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推荐接触式真空吸取技术的研究现状

真空吸取的执行器为真空吸盘，采用负压抽吸等方法在吸盘内产生一定的真空度，从而吸着工件。本文简单阐述接触式真空吸取技术的研究现状。

NaCl盐膜对铝青铜高温氧化行为的影响

采用金相检验、X射线衍射、扫描电镜/能谱及热重分析法研究了涂有NaCl盐膜的铝青铜在700～900℃的氧化行为。
CVD技术的应用与进展

论述了化学气相沉积(CVD)技术的工作原理,与其他表面硬化技术相比的特点,应用领域,以及近年来CVD技术的发展。
p-ZnO薄膜的掺杂研究现状

如何进行掺杂获得高质量的p型ZnO薄膜一直是ZnO研究领域的难点和热点。
ZnO薄膜的p型掺杂难度

p型ZnO薄膜难以制备的原因主要是由于ZnO存在诸多的本征施主缺陷而导致的自补偿效应。
碘盐中碘酸钾与其它形态碘的分离

研究了采用分离剂将碘酸钾与以其它形态存在碘分离后，用现有的通用方法分别测定碘含量。从而确定碘盐中碘的存在形态。
螺杆式氨压缩机机组跳停原因分析及解决方法

针对螺杆式氨压缩机组在冷冻制盐生产中跳停的问题进行分析并提出解决的方法。
VOx/TiOx/Ti多层薄膜的制备工艺与内耗研究

用磁控反应溅射法在玻璃和钼片衬底上制备VOx/TiOx/Ti多层薄膜。用X射线衍射(XRD)、QJ31单臂电桥、薄膜内耗仪等测试了薄膜的晶体结构、电阻、内耗。
一种全自动超高真空电子束蒸发薄膜生长系统

由于薄膜生长均匀、沉积速率和膜厚易控、可制备大面积薄膜等特点，电子束沉积技术在超导薄膜、多层巨磁阻薄膜、超晶格薄膜中得到了深入研究。
氧离子束流密度对Ta2O5薄膜的影响

研究了低能量离氧子束流密度在离子辅助电子束蒸发沉积Ta2O5薄膜中的作用.
热处理工艺对H13钢组织和力学性能的影响

本文比较了H13钢经盐浴分级淬火和真空高压气淬的淬火态的力学性能,分析了造成力学性能差异的原因。
真空镀铝纸与薄膜的气体透过率测试方法

作为阻隔性材料的真空镀铝纸和膜，通常以氧气透过率和水蒸气透过率两项指标来考核其阻隔性能。
准分子激光引起的非晶硅薄膜晶化行为的研究

利用KrF准分子激光对非晶硅薄膜的表层进行了晶化。研究了激光能量密度和照射脉冲数对薄膜结晶度的影响，并对晶化后薄膜的形貌和结构进行了表征。
塑料表面溅射电磁屏蔽膜的研究

本文采用磁控溅射技术在聚酯塑料上制备出附着力大于5MPa、2GHz~4GHz频率范围内屏蔽效能大于60dB的复合结构的电磁屏蔽膜，并研究了导电膜、导磁膜及其复合膜层的电磁屏蔽特性。
基底温度对四元叠层硒化法制备铜铟镓硒(CIGS)薄膜的影响

利用四元叠层硒化法制备了铜铟镓硒（缩写为CIGS）薄膜，重点分析了在叠层法制备CIGS薄膜过程中，基底温度对CIGS薄膜的晶体结构，表面形貌以及各种元素沿深度分布的影响。
不同测试条件下TiN薄膜的摩擦学特性研究

采用电弧离子镀技术在45#钢衬底表面沉积了TiN薄膜。用不同的仪器测试了在不同条件下TiN薄膜的摩擦学特性。
PI衬底上电沉积Cu薄膜的晶面择优取向

采用硫酸盐电沉积法，利用X 射线衍射仪(XRD)、扫描电镜(SEM)等手段研究了不同电沉积条件下在PI膜表面制备的Cu薄膜的晶面择优取向、平均晶粒尺寸及表面形貌。
SiO2薄膜制备的现行方法综述

SiO2薄膜的现行方法主要有磁控溅射、离子束溅射、化学气相沉积、热氧化法、凝胶－溶胶法等。本文系统阐述了各种方法的基本原理、特点及适用场合，并对这些方法做了比较。