真空技术在工业上应用

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推荐电镀污水中有机污染物去除工艺

电镀废水中的有机污染物来源主要有3个方面：镀前处理、电镀过程和镀后处理。污水中有机污染物的3种去除方法：生化法、微波化学法和物化法。

真空照明灯的热力学分析

分析了灯具的热量传播方式，建立了灯具各部位的辐射、传导和对流模型。特别的给出了对流换热系数沿外壳的变化规律。
对真空预压法中真空度的一些认识

真空度是真空预压法中一个很关键的问题，成功解决真空度上的一些问题将对真空预压法的发展起很大的作用。
直流热阴极PCVD法掺氮纳米金刚石薄膜形貌及结构的影响

采用直流热阴极等离子体化学气相沉积（PCVD）技术，通过在CH4/H2的混合反应气源中通入不同流量的N2,合成了掺氮纳米金刚石薄膜。
CHN薄膜的制备方法与工艺研究

采用空心阴极等离子化学气相沉积方法,以NH3/H2的混合气体及CH4气体为原料反应气体,成功地制备了非晶的CHN薄膜,研究了CHN薄膜的沉积速率与直流电压及反应气体流量的关系。
砂土物料真空吸送分离系统的设计与数值模拟

介绍了砂土物料真空吸送分离系统的设计原则，运用计算流体动力学软件对气固两相流的运动状态进行了模拟，获得了分离系统内气流压力等值线图和流迹，计算了分离系统的压力损失。
基于光纤通讯的真空镀膜控制系统

针对镀膜的特殊要求，通过分析传统控制方式的不足，提出了新型的控制方式，即光纤通讯。
基于遗传算法的真空磁控溅射射频阻抗匹配仿真研究

针对真空磁控溅射射频电源阻抗匹配问题, 设计射频L型阻抗匹配网络结构。
磁控过程的计算机模拟

本文基于蒙特卡罗方法，并结合SRIM软件，编制程序跟踪模拟了磁控溅射各物理过程的粒子状态。
直流热阴极PCVD法间歇生长模式间歇周期的研究

采用直流热阴极PCVD方法间歇生长模式，在CH4-H2气氛常规制备微米晶金刚石膜的参数条件下，利用人工干预二次形核工艺，研究了间歇周期变化对制备纳米晶金刚石膜的影响。
高粘度液体真空搅拌脱泡理论分析与计算

真空搅拌脱泡是高粘度液体的一种有效脱泡方式。对于高粘度液体中的气泡, 单靠自身的浮力上升, 其速度是极其缓慢的, 搅拌槽内生成的气泡主要依靠搅拌被带到近液面而逸出。
局部抽真空对优化挤出吹塑中空工业制件壁厚均匀性的研究

从挤出吹塑中空工业制件壁厚不均匀原因分析出发, 提出挤出吹塑成型中局部抽真空的方法, 建立了抽真空系统。
SiO2在真空低价氟化法炼铝过程的分布

实验考察了真空低价氟化法炼铝过程中SiO2 的分布。
CHN薄膜化学结构和成分分析

采用外置式电容耦合低压等离子化学气相沉积法制备非晶CHN 薄，并分析其化学结构和成分分析。
真空烧结炉温度模糊控制系统仿真

针对粉末冶金真空烧结炉时变性、大滞后、非线性的特点，采用PID 控制效果不理想，选用了模糊控制算法。
真空绝热板导热系数与板内真空度关系研究

探讨了真空绝热板制作工艺参数，保持板内真空度及延长使用寿命的方法
真空镀膜机双轴磁性液体密封的设计与实验研究

为了解决真空镀膜机双轴密封问题, 对真空镀膜机双轴采用磁性液体密封, 设计了磁性液体密封整体结构、密封极齿和永久磁铁。
BEPCⅡ真空内扭摆磁铁波纹管RF屏蔽结构的改进

BEPCⅡ真空内扭摆磁铁的波纹管在电子束流的高流强运行中发生了损伤和真空泄漏。对损伤原因进行了分析,怀疑是波纹管RF屏蔽结构的弹簧片与接触套之间存在间隙,导致了高次模泄漏。
Al2O3缓冲层对以ZnO∶Al为阳极的有机电致发光器件性能的影响

采用直流磁控溅射法制备ZnO∶Al(AZO)透明导电薄膜,薄膜电阻率为5.3×10-4Ω.cm,可见光区平均透过率大于85%。
8mm三次谐波潘尼管的理论设计与粒子模拟研究

潘尼管是利用电子在高频结构中的位置选择机制实现注波净能量交换的回旋器件, 具有高效率与低磁场的显著特点。
线性化AlGaN/GaN HEMT费米能级与二维电子气密度关系的解析模型

通过化简复杂非线性的费米能级EF与二维电子气密度ns关系,并利用化简后函数的一阶泰勒多项式建立了线性化AlGaN/GaN HEMT中EF与ns关系的解析模型。