二醇2000(PEG 2000),成制备了多孔Cr掺杂TiO2(Cr-TiO2)纳米薄膜,并实现了PEG 2000 含量对Cr-TiO2薄膜多孔结构及其光透射特性的有效调制。
形核密度对金刚石薄膜表面形貌及其质量的影响
在2kW 微波等离子体化学气相沉积(MPCVD) 装置中,采用CH4和H2作气源,在最佳生长工艺参数条件下,可重复制备出高质量的金刚石薄膜。
光学级CVD金刚石膜的研究进展与应用
首先介绍了光学级CVD金刚石厚膜和薄膜的制备,随后指出了国内外光学级CVD金刚石膜的研究进展,最后进行了光学级CVD金刚石膜的前景展望。
Cu含量对脉冲偏压电弧离子镀TiN-Cu纳米复合薄膜硬度的影响
用脉冲偏压电弧离子镀技术在高速钢基体上制备了一系列不同Cu含量的TiN-Cu纳米复合薄膜,分别测试了薄膜的成分、形貌、相组成、硬度和弹性模量,重点考察薄膜成分对其硬度和弹性模量的影响。
一种新型楔形膜在真空中的制作方法及测试结果
提出了一种新型楔形膜在真空中的制作方法,可以替代白光干涉位移传感器中的关键元件。
ZSN-800AG2电子束蒸发镀膜机程序化自动控制系统的设计
本文对ZSN-800AG2电子束蒸发镀膜机的控制系统进行了设计,重点对应用iFix 组态软件实现工艺过程用户可编程序化的动控制方法设计以及数据存储和趋势曲线显示等做了设计分析,完成了整 机的工艺试验。
Si90Al10Nx薄膜的工艺控制及光学性能研究
通过改变磁控溅射过程中氩气与氮气的分压比,制备了多种不同厚度的Si90Al10Nx薄膜样品,并采用透射率轮廓法对样品在热处理前后的光学性能进行了测量和分析。
温度对磁控溅射氮化钛薄膜光学性能的影响
本文采用能量过滤磁控溅射技术,通过改变沉积温度在玻璃衬底上制备了一系列TiN 薄膜。利用XRD进行了物相鉴定,使用分光光度计、椭圆偏振光谱仪和四探针电阻仪测试了TiN 薄膜的光学性能。
基于正交试验法TiO2纳米薄膜的制备及光电性能的研究
以商业TiO2纳米粉为原料,将其充分研磨得到胶体,用刮涂和热处理的方法在氟掺杂氧化锡导电玻璃基底上制备TiO纳米多孔薄膜阳极,并组装成染料敏化太阳能电池。
多弧离子镀TiN/TiCrN/CrN多元多层复合膜的制备及性能研究
采用XH-800多弧离子镀设备在硬质合金刀具表面制备TiN/TiCrN/CrN多元多层复合膜。
高速微晶硅薄膜沉积功率利用效率的测量与优化
为了实现低成本微晶硅薄膜的高速沉积,需要尽可能的优化工艺参数,特别是提高功率利用效率对于降低生产成本,以及提高工艺稳定性都具有重要的意义。
离轴磁控溅射生长钙钛矿外延薄膜
本文从磁控溅射原理出发分析离轴磁控溅射相对于其他外延薄膜生长方式的优势, 介绍了离轴磁控溅射的发展。
氧化镍溶胶-凝胶薄膜阻变特性研究
用溶胶-凝胶法在ITO基片上旋涂制备了NiO薄膜, 通过对ITO/NiO薄膜/GaIn器件进行伏安特性测试, 研究了溶胶浓度、退火、层数以及Cu掺杂等对其电学特性的影响。
溶胶-凝胶法制备Li掺杂ZnO纳米薄膜及其表征
采用溶胶-凝胶法在玻璃基底上制备了ZnOBLi薄膜。研究了薄膜厚度对薄膜结构及光电性能的影响。