JB/T 10771-2007 复合分子泵技术标准

真空技术网 losesky.cn@gmail.com 15 JB/T 10771-2007 复合分子泵技术标准 http://www.chvacuum.com/biaozhun/02723.html JB/T10771-2007复合分子泵技术标准规定了复合分子泵的型式和基本参数，技术要求，测试方法，检验规则，标志、包装、运输和贮存等。适用于具有前级泵、变频电源的复合分子泵(以下简称泵)。 JB/T 10771-2007 真空技术复合分子泵 Vacuum technology-Hybrid molecular pumps 复合分子泵（Hybrid molecular <a target="_blank" href="http://www.chvacuum.com/pumps/">pumps</a>）是一种分子泵，其特征在于泵的进气口侧有一级，或者一级以上的涡轮分子泵抽气单元，泵的排气口侧有一级或者一级以上的<a target="_blank" href="http://www.chvacuum.com/pumps/jixie/09125.html">牵引分子泵</a>抽气单元，两种抽气单元串联抽气，组成一种有别于传统<a target="_blank" href="http://www.chvacuum.com/pumps/jixie/09133.html">涡轮分子泵</a>和牵引分子泵的新颖分子泵。 本标准规定了复合分子泵的型式和基本参数，技术要求，测试方法，检验规则，标志、包装、运输和贮存等。 本标准适用于具有前级泵、变频电源的复合分子泵(以下简称泵)。 起草单位：深圳大学  归口单位：全国真空技术标准化技术委员会   发布部门：国家发展和改革委员会 发布日期：2007-8-28   实施日期：2008-2-1   出版单位：机械工业出版社 <div> 更多真空技术标准请查看：<a href="http://www.chvacuum.com/biaozhun/061079.html">真空技术标准汇编</a> </div> JB/T10771-2007 复合分子泵真空标准深圳大学深圳大学 2009-02-25 12:37 JB/T 1092-1991 O型真空用橡胶密封圈型式及尺寸 http://www.chvacuum.com/biaozhun/03745.html JB1092-91O型真空用橡胶密封圈型式及尺寸技术标准适用于外部为大气压力、真空室压力高于1*10E-4Pa的往复运动真空机械设备的密封，在规定的温度下且往复运动速度低于0.2m/s。真空机械设备其他情况下的密封，也可选用O型密封圈。 O型真空用橡胶<a target="_blank" href="http://www.chvacuum.com/seal/">密封圈</a>型式及尺寸 JB 1092-91 中华人民共和国第一机械工业部标准 本标准规定了O型真空用橡胶密封圈的型式及尺寸。 本标准适用于外部为大气压力、真空室压力高于1*10E-4Pa的往复运动真空机械设备的密封，在规定的温度下且往复运动速度低于0.2m/s。真空机械设备其他情况下的密封，也可选用O型密封圈。 型号与尺寸： O型真空用橡胶密封圈型式及尺寸应该符合本技术标准。 <a target="_blank" href="http://www.chvacuum.com/uploads/userup/0903/031T14M531.gif"><img border="0" alt="O型圈" width="518" height="313" src="http://www.chvacuum.com/uploads/userup/0903/031T14M531.gif" /></a>  更多真空技术标准请查看：<a href="http://www.chvacuum.com/biaozhun/061079.html">真空技术标准汇编</a> JB1092-91 O型圈真空标准剑气书生真空技术网整理 2009-03-03 18:36 GB/T 4982-2003 真空技术快卸连接器尺寸第1部分:夹紧型 http://www.chvacuum.com/biaozhun/03750.html GB/T 4982—2003 真空技术快卸连接器尺寸第1部分:夹紧型标准规定了真空技术中使用的夹紧型连接器的尺寸和与连接器想配合的“O”形密封圈及其支架的尺寸。 