中国真空学会2016学术年会征文通知(第一轮)

来源:中国真空学会

中国真空学会2016 学术年会第一轮征文通知

  由中国真空学会主办、云南师范大学与北京大学承办的中国真空学会 2016 学术年会将于2016年8月12-14 日在云南省昆明市举办。热切希望全体学会会员、理事及科研院所、企业同仁等踊跃撰稿,积极参加。

  学术交流将采取多种形式:大会特邀报告,分会邀请报告,分会口头报告,张贴报告, 以及真空产品推介等。 会间将颁发 2016 年度 “中国真空科技成就奖” 和 “中国真空科技青年创新奖”,并评选“最佳张贴报告奖” 。

  本次会议共分12个研究主题:

  1. 真空科学与技术、真空工程;

  2. 表面科学与技术;

  3. 应用表面科学与技术;

  4. 纳米科学与技术;

  5. 纳米生物与生物界面;

  6. 薄膜生长机理、制备技术和应用;

  7. 真空获得与测量、质谱分析与检漏;

  8. 真空冶金与表面工程;

  9. 电子材料与器件、真空微电子学;

  10. 等离子体物理与技术;

  11. 显示技术;

  12. 其它相关科学技术。

  一、征文要求

  1、本次学术会议欢迎与会者踊跃投稿,只需提交论文摘要(中、英文均可) ,网站上有摘要模版供下载编辑。

  2、本次会议的摘要投稿采用网上进行,网站:www.cvsnet.org.cn,网站运行投稿时间为2016年2月,参会者需要先在网站上注册(免费) ,然后根据摘要模板撰写摘要,并依照网站上的提示提交摘要。

  3、开会前将出版论文摘要集。为统一摘要格式,请采用网站提供的摘要模板编辑。

  4、网上投稿时请务必提供报告人、所属的分会编号(大会邀请报告除外) 、以及报告类型等信息。

  5、摘要是否被录用、以及报告类型的决定将在2016年7月份另行通知作者。

  6、对于口头报告,会议准备有多媒体设备,但请自备 U 盘。张贴报告请行打印,尺寸:90cm× 120cm。

  二、截稿日期

  1、摘要截稿日期:2016年6月20日前。

  2、摘要投稿过程中,如果遇到学术问题,请与所属分会的负责人联系。

  3、摘要投稿过程中,如果遇到技术问题,请与中国真空网负责人联系。

  会务组:中国真空学会办公室

  地址:北京市朝阳区建国路93号万达广场9号楼612室

  邮编:100022

  电话:010-58208908/58208985 传真:58207735

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