高品质金刚石厚膜的微波等离子体CVD沉积技术

来源:真空技术网(www.chvacuum.com)北京科技大学材料科学与工程学院 作者:唐伟忠

高品质金刚石厚膜的微波等离子体CVD 沉积技术

唐伟忠 于盛旺 范朋伟 李义锋 苏静杰 刘艳青

(北京科技大学材料科学与工程学院 北京 100083)

  摘要 金刚石膜拥有许多优异的性能。在制备金刚石厚膜的各种方法之中,高功率微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)法因其产生的等离子体密度高,同时金刚石膜沉积过程的可控性和洁净性好,因而一直是制备高品质金刚石厚膜的首选方法。

  在世界范围内,美、英、德、日、法等先进国家均已掌握了以高功率MPCVD 法沉积高品质金刚石膜的技术。但在中国国内,高功率MPCVD 装备落后一直是困扰我国高品质金刚石膜制备技术发展的主要障碍。

  本文将首先综述国际上高功率MPCVD 装备和高品质金刚石膜制备技术的发展现状,包括各种高功率MPCVD 装置的特点。其后,将回顾中国金刚石膜MPCVD 技术的发展历史,并重点介绍北京科技大学近年来在发展高功率MPCVD 装备和高品质金刚石厚膜制备技术方面取得的新进展。

  关键词 MPCVD 金刚石膜沉积技术 高功率 高品质

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