GB/T 4982—2003 真空技术快卸连接器尺寸第1部分:夹紧型 Vacuum technology-Quick release couplings-Dimensions-Part 1 :Clamped type (ISO 2861-1:1974(E),IDT)         GB/T 4982—2003 真空技术快卸连接器尺寸第1部分:夹紧型标准等同采用国际标准ISO 2861-1:1974(E)(真空技术快卸连接器尺寸第1部分:夹紧型)}(英文版)。         本标准自实施之日起，代替GB/T 4982-1985《夹紧型真空快卸法兰》。         为便于使用，本标准做了下列编辑性修改:         a) 用小数点“.”代替作为小数点的逗号‘，’;         b) 删除国际标准的前言;         c) 基本偏差代号改为公差值。         为使本标准能够使用，在附录A中补充了卡箍型式和尺寸。 一、范围         GB/T 4982—2003 真空技术快卸连接器尺寸第1部分:夹紧型标准规定了<a target="_blank" href="http://www.chvacuum.com">真空</a>技术中使用的夹紧型连接器的尺寸和与连接器想配合的“O”形<a target="_blank" href="http://www.chvacuum.com/seal/">密封圈</a>及其支架的尺寸。         注：这里规定了连接器的通径尺寸，以保证快卸连接器与相应的ISO1609真空法兰尺寸相匹配。 二、连接器         型式见图1，尺寸见表1, <a target="_blank" href="http://www.chvacuum.com/uploads/userup/0903/0515164O2F.gif"><img border="0" alt="快卸法兰" width="454" height="502" src="http://www.chvacuum.com/uploads/userup/0903/0515164O2F.gif" /></a>   更多真空技术标准请查看：<a href="http://www.chvacuum.com/biaozhun/061079.html">真空技术标准汇编</a> GB/T4982—2003 快卸连接器夹紧型真空标准剑气书生真空技术网整理 2009-03-05 15:12 JB/T 5298管线用钢制平板闸阀技术标准 http://www.chvacuum.com/biaozhun/04932.html 管线用钢制平板闸阀JB/T 5298技术标准。 1 范围    本标准适用于公称压力pN 1.6~16MPa，公称通径DN 50~1000mm，温度–29~121℃，介质为石油、天然气等管线用钢制平板闸阀（以下简称闸阀）。 2 引用标准    GB 1047 管子与管路附件公称通径    GB 1048 管子和管路附件公称压力和试验压力    GB 4981 工业用阀门的压力试验    GB 9113.1~9113.26 整体钢制管法兰    GB 9115.1~9115.26 对焊钢制管法兰    GB 9131 钢制管法兰压力–温度等级    GB 12220 通用阀门标志    GB/T 12252 通用阀门供货要求    GB 12234 通用阀门法兰和对焊连接钢制闸阀    JB/T 5300 通用阀门材料    ZB J16 006 阀门的试验与检验 (现为JB/T 9092-1999)    JB 308 阀门型号编制方法 3 术语 两密封面与垂直中心线平行、弹性浮动阀座与闸板在启闭中始终相互贴合、闸板为板状的一种平行式闸阀。 4 型式与基本参数 4.1 型式 4.1.1 产品型号编制方法按JB 308 的规定。 4.1.2 型式有单闸板、双闸板以及带导流孔和无导流孔的四种，具体结构如图1、图2 所示。 <a target="_blank" href="http://www.chvacuum.com/uploads/userup/0904/1Q95620S56.jpg"><img border="0" alt="JB/T5298" width="531" height="405" src="http://www.chvacuum.com/uploads/userup/0904/1Q95620S56.jpg" /></a>  4.2 基本参数 4.2.1 公称压力按GB 1048 的规定。 