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推荐电镀污水中有机污染物去除工艺

电镀废水中的有机污染物来源主要有3个方面：镀前处理、电镀过程和镀后处理。污水中有机污染物的3种去除方法：生化法、微波化学法和物化法。

环境压强对电刷镀In/Ni固体润滑涂层摩擦学性能的影响

为了探索软金属铟在真空环境中的润滑性能, 用电刷镀技术在45#钢表面制备了In/Ni复合固体润滑涂层, 并对比研究了该复合镀层在大气环境、低真空环境和高真空环境下的摩擦学性能和磨损机制。
速调管双耦合孔输出腔外观品质因数的计算

提出了一种采用散射参数S21曲线来计算速调管双耦合孔输出腔外观品质因数的方法。
含钛MoS2合金减摩镀层摩擦学性能研究

应用闭合磁场非平衡磁控溅射离子镀技术, 制备了不同Ti含量的MoS2合金减摩镀层, 研究了添加元素Ti含量对镀层厚度、硬度、摩擦系数等的影响规律。
含Ag2O型高密度聚乙烯基真空蒸镀复合膜的抗菌性研究

本文通过真空蒸镀法制备得到含银型高密度聚乙烯(HDPE)基抗菌复合膜(Ag2O/HDPE) , 利用原子力显微镜、扫描电子显微镜及原子吸收光谱法测试手段对膜进行了表征, 并考察了复合膜的抗菌动力学和抗菌长效性, 以及对细菌的
Zr/Nb薄膜材料的制备及界面结构研究

通过直流磁控溅射法在单晶Si(100) 基底上制备了Zr/Nb/Si薄膜材料。
U及Si基表面TiAl薄膜的制备及组织结构研究

利用Gibbs自由能判据计算了室温和1000 K温度下TiAl体系非晶形成成分区间。
金属/半导体肖特基接触模型研究进展

在分析理想金属/ 半导体肖特基接触的基础上, 概述了一般情形下肖特基接触的形成机理和影响因素。
有机光电器件ITO阳极表面改性及其时效性研究

采用射频氧等离子体(RFOP)处理对氧化铟锡(ITO)薄膜表面进行改性, 通过原子力显微镜、X射线光电子能谱、X射线衍射仪和接触角仪等测试表征, 研究了改性对ITO表面性质的影响。
基于相空间方法的电子轰击离子源参数对其性能影响的研究

利用离子光学模拟软件SIMION7.0, 对自制的电子轰击离子源(EI) 进行模拟试验, 获得离子在EI内的运动参数, 包括位置、速度。
溅射气压对碳化钒薄膜微结构与力学性能的影响

采用碳化钒靶的磁控溅射方法在不同的Ar气压下制备了一系列碳化钒薄膜, 利用能量分析光谱仪, X射线衍射,扫描电子显微镜, 原子力显微镜和微力学探针研究了气压对薄膜成分、相组成、微结构以及力学性能的影响。
分子动力学模拟不同入射能量的CH与碳氢薄膜的相互作用

使用分子动力学方法模拟低能CH与碳氢薄膜的相互作用, 以探讨在核聚变过程中CH的再沉积行为及对面向等离子体材料性质变化的影响。
薄膜厚度对TGZO透明导电薄膜光电性能的影响

利用直流磁控溅射法, 在室温水冷玻璃衬底上成功制备出了可见光透过率高、电阻率低的钛镓共掺杂氧化锌( TGZO) 透明导电薄膜。
K417高温合金电磁搅拌法真空晶粒细化技术研究

使用X射线衍射分析仪、扫描电镜、电子拉伸试验机、高温金相显微镜研究了在模壳内壁表面的涂层中添加孕育剂铝酸钴和在真空熔铸过程中施加工频旋转电磁搅拌对K417高温合金真空精密铸件凝固组织和性能的影响。
对中真空条件下铝蒸气相变形核及冷凝的研究

在中真空条件(18~50Pa)下, 从原子碰撞与碰撞凝聚的角度分析系统温度、铝分压及冷凝区温度梯度对铝蒸气相变形核及冷凝的影响。
气相沉积硅薄膜微结构及悬挂键缺陷研究

在单晶Si(100)基体上利用电子回旋共振等离子体增强化学气相沉积法制备硅薄膜, 并采用X射线衍射谱(XRD)、透射电镜(TEM)、Raman光谱、电子自旋共振(ESR)波谱等实验方法研究了不同Ar流量下硅薄膜微结构及悬挂键密度的变
鹿茸的冻干新工艺及性质

介绍了鹿茸片和整枝鹿茸的冷冻真空干燥实验。
真空热处理对镀Al薄膜NdFeB磁体组织和耐蚀性的影响

用直流磁控溅射工艺, 在NdFeB磁体表面镀Al薄膜, 并对镀Al薄膜的磁体进行真空热处理, 研究工艺、温度和时间对镀层成分、组织和性能的影响。
激光热处理对类金刚石薄膜结构的影响

用真空阴极过滤电弧法沉积了厚度为2nm的类金刚石(DLC)薄膜, 研究了激光加热退火时薄膜结构和表面粗糙度的变化, 分析了激光加热功率对薄膜结构的影响。
FG型真空绝热板使用寿命评估

真空绝热板( VIP) 的使用寿命是目前研究者和使用者最为关注的问题之一, 如何有效保证其在长期使用过程中依然保持高性能热阻需要进行理论和试验研究。
真空卷绕镀膜机开卷张力控制系统研究

阐述了在真空卷绕镀膜机中张力控制的必要性和复杂性。