真空镀膜电化学清洗知识

来源:真空技术网(www.chvacuum.com)真空技术网整理 作者:真空技术网

  电化学清洗是在真空镀膜生产线上常用的一种表面净化方法,分为两种,一种是点解侵蚀,一种是电化学抛光。

  电解侵蚀对于侵蚀时间和溶液的要求比较低,比化学侵蚀的效果更好,它分为阳极和阴极,阳极侵蚀是镀件接阳极,在50~60℃下通过氧气气泡的冲击把氧化物去掉,而阴极侵蚀是镀膜接阴极,通过氢气把氧化物还原的同时由于氢气溢出产生的冲击力把氧化层去掉。

  而阳极侵蚀是最常用的方法,不过对于复杂的镀件,会出现过度侵蚀和不均匀侵蚀的问题,而阴极侵蚀虽然不会出现过度侵蚀,但会出现渗氢发脆。

  电化学抛光的电解液和点解侵蚀是不一样的,不过原理差不多,电化学抛光针对金属的表面净化效果更好,镀件接阳极,用面积大于镀件5倍以上的铜或钢接阴极,两极之间距离50~120mm,让电场集中到高点处使金属表面的氧化层去除,达到电化学抛光净化的效果,金属镀件表面会变得很均匀,有光泽。

  真空镀膜电化学清洗知识为真空技术网首发,转载请以链接形式标明本文首发网址。

  http://www.chvacuum.com/application/film/096717.html

  与 真空镀膜 真空镀膜 相关的文章请阅读:

  真空镀膜http://www.chvacuum.com/application/film/