4.2.2 公称通径按GB 1047 的规定。 4.2.3 钢制管法兰压力–温度等级按GB 9131 的规定。 5 技术要求 5.1.1 法兰连接的结构长度按表1 的规定，焊接连接的结构长度按表2 的规定。 5.1.2 结构长度公差：公称通径小于或等于DN 250mm 时，极限偏差为±1.6mm。公称通径等于或大于DN 300mm 时，极限偏差为±3.2mm。 5.1.3 阀体的最小壁厚按表3 的规定。 5.1.4 法兰的连接尺寸以及密封面的形状和尺寸按GB 9113.1~9113.26 和GB 9115.1~9115.26 的规定。 5.1 阀体   两密封面与垂直中心线平行、弹性浮动阀座与闸板在启闭中始终相互贴合、闸板为板状的一种平行式闸阀。   本标准规定了管线用钢制平板闸阀产品的术语、型式与基本参数、技术要求、试验方法、检验规则和标志、包装、贮存的基本要求。 更多真空技术标准请查看：<a href="http://www.chvacuum.com/biaozhun/061079.html">真空技术标准汇编</a> 管线用钢制平板闸阀 JB/T5298 技术标准真空标准中华人民共和国机械电子工业部 2009-04-18 19:49 GB/T 6071-2003超高真空法兰技术标准 http://www.chvacuum.com/biaozhun/05978.html GB/T 6071-2003超高真空法兰技术标准规定了内焊型、松套型、盲型超高真空法兰(以下简称法兰)和铜密封垫的型式、尺寸及技术要求。 本标准代替GB/T 6071.1-1985((超高真空法兰结构型式》,GB/T 6071.2-1985((超高真空法兰尺寸》,GB/T 6071. 3-1985《超高<a href="http://www.chvacuum.com/">真空</a>法兰用铜密封垫》。 本标准与GB/T 6071. 1-6071.3-1985相比主要变化如下: — 将D，的负公差调整为正公差; — 对部分法兰的基本尺寸进行了调整，将外径D36改为D34,D56改为D54,D62改为D60,D71改为D70,D89改为D86, — 增加了DN (25) , DN250规格; — 刀口处向内倾斜5-，刀口总深度由原1. 5 mm调整为1. 2 mm; — 法兰的烘烤温度由原450℃改为不大于300'C; — 法兰公称通径DN直通到法兰刀口底面; — 调整了铜密封垫的环带尺寸; — 为方便使用将图和对应的表排在一起。 本标准由全国真空技术标准化技术委员会(CSBTS/TC 18)提出并归口。 GB/T 6071-2003超高真空法兰<a href="http://www.chvacuum.com/biaozhun/">技术标准</a> 范围 本标准规定了内焊型、松套型、盲型超高真空法兰(以下简称法兰)和铜密封垫的型式、尺寸及技术要求。 本标准适用于超高真空系统中公称通径为16 mm-250 mm用铜垫密封的不锈钢法兰及铜密封垫。 规范性引用文件 下列文件中的条款通过本标准的引用而成为本标准的条款。凡是注日期的引用文件，其随后所有的修改单(不包括勘误的内容)或修订版均不适用于本标准，然而，鼓励根据本标准达成协议的各方研究是否可使用这些文件的最新版本。凡是不注日期的引用文件，其最新版本适用于本标准。 GB/T 1800(所有部分) 极限与配合基础 GB/T 5231-2001 加工铜及铜合金化学成分和产品形状 GB/T 1220-1992 不锈钢棒 型式与尺寸法兰与接管的连接型式应符合图1的规定，尺寸应符合表1的规定。 内焊型法兰的型式应符合图2的规定，尺寸应符合表2的规定。 松套型法兰的型式应符合图3的规定，尺寸应符合表3的规定; 松套型法兰肩环(以下简称肩环)的型式应符合图4的规定，尺寸应符合表4的规定。 盲型法兰的型式应符合图5的规定，尺寸应符合表5的规定。 铜密封垫的型式应符合图6的规定，尺寸应符合表6的规定。 技术要求 法兰的公称通径一般与接管内径一致，但在不妨碍法兰连接的情况下，可以适当改变。 公称通径小于25 mm的法兰或肩环，可与接管制成一体。 接管与法兰或肩环的内焊缝为连续氢弧焊焊接。 法兰烘烤温度不大于3000C。反复烘烤时，密封处漏气率小于1. 0 X 10-a Pa·L/S, 螺栓、螺母及垫圈与法兰装配时一般应在螺栓、螺母之间加二硫化钥润滑剂。 