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同轴腔高功率多注速调管注-波互作用系统的模拟设计
以同轴腔高功率多注速调管为研究对象, 以大信号程序KLY及PIC粒子模拟软件对其多电子注- 波互作用系统开展了一维初始设计、二维等效设计及全三维模拟设计。
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辉光弧光协同共放电方式制备TiN薄膜的研究
分别采用中频磁控溅射、电弧离子镀及辉光弧光协同共放电混合镀三种方式在碳钢基体上制备TiN薄膜, 采用各种技术对薄膜表面形貌、显微硬度、膜厚、耐腐蚀性进行测试。
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SrHfON高k栅介质薄膜的漏电特性研究
采用射频反应磁控溅射法在p-Si(100) 衬底上成功制备出SrHfON高k栅介质薄膜, 并研究了Au/SrHfON/Si MOS 电容的漏电流机制及应力感应漏电流(SILC)效应。
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真空环境中多场耦合对Au/Cu/Si薄膜界面结构的影响
采用磁控溅射方法在Si基底上制备了Au/Cu薄膜。利用扫描俄歇微探针纳米化分析技术进行表面成分分析与深度剖析, 研究在真空环境中, 紫外辐照、微氧氧含量及处理温度等因素作用对Au/ Cu薄膜界面结构的影响。
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不同衬底温度下生长的Bi1.5Zn1.0Nb1.5O7.0薄膜的XPS 研究
采用固相反应法合成具有焦绿石立方结构的Bi1.5Zn1.0Nb1.5O7(BZN) 陶瓷靶材, 采用脉冲激光沉积法在Pt/TiO2/SiO2/Si(100) 基片制备立方BZN 薄膜, 衬底温度在500~ 700℃范围内变化。
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