石英脱羟真空炉的机械设计研究

石英真空脱羟炉是金卤灯用石英玻璃脱羟工艺的关键设备。分析了石英脱羟炉的核心部件加热器、隔热屏的设计思路，根据计算功率进行了加热器的设计计算和校核;阐述了抽真空系统和快速冷却系统的设计思路等。

真空蒸发制备CdSexTe1-x薄膜及其性能研究

按不同比例混合CdTe和CdSe两种化合物，利用真空蒸发法在玻璃衬底上制备了CdSexTe1-x三元化合物薄膜，分别利用XRD、SEM、EDX、XPS、紫外-可见分光光度计对薄膜的物相结构、表面形貌、元素组成以及光学性能进行了测试

中间层类型对类金刚石涂层界面结合性能和抗磨损能力的影响

电子回旋共振波射频溅射系统设计

本文以ECWR技术为背景，介绍了一种电子回旋共振波射频溅射镀膜系统的设计。

氟磷酸钙和碳反应生成CaO、CO、CaF2 和PO(g)的热力学计算

本文研究氟磷酸钙提炼磷生成PO(g)过程中的压力和温度之间的热力学关系。

复杂工件表面磁控溅射镀膜均一化控制的研究

介绍了复杂型腔工件表面薄膜涂覆机理与技术特点。

基于PLC的磁控溅射温度控制系统设计

本文以西门子S7-300可编程控制器(PLC)为控制核心，通过触摸屏构成人机交换界面(HMI)，论述了磁控溅射温度控制系统的性能特征与控制方法。

低地球轨道空间等离子体参数的试验研究

本文采用微波电子回旋共振(ECR)等离子体源模拟了空间等离子体，运用静电探针法获取了等离子体的伏安特性曲线，并分析了气流量和微波源功率对电子密度的影响，对模拟分析不同轨道高度空间等离子体对航天器电位影响有

大颗粒缺陷在电弧离子镀所制备薄膜中的分布状态研究

针对电弧离子镀制备薄膜产生的大颗粒问题，本文主要研究了大颗粒在薄膜中的分布状态。

HMX颗粒的气相沉积包覆研究

本文通过真空气相沉积技术，在HMX炸药颗粒表面成功包覆了石蜡和paralene膜，并且在膜较薄情况下实现了包覆度100%。测试了HMX气相包覆颗粒的机械感度和静电火花感度。

Cu层溅射时间对两种ZnO复合透明导电薄膜光电性能的影响

Er3+/Yb3+掺杂的ZnO薄膜光波导的特性研究

有机器件中低温低损伤磁控溅射沉积透明导电薄膜技术的研究进展

索出一种低温低损伤高速沉积性能优异透明导电薄膜的制备技术，是提高有机光电器件性能的关键。

真空碳热还原煅白的热力学分析

本文对煅白真空碳热还原法制取镁反应过程进行了热力学分析，在系统压力30～100Pa，还原温度1573K条件下，C与MgO反应生成镁蒸气;温度达到1667K时，C与CaO反应生成CaC2，在此温度条件下，CaC2也可与MgO反应生成镁蒸气

铝诱导晶化低温制备多晶硅薄膜的机理研究

本文根据热力学第二定律的Gibbs自由能描述，理论研究了AIC制备多晶硅薄膜的ALILE机理，同时结合理论研究和实验结果理论计算了AIC制备多晶硅薄膜的激活能。

0Cr18Ni9Ti不锈钢表面等离子渗锆合金层的研究

利用辉光等离子渗金属技术，在0Cr18Ni9Ti不锈钢表面形成渗Zr合金层，探讨了极间距、气压、保温温度、源-阴极电压差、保温时间对渗Zr合金层厚度的影响，进而优化工艺参数，并对合金层的金相组织、元素分布及物相组成

W含量对CrSiWN薄膜微观结构、力学及摩擦性能的影响

采用射频磁控溅射制备不同W含量的CrSiWN薄膜。利用X射线衍射、扫描电镜、能量散射谱、纳米压痕仪和摩擦磨损实验机对薄膜的相结构、形貌、成分和摩擦性能进行分析。

ZnO插层对超薄坡莫合金薄膜各向异性磁电阻的影响

本实验以ZnO作为Ta(4nm)/Ni81Fe19(20nm)/Ta(3nm)薄膜中Ta层和Ni81Fe19层界面处的纳米氧化层，研究氧化层ZnO的插入对坡莫合金薄膜AMR的影响。

铀上激光辅助化学气相沉积铝薄膜研究

为了防止金属铀的腐蚀，本文采用激光辅助化学气相沉积在铀上制备了铝薄膜。

镀膜技术对金属薄膜性能与制备氢化物薄膜的影响

分析了热蒸发、溅射和脉冲激光沉积三种镀膜技术镀金属薄膜的性能特点。根据文献报道数据，研究了三种镀膜技术镀金属薄膜的成膜机理、晶格参数、膜力学性能的差别。