法兰的密封刀口不允许有碰伤、划伤、斑痕及其他影响真空密封性能的缺陷。 法兰推荐使用GB/T 1220-1992规定的OCr18Ni9或1Cr18Ni9Ti不锈钢制造。 铜密封垫推荐使用GB/T 5231-2001中规定的TU,或TU:铜板制造。 未注明公差尺寸按GB/T 1800中的IT12加工。 更多真空技术标准请查看：<a href="http://www.chvacuum.com/biaozhun/061079.html">真空技术标准汇编</a> GB/T6071-2003 超高真空法兰真空标准张廷阁全国真空技术标准化技术委员会 2009-05-06 10:29 GB/T 18193-2000 真空技术质谱检漏仪校准 http://www.chvacuum.com/biaozhun/051052.html GB/T 18193-2000质谱检漏仪校准标准用在真空技术领域中是一系列泄漏试验程序和装置标准之一。 GB/T 18193—2000 真空技术质谱检漏仪校准 Vacuum technology一Mass-spectrometer-type leak detector calibration          GB/T 18193—2000 真空技术质谱检漏仪校准等同采用ISO 3530:1979《真空技术质谱检漏仪校准》，在技术内容上与该国际标准等效。但是考虑到我国标准本身的特点及汉语的表述习惯，使该标准既与国际标准接轨，又适合我国的国情，为此，对ISO 3530:1979标准的个别内容作了编辑性修改。          GB/T 18193—2000 真空技术质谱检漏仪校准规定了质谱检漏仪校准的使用程序，即测定质谱检漏仪灵敏度。但该程序需要使用的一个校准漏孔和一种标准的气体混合物，不在这个标准的范围内。质谱检漏仪以下简称“检漏仪”。检漏仪用于机械孔(如针孔)的漏量和通过许多聚合材料而发生的漏气的探测。那些表面解吸、气化和气穴的虚漏，一般不能用检漏仪探测。          漏率校准范围限制在一个规定的水平，因为对于较大泄漏这个因素是不重要的，而对于漏率小于10-,z Pa " m' " s-，的泄漏，这个因素就变得重要了。检漏仪检验的对象可以在高真空条件下或者高于大气压下。一般在两种情况下检漏技术将不同。在第一种情况下，检漏仪通常在接近它的低的极限压力下进行工作;在第二种情况下，检漏仪常被使用在其最大或接近最大工作压力。对应于这两个工作条件，两个灵敏度术语定为:“最小可检漏率”和“最小可检浓度比”(见本标准第2章)。          这样定义的两个量是有关系的，但是，从一个数据去算得另一个数据不可行。因此规定了测定两者的方法。          GB/T 18193—2000质谱检漏仪校准标准用在真空技术领域中是一系列泄漏试验程序和装置标准之一。应用分类:气密性、检漏仪校准、漏孔的校准、气体混合物、检漏仪验收规范和真空设备的气密检验的一般程序。          上述应用分类中的一些项构成将来标准的课题。 范围          本标准规定了质谱检漏仪的校准程序它仅适用于校准将灵敏元件处于高真空系统中的检漏仪。因此这个方法没有制订完整的验收试验。          本标准规定探索气体使用氦一4。但在适当的预防措施下，可以使用其他探索气体，如氢-400          本标准的应用受到检漏仪不能测定小于10-" Pa "m'"s-'漏率漏孔限制。          本标准程序提出了测定最小可检漏率和最小可检浓度比的两个要点。它分别应用于高真空和压力大于一个大气压的检漏仪上。 定义          本标准采用下列定义。 2.1本底(或残余信号)background(or residual signal) 2.1.1本底background          没有注人探索气体时，检漏仪给出的总的假象指示(本底发生在质谱管中或在电极电子系统中或同时发生在两者中。由于离子不同于注人探索气体所产生的离子，所以该术语习惯称为指示)。 2.1.2 漂移drift          本底较缓慢的改变。有效的参量是在规定的期间内测得的最大漂移。 2.1.3 噪声noise          本底比较快地改变。有效的参量是在规定的期间内测得的噪声。 2. 1.4 氦本底helium background          由检漏仪壁或检漏系统释放出氦所造成的本底。 2. 2 元件components 2.2. 