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推荐电镀污水中有机污染物去除工艺

电镀废水中的有机污染物来源主要有3个方面：镀前处理、电镀过程和镀后处理。污水中有机污染物的3种去除方法：生化法、微波化学法和物化法。

InAs(001)吸附表面的不可逆重构相变研究

本文利用反射式高能电子衍射仪对InAs(001)吸附表面进行观测，发现表面(3×1)与(2×4)重构之间存在不可逆的相变过程。
真空封口机控制面板的主要作用

本文简要介绍真空封口机控制面板五个部件的主要作用。
低能C离子注入单晶硅机械和摩擦学性能

本文采用低能离子注入的方法，使用MEVVA 源将C离子注入单晶硅表面，考察了低能注入C 离子对单晶硅机械性能和摩擦学性能的影响，并相应地探讨了低载荷下的磨损机制。
离焦量对空气中YAG激光诱导Cu等离子体空间特性的影响

本文采用1064 nm的YAG 脉冲激光,通过变换激光离焦量，用光谱学方法研究在空气中激光诱导铜靶所产生的相应空间等离子体的特性，并从光谱学诊断的角度对等离子体特性做了进一步的研究分析。
真空用R2Co17稀土钴磁柱表面净化工艺的改进

本文对R2Co17 磁柱零件的表面净化工艺加以改进，采用电化学工艺，效果良好。
新型氧化铁纳米材料的研究进展

本文综述了新型氧化铁纳米材料的制备、结构以及应用的研究进展，探讨了该研究领域亟待解决的问题以及今后可能的发展前景。
电泳沉积碳纳米管场发射阴极研究进展

本文将介绍电泳法的主要技术工艺与发展，以及基于电泳技术的碳纳米管薄膜材料在场电子发射阴极的研发新进展。
真空感应炉冶炼易切削钢的氧含量控制工艺

本文对真空感应炉冶炼易切削钢的氧含量控制工艺进行了研究，通过改进操作参数、保护气体种类、调整合金加入顺序、合金化期后保温时间的控制等方法，在保证钢锭内部质量的同时，实现了钢中氧含量的精确控制，为新型易
真空热处理炉瞬态传热过程的数值模拟

本文将建立一个真空热处理炉的三维有限元模型，并通过ANSYS 软件对其辐射传热热过程进行数值模拟。
基于模糊控制和PID控制的电弧炉直流电源的研究

目前冶金行业大多采用经典的PID调节器，本文根据模糊控制理论，着重针对电流闭环提出了一种模糊控制和PID控制相结合的控制方法。
动电容式电位监测器原理和结构参数设计

本文主要研究SPM 类型的探测器。
XJPD-900磁控溅射设备的控制软件编程及工艺试验

本文对XJPD-900磁控溅射生产线的控制系统进行了设计，重点对应用PLC和iFix组态软件实现工艺过程自动控制以及EXCEL表格数据存储等的程序做了设计分析，完成了整机的工艺试验。
DC-HCPCVD法高CH4流量下纳米金刚石膜的制备及生长特性研究

本文在CH4/H2气氛下，在高CH4流量(8sccm~12sccm)下制备纳米金刚石膜，研究所得纳米金刚石膜的形貌与结构，扩展直流热阴极PCVD法纳米金刚石膜制备工艺。
双靶共溅射TiAl系高温耐磨薄膜制备与研究

本实验采用纯金属铝和钛作为双靶，通过改变基体相对于靶材的溅射位置，在同一次溅射过程中，制备了一系列大范围成份变化的Ti-Al系金属间化合物薄膜。
金属/多晶锗硅肖特基接触特性的影响因素研究

本文研究了几种金属在多晶锗硅薄膜上的肖特基接触特性。
Cr层厚度对Pd/Cr/Co多层膜光学性质的影响

本文对Pd/Cr/Co多层膜的光学常数进行了测量，并研究了Cr插层的厚度对多层膜光学性质的影响。
热处理对CuInS2薄膜导电类型及光学特性的影响

本研究采用高纯Cu、In和S粉混合后，单源共蒸发沉积CuInS2薄膜，再对薄膜进行合适的热处理，研究热处理对CuInS2薄膜的导电性能转变及光学性能的影响。
EB-PVD在热障涂层中的研究及应用

本文介绍了EB-PVD技术在制备热障涂层时优势、不足与改进措施。
高功率脉冲磁控溅射制备TiNx涂层研究

本文利用高功率复合脉冲技术制备TiNx涂层，电源能量输出采用直流与脉冲叠加形式，主要研究氮气流量对膜层性能的影响，并与直流磁控溅射沉积涂层进行对比研究。
真空碳热还原煅白制取金属镁的冷凝实验研究

改造后的冷凝设备对金属镁的直收率有很大提升。最后，对现存的传统真空冷凝设备提出了多级冷凝的改造方案，