http://www.chvacuum.comhttp://www.chvacuum.com/application/film/ 真空镀膜 zh-cn <a target="_blank" href="http://www.miibeian.gov.cn/">皖ICP备07003986号</a>Copyright &copy; 2007-2012 <a target="_blank" href="http://www.chvacuum.com" title="专业的真空技术研究站点">真空技术网</a>(chvacuum.com). All Rights Reserved. losesky.cn@gmail.com http://www.chvacuum.com/application/film/052493.html 采用电子束蒸镀法在H2O+ O2气氛下制备了MgO介质保护膜,通过扫描电镜、X射线衍射(XRD)等方法分析了MgO薄膜的表面、截面形貌与晶体结构,研究了不同H2O流量下得到的MgO薄膜对等离子屏放电特性的影响。 2012-05-09 真空镀膜 段冰 四川虹欧显示器件有限公司 http://www.chvacuum.com/application/film/092472.html 采用直流热阴极等离子体化学气相沉积（PCVD）技术，通过在CH4/H2的混合反应气源中通入不同流量的N2,合成了掺氮纳米金刚石薄膜。 2011-09-28 真空镀膜 王明磊 牡丹江师范学院，新型碳基功能与超硬材料黑龙江省重点 http://www.chvacuum.com/application/film/092471.html 采用空心阴极等离子化学气相沉积方法,以NH3/H2的混合气体及CH4气体为原料反应气体,成功地制备了非晶的CHN薄膜,研究了CHN薄膜的沉积速率与直流电压及反应气体流量的关系。 2011-09-27 真空镀膜 倪静 四川大学原子分子物理研究所 http://www.chvacuum.com/application/film/092466.html 针对镀膜的特殊要求，通过分析传统控制方式的不足，提出了新型的控制方式，即光纤通讯。 2011-09-19 真空镀膜 姜亚南 核工业西南物理研究院 http://www.chvacuum.com/application/film/092456.html 针对真空磁控溅射射频电源阻抗匹配问题, 设计射频L型阻抗匹配网络结构。 2011-09-09 真空镀膜 汪洪波 合肥工业大学机械与汽车工程学院 http://www.chvacuum.com/application/film/092455.html 本文基于蒙特卡罗方法，并结合SRIM软件，编制程序跟踪模拟了磁控溅射各物理过程的粒子状态。 2011-09-07 真空镀膜 沈向前 贵州大学理学院 http://www.chvacuum.com/application/film/092454.html 采用直流热阴极PCVD方法间歇生长模式，在CH4-H2气氛常规制备微米晶金刚石膜的参数条件下，利用人工干预二次形核工艺，研究了间歇周期变化对制备纳米晶金刚石膜的影响。 2011-09-07 真空镀膜 陈玉强 牡丹江师范学院新型碳基功能与超硬材料省重点实验室 http://www.chvacuum.com/application/film/082446.html 采用外置式电容耦合低压等离子化学气相沉积法制备非晶CHN 薄，并分析其化学结构和成分分析。 2011-08-29 真空镀膜 李建根 中国工程物理研究院激光聚变研究中心 http://www.chvacuum.com/application/film/082441.html 为了解决真空镀膜机双轴密封问题, 对真空镀膜机双轴采用磁性液体密封, 设计了磁性液体密封整体结构、密封极齿和永久磁铁。 2011-08-25 真空镀膜 邢斐斐 北京交通大学机械与电子控制工程学院 http://www.chvacuum.com/application/film/042429.html 应用闭合磁场非平衡磁控溅射离子镀技术, 制备了不同Ti含量的MoS2合金减摩镀层, 研究了添加元素Ti含量对镀层厚度、硬度、摩擦系数等的影响规律。 2011-04-30 真空镀膜 熊学慧 宁波工程学院材料工程研究所 http://www.chvacuum.com/application/film/042428.html 本文通过真空蒸镀法制备得到含银型高密度聚乙烯(HDPE)基抗菌复合膜(Ag2O/HDPE) , 利用原子力显微镜、扫描电子显微镜及原子吸收光谱法测试手段对膜进行了表征, 并考察了复合膜的抗菌动力学和抗菌长效性, 以及对细菌的黏附性。 