直流磁控溅射法在玻璃上沉积制备金属镍膜的研究

直流磁控溅射法在玻璃上沉积制备金属镍膜的研究

韩 丽

河北工程大学土木工程学院材料工程系

　　摘要：金属镍膜可用在电磁波屏蔽、纤维传感器，手机、平板电脑保护玻璃装饰等。目前制备镍薄膜的方法主要有溅射法、化学气相沉积法(CVD)法、化学电镀法等。国内大多采用化学电镀法，此方法需要在反应液中进行，对环境可能产生危害，且制备的薄膜不够均匀，附着力差。磁控溅射法制备薄膜，膜层结构均匀，致密，性能良好，薄膜与基材附着牢固，在导电、抗静电、防辐射、电磁屏蔽等方面的应用具有显著的优势，且在机械、电子和陶瓷等领域已得到广泛的应用。

　　目前磁控溅射法制备薄膜材料主要选择金属、塑料、玻璃作为基材；在本实验中，选择玻璃作为基材，研究了气体压强、溅射功率、行车速度等对薄膜性能的影响，最终得到透过率为50%的半反半透镍膜，此膜可以用在手机和平板电脑的LCD 显示屏保护玻璃上，当LCD 背光灯处于关闭状态时，具有镜面作用，使人可以把手机或平板电脑当镜子使用;当LCD 灯打开时，可以看到内部LCD 显示的图像，是一种非常尚且带有装饰效果的功能显示膜。

　　采用直流磁控溅射法在玻璃基板上制备的半透明镍膜，用原子力显微镜(AFM)分析溅射功率对镍膜的表面粗糙度的影响，用分光光度计测试了不同条件下镍膜的透过率，用台阶厚度仪分析了不同条件下金属膜的厚度。结果表明，薄膜的表面粗糙度随溅射功率的增加而增大，控制一定量的功率可以得到透过率为50%的半透镍膜。

　　关键词：磁控溅射 镍膜 液晶显示 真空