-
脉冲激光沉积ZrW2O8/ZrO2复合薄膜及其靶材制备
采用化学共沉淀法合成26wt %ZrW2O8/ ZrO2近零膨胀复合陶瓷靶材,并以脉冲激光法在石英基片上沉积制备了ZrW2O8/ZrO2复合薄膜。
-
离子束溅射制备CuInSe2薄膜的研究
利用离子束溅射沉积技术,设计三元复合靶,直接制备CuInSe2 薄膜。通过X射线衍射仪 、原子力显微镜和分光光度计检测在不同衬底温度和退火温度条件下制备的薄膜的微结构、表面形貌和光学性能。
-
工业纯铁等离子体氮化及Ti/TiN多层薄膜沉积复合处理研究
采用低偏压高频等离子浸没离子注入及氮化技术(HLPⅢ) 对工业纯铁进行表面改性,然后利用非平衡磁控溅射技术(UBMS) 在低压高频等离子浸没离子注入及氮化处理样品表面制备Ti/TiN多层膜。
-
电子束蒸发法制备掺钇稳定氧化锆薄膜的光学特性研究
利用电子束蒸镀方法在单晶硅和石英玻璃上制备了掺不同Y2O3 浓度的掺钇稳定ZrO2薄膜(YSZ) ,用X射线衍射、原子力显微镜、扫描电子显微镜和透射光谱测定薄膜的结构、表面特性和光学性能,研究了退火对薄膜结构和光学性能
-
磁控溅射薄膜生长全过程的计算机模拟研究
本文结合了PIC ,MC , EAM,CIC 等方法对整个等离子体磁控溅射成膜过程进行了多尺度的计算机模拟,并系统研究了磁控溅射成膜过程中基板温度、磁场分布、靶材-基板间距等参数对成膜的影响。
-
缝纫机针杆表面沉积含过渡层DLC薄膜及性能的研究
同时放入缝纫机针杆(不锈钢)、WC 合金、Si 片,并分别制备了DLC、Cr/DLC、Cr/CrC/DLC 三种膜层结构的DLC 薄膜,并对薄膜的表面形貌和性能进行了研究。
-
电沉积法制备CuInS2薄膜
采用单步电沉积法和两步电沉积法在Mo基底上制备CuInS2薄膜,用X射线衍射仪(XRD)和扫描电子显微镜(SEM)表征了样品的结构和形貌,用能量散射仪(EDX)测试了样品中各元素含量。
真空资讯
推荐阅读
热门专题
阅读排行
- 1真空吸盘的真空负压吸附原理
真空吸盘采用了真空原理,即用真空负压来“吸附”工件以达到夹持
- 2不是所有的衣物被褥都适合用压缩袋收纳
并不是所以的衣物被褥都适合使用真空压缩袋进行收纳,容易出现压
- 3不锈钢真空保温杯生产工艺流程
不锈钢保温杯由内外双层不锈钢制造而成,利用焊接技术把内胆和外
- 4用真空压缩袋收纳棉被的方法
真空压缩袋主要用于装棉被和各种衣服类的一种袋子。 本文教你怎
- 5我国研发时速4000公里真空管道磁悬浮列车
一种最低时速4000公里、能耗不到民航客机1/10、噪音和废气污染及
- 6什么是无尾抽真空保温杯技术?
真空保温杯能够起到保温效果的最重要因素之一就是抽真空。“无尾
- 7真空自耗电弧炉(VAR)的工作原理与特点
真空自耗电弧炉是在真空室中利用电弧的能量来熔炼金属的一种电炉
- 8真空热水锅炉的工作原理
真空热水锅炉的结构是由燃烧室(火炉)、水管、负压蒸汽室、热交换
- 9真空感应熔炼炉(VIM)的工作原理与结构简图
真空感应熔炼炉是真空冶金领域中应用最广的设备之一。本文讲述了
- 10等离子体增强化学气相沉积(PECVD)技术基础
等离子体增强化学气相沉积(PECVD)是借助微波或射频等使含有薄膜