2011-04-30 真空镀膜 李亚娜 武汉工业学院机械学院 http://www.chvacuum.com/application/film/042427.html 通过直流磁控溅射法在单晶Si(100) 基底上制备了Zr/Nb/Si薄膜材料。 2011-04-30 真空镀膜 姚文清 清华大学化学系 http://www.chvacuum.com/application/film/042426.html 利用Gibbs自由能判据计算了室温和1000 K温度下TiAl体系非晶形成成分区间。 2011-04-30 真空镀膜 刘天伟 表面物理与化学重点实验室 http://www.chvacuum.com/application/film/042421.html 采用碳化钒靶的磁控溅射方法在不同的Ar气压下制备了一系列碳化钒薄膜, 利用能量分析光谱仪, X射线衍射,扫描电子显微镜, 原子力显微镜和微力学探针研究了气压对薄膜成分、相组成、微结构以及力学性能的影响。 2011-04-29 真空镀膜 沈洁 上海交通大学金属基复合材料国家重点实验室 http://www.chvacuum.com/application/film/042419.html 使用分子动力学方法模拟低能CH与碳氢薄膜的相互作用, 以探讨在核聚变过程中CH的再沉积行为及对面向等离子体材料性质变化的影响。 2011-04-29 真空镀膜 秦尤敏 贵州大学等离子体与材料表面作用研究所 http://www.chvacuum.com/application/film/042418.html 利用直流磁控溅射法, 在室温水冷玻璃衬底上成功制备出了可见光透过率高、电阻率低的钛镓共掺杂氧化锌( TGZO) 透明导电薄膜。 2011-04-29 真空镀膜 刘汉法 山东理工大学理学院 http://www.chvacuum.com/application/film/042415.html 在单晶Si(100)基体上利用电子回旋共振等离子体增强化学气相沉积法制备硅薄膜, 并采用X射线衍射谱(XRD)、透射电镜(TEM)、Raman光谱、电子自旋共振(ESR)波谱等实验方法研究了不同Ar流量下硅薄膜微结构及悬挂键密度的变化。 2011-04-28 真空镀膜 黄香平 中南大学物理科学与技术学院 http://www.chvacuum.com/application/film/042395.html 用真空阴极过滤电弧法沉积了厚度为2nm的类金刚石(DLC)薄膜, 研究了激光加热退火时薄膜结构和表面粗糙度的变化, 分析了激光加热功率对薄膜结构的影响。 2011-04-23 真空镀膜 车晓舟 华南理工大学材料科学与工程学院 http://www.chvacuum.com/application/film/042378.html 采用化学气相沉积(CVD)法制备高纯钛。 2011-04-01 真空镀膜 梁佰战 贵州大学材料与冶金学院 http://www.chvacuum.com/application/film/042377.html 采用双靶反应磁控溅射的方法在40Cr基体上制备了TiAlN薄膜和WTiN薄膜。 2011-04-01 真空镀膜 李学超 南京宝色股份公司 http://www.chvacuum.com/application/film/042376.html 采用IAD、IBS、MS等三种方法在CAB玻璃上制备了SiO2膜层,通过纳米压痕和划痕仪测量了膜层的纳米硬度和摩擦系数;利用傅里叶转换红外光谱仪对薄膜光谱性能进行了测量;利用SEM,观测膜层表面和断面形貌。 2011-04-01 真空镀膜 金扬利 中国建筑材料科学研究总院 http://www.chvacuum.com/application/film/042375.html 采用射频磁控溅射技术,制备了综合性能优良的AZO薄膜,通过不同退火工艺处理,研究了其对AZO薄膜的组织结构、电学性能及光学性能的影响。 2011-04-01 真空镀膜 闫都伦 深圳新南亚技术开发有限公司 http://www.chvacuum.com/application/film/042374.html 为有效提高手表外观件表面的耐磨、耐蚀性能和装饰性能,采用阳极层流型气体离子源结合非平衡磁控溅射技术,制备了梯度过渡掺钛类金刚石(Ti-DLC)膜层,并对其在手表外观件上的应用进行研究。 