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基于DIABEAM法的电子束能量密度测试分析
为了充分发挥电子束焊接技术在航空航天领域的作用,对反映束流品质的关键因素—电子束能量密度开展了研究;基于法拉第传感原理,通过DIABEAM测试法对真空电子束焊机电子束能量密度分布进行测试分析。
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Fe/Si多层膜经快速热退火合成β-FeSi2薄膜的研究
采用磁控溅射仪在高阻Si(100)衬底上沉积了[Fe(0.5nm)/Si(1.6nm)]120和[Fe(1nm)/Si(3.2nm)]60多层膜,并在Ar气气氛下进行了1000℃,10s 的快速热退火。
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Al-C-N非晶薄膜结构及导电性研究
为了揭示Al-C-N 非晶薄膜的结构、导电性以及它们之间的关系,本文采用非平衡磁控溅射沉积技术在Si (100) 基体上沉积得到了不同Al含量的Al-C-N薄膜。
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小圆平面靶磁控溅射镀膜均匀性研究
从圆平面靶磁控溅射的原理出发,针对圆形平面靶面积小于基片面积的特点进行分析,建立膜厚分布的数学模型,并利用计算机进行模拟计算,目的在于探寻平面靶材面积小于基片面积时影响膜厚均匀性的因素
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大面积VHF-PECVD反应室喷淋式平板电极间电场和流场数值模拟
以大面积喷淋式平板电极甚高频等离子体增强化学气相沉积(VHF-PECVD)反应室为研究对象,利用FlexPDE和CFD-ACE+ 商业软件,对反应室电极间的电场和流场分布进行了数值模拟
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