真空技术在工业上应用

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推荐接触式真空吸取技术的研究现状

真空吸取的执行器为真空吸盘，采用负压抽吸等方法在吸盘内产生一定的真空度，从而吸着工件。本文简单阐述接触式真空吸取技术的研究现状。

直流反应磁控溅射在3003铝箔表面制备薄膜的研究

为有效提高3003铝箔表面光泽度、比面积及强硬度，采用直流反应磁控溅射的方法，在一定溅射参数条件下，选用高纯钼靶和钛靶对3003铝箔进行溅射实验。
基于PLC的真空蒸发废油处理自动控制

本文介绍了PLC 在废油处理设备自动控制系统中的应用。主要介绍了真空蒸发工艺及PC—PLC控制系统的主要功能等。
宽光谱监控法镀制高精度增透膜的研究

本文介绍了使用宽光谱监控系统镀制增透膜的基本原理和技术特点，宽光谱光学镀膜监控系统在镀制宽带增透膜等宽带产品方面具有特有的优势。
制盐工业水泵与风机起动方式的选择

介绍了电动机全压起动的优点，对全压起动和各种降压起动的特点进行分析比较，同时介绍了起动方式选择要点及起动方式选择误区。
电磁热泵技术在真空制盐中的应用及其节能研究

电磁热泵具有泵和电机之间无轴传动、安全静密封、永不泄露及一体化的特点。本文在简要介绍电磁热泵技术性能和特点的基础上将其创造性的应用于真空制盐系统中，从而达到节能目的。
一种崭新的镀膜技术——等离子体束溅射

详细描述一种等离子体高效溅射系统及应用工艺。此种崭新的溅射技术结合了蒸发镀的高效及溅射镀的高性能特点, 特别在多元合金以及磁性薄膜的制备, 具有其他手段无可比拟的优点。
新型等离子体束溅射镀膜机

本文介绍了新型的等离子体束溅射镀膜机的系统组成、特点、试验结果等内容。该镀膜机将等离子体发生和控制技术应用于溅射镀膜中，克服了磁控溅射的靶材利用率低及难以沉积铁磁性材料的缺点。
电子束蒸发制备CdS多晶薄膜及性质研究

采用电子束蒸发工艺在普通玻璃衬底上制备了硫化镉(CdS) 多晶薄膜,研究了不同衬底温度对薄膜结构、表面形貌及光透过率的影响。
固溶体半导体Zn1-xMgxS薄膜性质研究

以ZnS、Mg粉末为原料,应用双源真空蒸镀法,在石英玻璃衬底上成功地制备了不同Mg含量x的三元固溶体半导体Zn12xMgxS 薄膜。
X波段带状注速调管注波互作用系统的3维PIC模拟

带状注速调管是采用宽高比值很大的薄矩形注来降低空间电荷效应,采用特殊的高频结构来增加功率容量,从而使注波互作用效率得到提高的一种新型微波电真空器件。本文对工作在π模状态下的X波段带状注速调管三间隙腔进行
不同衬底温度下预沉积Ge对SiC薄膜生长的影响

分别在未沉积Ge 和不同衬底温度(300、500、700 ℃) 沉积Ge条件下,利用固源分子束外延(SSMBE) 技术在Si衬底上外延SiC薄膜。通过反射式高能电子衍射(RHEED) 、X射线衍射(XRD) 、原子力显微镜(AFM) 和傅里叶变换红外光
PET纤维基AZO透明导电薄膜溅射工艺参数的优化

室温下,结合正交实验表,用射频磁控溅射在涤纶(PET)非织造布基材上生长AZO(Al2O3:ZnO)纳米结构薄膜。采用四探针测量仪测试AZO薄膜的方块电阻,用原子力显微镜(AFM)分析薄膜微结构;通过正交分析法对实验L9(33)AZO薄膜的
真空钎焊不锈钢接头的钎缝组织和相组成特征

1Cr18Ni9Ti不锈钢是工业上使用最广泛的材料之一，用镍基钎料钎焊不锈钢，在钎缝中形成的化合物相对钎缝性能有很大的影响。本文采用金相分析和电子探针分析并配合X射线衍射物相分析对钎缝的相组成和钎缝中化合物相的
AC PDP高阻维持驱动方法

本文提出了一种AC PDP高阻维持驱动方法,在该方法中,采用高阻状态替换了传统维持驱动方法中的零电压状态。从而去掉了两次维持放电中间的放电通路,使得壁电荷在两次维持放电之间不会损失。
在线紫外辐照辅助沉积柔性ITO薄膜的研究

本文在射频磁控溅射过程中,引入在线紫外辐照,室温条件下在有机衬底上制备柔性ITO薄膜的工艺,其最低方块电阻为5Ω ,电阻率为2.5×10-4Ω·cm ,透光率为92% ,远远优于未采用紫外辐照制备的柔性ITO薄膜。
一种钢铁制件防腐蚀处理新工艺：真空渗锌

经真空渗锌技术处理的钢件具有很高的耐腐性和耐磨性，其生产过程不污染环境，热效率高，符合节能要求。因此，该项技术具有先进性和科学性。推广此项技术必将创造出良好的经济效益和社会效益。
金属的真空热处理工艺

热处理是机械零件和工模具制造过程中的重要工序之一。它可以控制工件的各种性能，如耐磨、耐腐蚀、磁性能等。还可以改善毛坯的组织和应力状态，以利于进行各种冷、热加工。