2011-04-01 真空镀膜 林松盛 广州有色金属研究院 http://www.chvacuum.com/application/film/042373.html 以烧结合成的CuInS2粉末为原料,采用单源热蒸发技术在玻璃基底上沉积CuInS2薄膜。 2011-04-01 真空镀膜 王震东 复旦大学材料科学系 http://www.chvacuum.com/application/film/042372.html 2011-04-01 真空镀膜 梁宏 北京师范大学射线束技术与材料改性教育部重点实验室北 http://www.chvacuum.com/application/film/042371.html 2011-04-01 真空镀膜 李剑锋 大连理工大学 http://www.chvacuum.com/application/film/042370.html 介绍了高分子材料PARYLENE的真空沉积机理及其优越性和不足。 2011-04-01 真空镀膜 何庆 上海交通大学微纳科学技术研究院微米/纳米加工技术国 http://www.chvacuum.com/application/film/042369.html 采用高功率复合脉冲磁控溅射的方法(HPPMS)在不锈钢基体上制备ZrN薄膜,对比DCMS方法制备的ZrN薄膜,得出HPPMS制备的薄膜表面更平整光滑、致密,既无空洞、又无大颗粒等缺陷。 2011-04-01 真空镀膜 吴忠振 哈尔滨工业大学现代焊接生产技术国家重点实验室 http://www.chvacuum.com/application/film/042368.html CSS方法制备的薄膜结晶较大,光学和电学性能好于CBD方法制备的薄膜,太阳能电池的光电转换效率达到10.9%. 2011-04-01 真空镀膜 韩俊峰 北京大学核物理与核技术国家重点实验室 http://www.chvacuum.com/application/film/042367.html 综述了微观四点探针技术近年来的研究进展,主要包括测试理论、系统结构与探针制备。 2011-04-01 真空镀膜 李建昌 东北大学机械工程与自动化学院真空流体工程研究中心 http://www.chvacuum.com/application/film/032358.html 提出采用镍硅颗粒薄膜作为表面传导电子发射显示的发射体材料，通过光刻和磁控溅射在两电极（10 μm 间隙）之间制备30 nm 厚的镍硅颗粒膜。 2011-03-02 真空镀膜 梁海锋 西安工业大学，光电工程学院 http://www.chvacuum.com/application/film/032357.html 根据蒸发源与基片之间的物理联系入手，分析基片- - 蒸发源距离对基片涂层均匀性的影响，进而对蒸发源与蒸发源、蒸发源与基片之间距离的确定，提出了自己的一些观点和看法。 2011-03-02 真空镀膜 徐树深 兰州理工大学温州泵阀工程研究院 http://www.chvacuum.com/application/film/032356.html 在现有的理论基础之上，对溅射镀膜的综合设计方法进行了初步的建立和研究，系统的建立可以采用“整体到部分，再到整体”这一动态设计理念，不断完善设计方法，并将设计方法分为镀膜设备工程设计、镀膜工艺设计和计算机数值仿真三大部分。 2011-03-02 真空镀膜 宋青竹 沈阳真空技术研究所 http://www.chvacuum.com/application/film/082321.html 采用反应射频磁控溅射技术在熔融石英玻璃衬底上制备了组分单一的二氧化钒薄膜。 2010-08-25 真空镀膜 张玲 兰州物理研究所，表面工程技术国家级重点实验室 http://www.chvacuum.com/application/film/082319.html SiC因其宽的禁带宽度、高的电子饱和速度、大的临界击穿场强、高的热导率和热稳定性等特性而成为制作高频、大功率和耐高温器件的理想材料。 2010-08-25 真空镀膜 盖志刚 兰州物理研究所 http://www.chvacuum.com/application/film/082318.html LiNbO3因其优异的压电性能和声表面波特性而被广泛应用于声表面波器件中。 