GB/T 11164-1999 真空镀膜设备通用技术条件

来源:真空技术网(www.chvacuum.com)真空技术网整理 作者:国家质量技术监督局

GB/T 11164—1999 真空镀膜设备通用技术条件

Vacuum coating plant generic specification

       GB/T 11164—1999 真空镀膜设备通用技术条件标准是对GB/T 11164-1989《真空镀膜设备通用技术条件》进行修订而编制的。

       在内容上,对某些技术指标进行了修改.如:B类镀膜设备抽气时间从原来的15,20 min改为10min;增加了升压率指标;并且由于原标准中C类镀膜设备国内已无生产厂生产.在本次标准修订中将C类产品取消。

       本标准自实施之日起代替GB/T 11164-1989。

一、范围

       GB/T 11164—1999 真空镀膜设备通用技术条件标准规定了真空镀膜设备技术要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输和贮存等。

       本标准适用于压力在10-4- 10-3Pa范围的蒸发类、溅射类、离子镀类真空镀膜设备(以下简称设备)

二、引用标准

       下列标准所包含的条文,通过在本标准中引用而构成为本标准的条文。本标准出版时,所示版本均为有效,所有标准都会被修订,使用本标准的各方应探讨使用下列标准最新版本的可能性。

       GB 191-199 包装储运图示标志

       GB/T 6070-1995 真空法兰

       GB/T 13384-1992 机电产品包装通用技术条件

       JB/T 7673-1995 真空设备型号编制方法

三、定义

       本标准采用下列定义。

       3.1 极限压力

       真空系统正常工作时,空载干燥的镀膜室逐渐稳定的最低压力。单位:Pa,

       3.2 抽气时间

       真空系统正常工作时,将空载干燥的镀膜室从大气压(105Pa)抽到规定的压力所需要的时间。单位:min。

       3.3 升压率

       将空载干燥的镀膜室连续抽气至稳定的最低压力后,截止抽气,在镀膜室内由于漏气或内部放气所造成的单位时间的升压。单位:Pa/h。

       四、技术要求

       1 设备正常工作条件

       1.1 环境温度:10-30'C.

       1.2 相对湿度:不大于75%。

       1.3 冷却水进水温度:不高于25'C。

       1.4 冷却水质:城市自来水或质量相当的水。

标准全文下载:

  GB/T 11164-1999 真空镀膜设备通用技术条件

  GB/T 11164-1999 真空镀膜设备通用技术条件为真空技术网首发,转载请以链接形式标明本文首发网址。

  http://www.chvacuum.com/biaozhun/061087.html

  与 真空标准 GB/T11164-1999 真空镀膜 相关的文章请阅读:

  真空标准http://www.chvacuum.com/biaozhun/