推荐调制周期对TiB2/TiAlN纳米多层膜机械性能的影响
利用射频磁控溅射技术,在室温下合成了具有纳米调制周期的TiB2/TiAlN多层膜.分别采用表面轮廓仪、纳米力学测试系统、多功能材料表面性能实验仪和XRD,分析了调制周期对TiB2/TiAlN纳米多层膜机械性能的影响.
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Zn掺杂TiO2薄膜紫外探测器及其光电性能研究
采用射频磁控溅射的方法制备Zn掺杂TiO2薄膜，用XRD、SEM和UV-Vis分别表征TiO2薄膜的晶体结构、表面形貌及其紫外-可见光吸收谱。并用此材料制备Au/TiO2/Au结构MSM光电导型薄膜紫外光探测器，研究其光电特性。
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VOx/TiOx/Ti多层薄膜的制备工艺与内耗研究
用磁控反应溅射法在玻璃和钼片衬底上制备VOx/TiOx/Ti多层薄膜。用X射线衍射(XRD)、QJ31单臂电桥、薄膜内耗仪等测试了薄膜的晶体结构、电阻、内耗。
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塑料表面溅射电磁屏蔽膜的研究
本文采用磁控溅射技术在聚酯塑料上制备出附着力大于5MPa、2GHz~4GHz频率范围内屏蔽效能大于60dB的复合结构的电磁屏蔽膜，并研究了导电膜、导磁膜及其复合膜层的电磁屏蔽特性。
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基底温度对四元叠层硒化法制备铜铟镓硒(CIGS)薄膜的影响
利用四元叠层硒化法制备了铜铟镓硒（缩写为CIGS）薄膜，重点分析了在叠层法制备CIGS薄膜过程中，基底温度对CIGS薄膜的晶体结构，表面形貌以及各种元素沿深度分布的影响。
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