2010-08-25 真空镀膜 王俊喜 郑州大学物理工程学院材料物理教育部重点实验室 http://www.chvacuum.com/application/film/082312.html 本研究利用SEM、AES、XRD、Raman 谱仪、纳米压痕仪、划痕仪和球- 盘磨损实验机对掺钨DLC膜的微观结构和摩擦学性能进行了研究 2010-08-22 真空镀膜 代明江 广州有色金属研究院材料表面工程研究所 http://www.chvacuum.com/application/film/082311.html 采用数值计算模型，计算了旋转圆柱靶溅射产额分布。 2010-08-22 真空镀膜 孟秀清 皇明太阳能股份有限公司镀膜研究所 http://www.chvacuum.com/application/film/082310.html 利用甚高频等离子增强化学气相沉积（VHF- PECVD）制备了一系列微晶硅（μc- Si:H）薄膜。 2010-08-22 真空镀膜 申陈海 郑州大学物理工程学院 http://www.chvacuum.com/application/film/082308.html 高功率脉冲磁控溅射技术（HPPMS）由于能够产生较高的离化率而受到人们的重视。 2010-08-21 真空镀膜 田修波 哈尔滨工业大学，现代焊接生产技术国家重点实验室 http://www.chvacuum.com/application/film/082307.html 采用真空电弧离子镀技术在K465镍基高温合金基材上制备了AlYSi沉积- 扩散型涂层。 2010-08-21 真空镀膜 张鹏飞 北京航空材料研究院 http://www.chvacuum.com/application/film/082302.html 应用闭合磁场非平衡磁控溅射离子镀系统，研究了溅射靶电流、偏压和Ar 流量对偏流密度的影响。 2010-08-18 真空镀膜 贺耀华 太原理工大学表面工程研究所 http://www.chvacuum.com/application/film/082291.html 利用等离子体增强化学气相沉积技术在硅基底上沉积了氢化非晶硅薄膜,通过纳米压入仪、电子薄膜应力分布仪、傅里叶变换红外光谱仪等表征技术,研究了沉积时的工艺参数对薄膜内应力的影 响,对薄膜的本征应力、热应力进行分析,并探讨了射频功率对薄膜红外吸收光谱的影响。 2010-08-13 真空镀膜 周顺 西安电子科技大学微电子学院 http://www.chvacuum.com/application/film/082290.html 在平面磁控溅射镀膜系统中，薄膜厚度均匀性作为衡量薄膜质量和成膜系统性能的一项重要指标，得到了国内外学者们的广泛研究。 2010-08-13 真空镀膜 于贺 电子科技大学光电信息学院电子薄膜与集成器件国家重点 http://www.chvacuum.com/zhanhui/05312239.html 2010深圳国际真空镀膜技术及设备展览会 2010-05-31 展览会议 王静 深圳会展中心 http://www.chvacuum.com/application/film/052236.html 采用磁控溅射仪在高阻Si(100)衬底上沉积了[Fe(0.5nm)/Si(1.6nm)]120和[Fe(1nm)/Si(3.2nm)]60多层膜,并在Ar气气氛下进行了1000℃,10s 的快速热退火。 2010-05-29 真空镀膜 郭艳 南京航空航天大学材料科学与技术学院 http://www.chvacuum.com/application/film/052235.html 为了揭示Al-C-N 非晶薄膜的结构、导电性以及它们之间的关系,本文采用非平衡磁控溅射沉积技术在Si (100) 基体上沉积得到了不同Al含量的Al-C-N薄膜。 2010-05-28 真空镀膜 罗庆洪 北京科技大学材料物理与化学系 http://www.chvacuum.com/application/film/052222.html 采用反应磁控溅射方法在ITO玻璃基片上制备WO3薄膜，并在不同温度下进行退火处理。 2010-05-22 真空镀膜 邓检 暨南大学物理学系 http://www.chvacuum.com/application/film/052213.html 基于PLC的直流电弧等离子喷射化学气相沉积金刚石设备自动控制系统 2010-05-19 真空镀膜 姜龙 河北省激光研究所 http://www.chvacuum.com/application/film/052212.html 从圆平面靶磁控溅射的原理出发，针对圆形平面靶面积小于基片面积的特点进行分析，建立膜厚分布的数学模型，并利用计算机进行模拟计算，目的在于探寻平面靶材面积小于基片面积时影响膜厚均匀性的因素 2010-05-19 真空镀膜 张以忱 东北大学