真空技术在工业上应用

真空应用

真空技术网>真空应用>

推荐电镀污水中有机污染物去除工艺

电镀废水中的有机污染物来源主要有3个方面：镀前处理、电镀过程和镀后处理。污水中有机污染物的3种去除方法：生化法、微波化学法和物化法。

PDP子场数据自适应优化低功耗寻址方法

为降低等离子体显示器(PDP)的寻址功耗, 在分析PDP寻址功耗和图像信息在各子场分布特征的基础上, 根据人眼视觉在不同背景亮度下对图像信息感知能力不同的特点, 提出了子场数据自适应优化低功耗寻址方法。
新型反射腔在多频相对论返波振荡器中的粒子模拟研究

设计了两类新型同轴反射腔并成功地应用于多频高功率微波输出。反射腔采用非对称的同轴结构, 置于同轴相对论返波振荡器( CRBWO) 慢波系统的前端。
金属离子源磁过滤器磁场位形的设计与实验研究

根据磁过滤器对磁场的要求, 利用水冷铜管产生的反向磁场, 设计一个轴向磁场较弱的磁镜式磁过滤器。
35CrMo钢表面化学气相沉积多层硬质涂层的结构与性能研究

采用化学气相沉积法在35CrMo钢基表面制备多层硬质涂层，并测试分析了涂层的组成结构、粗糙度和表面力学性能。
以菱镁石为原料铝热还原炼镁的实验研究

对以菱镁石为原料，以铝粉为还原剂的真空热还原炼镁技术进行了实验研究，通过热力学分析和对还原渣的物相分析，对铝热还原煅后菱镁石的机理进行了探讨。
基于分形理论的玻璃纤维真空绝热热工特性研究

基于分形理论，描述了玻璃纤维多孔介质材料微尺度空间结构，建立分形等效单元体模型，分析了影响其真空下有效导热系数关键因素。
SOI高g值压阻式加速度传感器与工艺实现

基于SOI技术, 利用电感耦合等离子体硅深加工，设计制备了一种新型平面内振动高g值压阻式加速度计。
用于石油钻井磨料射流喷嘴的研制

采用模压及真空烧结试制了一种磨料射流喷嘴，用扫描电镜观察其组织形貌，并进行硬度和密度的测量。
人工干预二次形核研究

采用直流热阴极PCVD技术，在CH4- H2 气氛常规制备微米晶金刚石膜的参数条件下，通过人工干预实现二次形核，制备纳米晶金刚石膜。
Cu含量对脉冲偏压电弧离子镀TiN-Cu纳米复合薄膜硬度的影响

用脉冲偏压电弧离子镀技术在高速钢基体上制备了一系列不同Cu含量的TiN-Cu纳米复合薄膜，分别测试了薄膜的成分、形貌、相组成、硬度和弹性模量，重点考察薄膜成分对其硬度和弹性模量的影响。
一种新型楔形膜在真空中的制作方法及测试结果

提出了一种新型楔形膜在真空中的制作方法，可以替代白光干涉位移传感器中的关键元件。
热解一维链状铜络合物单晶制备纳米氧化铜

采用X- 射线衍射（XRD）、热重（TG）分析和透射电子显微镜（TEM）等手段表征了铜络合物单晶在900℃下焙烧后的产物。
真空离子镀铬合金厚膜替代电镀硬铬工艺研究

离子镀铬合金厚镀膜代替电镀硬铬工艺研发，已取得满意成果，可以投入工业生产，可以向社会提供技术及专用设备。
高分子涂层制备技术研究进展

本文综述了高分子涂层的制备，发现其制备方法具有多样性，但多在大气环境中进行，存在高温分解、涂层内应力大和衬底结合力差等问题。
低压压印制备硅点阵结构的工艺研究

本文介绍了一种以低压压印结合反应离子刻蚀制备硅点阵的方法，即利用PDMS模板通过压印复制获得PMMA掩模结构，用反应离子刻蚀在硅片表面制得高度有序的硅纳米点阵结构。
ZSN-800AG2电子束蒸发镀膜机程序化自动控制系统的设计

本文对ZSN-800AG2电子束蒸发镀膜机的控制系统进行了设计，重点对应用iFix 组态软件实现工艺过程用户可编程序化的动控制方法设计以及数据存储和趋势曲线显示等做了设计分析，完成了整机的工艺试验。
Si90Al10Nx薄膜的工艺控制及光学性能研究

通过改变磁控溅射过程中氩气与氮气的分压比，制备了多种不同厚度的Si90Al10Nx薄膜样品，并采用透射率轮廓法对样品在热处理前后的光学性能进行了测量和分析。
温度对磁控溅射氮化钛薄膜光学性能的影响

本文采用能量过滤磁控溅射技术，通过改变沉积温度在玻璃衬底上制备了一系列TiN 薄膜。利用XRD进行了物相鉴定，使用分光光度计、椭圆偏振光谱仪和四探针电阻仪测试了TiN 薄膜的光学性能。
光学加工中真空夹具设计及分析

为了在光学加工中快速、可靠地装夹光学元件，设计了真空夹具，对该真空夹具引起光学元件变形量进行了分析。
真空热还原氧化镁的理论分析与实验研究

通过对C、S i 和Al热还原MgO的热力学计算, 分析了不同条件下热还原吉布斯自由能和反应初始温度的变化。