真空技术在工业上应用

真空应用

真空技术网>真空应用>

推荐电镀污水中有机污染物去除工艺

电镀废水中的有机污染物来源主要有3个方面：镀前处理、电镀过程和镀后处理。污水中有机污染物的3种去除方法：生化法、微波化学法和物化法。

辅助PECVD的磁场模拟计算与分析

介绍了磁场辅助PECVD工作原理，磁场对沉积薄膜的影响。
充电式锤钻的摆杆轴承真空热处理工艺研究

充电式锤钻的摆杆轴承真空热处理工艺研究
透气真空快速泥水分离技术室内模型试验研究

透气真空快速泥水分离技术适用于高含水率高粘粒含量疏浚淤泥的堆场处理,可以快速减小堆场中淤泥的体积,加速堆场的周转利用,并能解决常规真空处理方法中存在的滤层淤堵问题。
FMI-I-600型钕铁硼真空速凝炉冷却强度对铸带组织的影响

研究了FMI-I-600 型钕铁硼真空速凝炉冷却强度对铸带组织的影响。
真空下从铝土矿中直接提取铝的研究

利用低价铝氟化物歧化反应分解可以得到金属铝的特性,用焦炭作还原剂,在真空条件下,从铝土矿中提取铝进行了实验研究.
专家系统中知识库与工艺曲线动态修改的研究

介绍了精密复杂刀具真空热处理专家系统中知识的表示和知识库的构建；总结了影响真空热处理工艺参数的因素
织构ZnO:Al与p-μc-Si:H薄膜接触特性的研究

用PECVD法在不同织构ZnO:Al上沉积了p-μc-Si:H薄膜，研究了不同织构ZnO:Al 与p-μc-Si:H 薄膜的接触特性
磁控溅射法制备BiFeO3/CoFe2O4多铁性复合薄膜及其铁电铁磁性研究

用磁控溅射法在Pt/TiO2/SiO2/Si 衬底上成功制备了BiFeO3 (BFO)/CoFe2O4（CFO）层状结构磁电复合薄膜，测试结果显示此磁电复合薄膜在室温下同时存在铁电性和铁磁性
中频磁控反应溅射AlN薄膜及微观结构研究

采用中频磁控反应溅射工艺进行了氮化铝薄膜的制备，对沉积速率、晶体结构和表面形貌与氮气流量和溅射功率之间的变化关系进行了研究
微晶硅同质结薄膜太阳电池的数值模拟分析

采用太阳电池电容模拟软件（简称SCAPS）对p-i-n结构的微晶硅同质结薄膜太阳电池进行了数值模拟。
多孔ZnO 薄膜结构与光学性能研究

采用sol- gel提拉法，以聚乙二醇(PEG2000)为模板剂，醋酸锌为前驱体，乙醇为溶剂，二乙醇胺为络合剂，在玻璃基片上生长了多孔ZnO 薄膜，利用SEM和紫外分光光度计分析了多ZnO 薄膜的表面形貌和光学性质。
硅掺杂类金刚石薄膜表面性能研究

使用原子力显微镜考察了硅掺杂类金刚石薄膜的表面形貌及粗糙度，同时分析了薄膜表面的粘附力和微观摩擦力学性能。
磁控溅射法制备铁氧体薄膜的界面结合强度研究

利用磁控溅射法在单硅晶基底和玻璃基底上沉积铁氧体薄膜，采用AFM 观察薄膜的微观形貌，采用划痕法测试薄膜的界面结合强度。
不同铝掺杂量ZnO薄膜性能的研究

衬底温度对AZO 薄膜电学性能的影响以及，铝掺杂量不同、电阻率相同的AZO 薄膜的载流子浓度与迁移率的关系。
不同真空预冷压力对生菜储藏质量的影响

本试验设置不同真空预冷压力冷却生菜，预冷后的生菜在4℃、湿度(85%)的情况下储存两周，然后测量在整个贮藏期中生菜的质量损失、维生素C、色差值变化。
真空绝热板内部真空度的影响因素分析及改善措施

介绍了真空绝热板的绝热性能与板内真空度的关系，具体分析了影响真空度的因素。
镀膜设备真空系统主泵的配置

真空系统是真空镀膜设备的主要组成部分，其主泵的选择对真空性能影响很大，真空镀膜设备的发展要求真空性能清洁无油，动态抽速大.传统的以油扩散泵为主泵的设备不能满足要求.
物理气相沉积(PVD)技术

物理气相沉积(Physical Vapor Deposition，PVD)技术表示在真空条件下，采用物理方法，将材料源——固体或液体表面气化成气态原子、分子或部分电离成离子，并通过低压气体(或等离子体)过程，在基体表面沉积具有某种特
磁控溅射技术无铅金属化技术在电子行业的应用

磁控溅射是一种物理气相沉积技术，工艺本身是一种环保技术，膜材的适应性很广，在绿色制造中由其明显的技术优势。
溅射工作气压对Fe/Si3N4多层膜微波磁性的影响

在不同的溅射气压下,采用连续磁控溅射制备了Fe/Si3N4多层膜,探讨了溅射气压对多层膜微波磁性的影响