1 人CI管路或试样人口管路inlet line or sample inlet line          探索气体从试验件流到检漏仪经过的管路 2.2.2 人口阀inlet valve          连接试样与检漏仪的阀门(见图1)，它是检漏仪的主要部件。 2. 2. 3 漏孔隔离阀leak isolation valve          安装在试验检漏仪所用的漏孔和试样人口管路之间的阀门(见图1)0 2. 2.4 抽气阀pump valve          安装在抽空试样人口管路使用的粗抽泵和管路之间的阀(见图1), 2.2. 5 放气  vent valve          用来引进空气或其他气体进人抽空的空问·以使那里压力增加到大气压的一个阀门(见图1)0 2.2. 6 补偿控制:调零控制backing-off control, zero control          检漏仪中的一种电控制，它可以改变仪表的输出指示。当补偿控制用于使输出指示返回到刻度盘的零时也可称为调零控制。 2.2.7 质谱管mass spectrometer tube          它是检漏仪的一个元件，探索气体在质谱管内被电离并被测定。 2.2.8 阴极filament          安装在质谱管内用于电离气体的(热的)电子源。 2.3探索气体search gas          在真空测试中，作用在被检设备外表面通过漏孔进人设备或在高于一个大气压测试中，充人被检设备后通过漏孔逸出而进行探测的气体。 2.4 漏孔leaks 2.4.1 漏孔leak          在真空技术中是一个孔洞、孔隙、渗透因素或一个封闭器壁上的其他结构在压力或浓度差作用下，使气体从器壁的一侧到另一侧。也可以是一个可用于向真空系统引人气体的装置。 2.4.2 通道漏孔channel leak          可以把它理想地当做长毛细管的一个或多个不连续通道组成的漏孔。 2.4.3薄膜漏孔membrane leak          允许气流通过或渗透穿过无孔壁的一种漏孔。对于氦，这种壁可以是玻璃、石英或其他适合的材料。#p#分页标题#e# 2.4.4分子漏孔molecular leak          漏孔的质量流率正比于流动气体分子质量平方根的倒数的一种漏孔。 2.4. 5砧滞漏孔viscous leak          漏孔的质量流率正比于流动气体钻度的倒数的一种漏孔。 2.4.6 校准漏孔calibrated leak          在规定条件下，对于规定气体已知质量流量的一种漏孔。 2.4.7 标准漏孔standard leak          在标准状态下，漏率已知的校准漏孔，即漏孔一端温度为(23士7)0C，压力为(100士5) kPa，而另一端压力较低致使对漏率的影响可以忽略。 2.4.8 虚漏virtual leak          在系统内，由于气体或蒸气的放出所引起的压力增加。 2. 5 漏率leak rates 2.5. 1 漏率leak rate          在规定条件下，规定气体通过漏孔的流量(单位为Pa " m' " s-'),          注:体积流率另一称呼是“抽速”。当规定了温度和气体分子质量时，流量和质量流率是等值的。 2.5.2 标准空气漏率standard air leak rate          在规定的标准状态下，露点低于一25℃的空气通过一个漏孔的漏量。该标准状态是人口压力为(100士5) kPa，出口压力低于1 kPaI温度为(23士7)0C a 2.5. 3 等值标准空气漏率equivalent standard air leak rate          对于低于10-'-10-' Pa " m' " s-’标准空气漏率的分子漏孔，氦(分子量4)流经这样的漏孔比空气(分子量29.0)更快，即氦流率对应较小的空气流率，规定条件下，等值标准空气漏率为、反下- -4-/万 =0.37氦漏率。 2.6 检漏仪的操作operation of the leak detector 2.6.1峰值peak          当检漏仪用现有的气体作扫描时，在图形记录器上显示的最大轨迹(通常检漏仪对这个探索气体是灵敏的)。 2.6.2调峰peak          调整份漏仪的扫描控制(见2.6-3)，使得由于探索气体的输人和输出信号最大。 2.6.3 扫描scan          改变检漏仪的加速电压(或其他等值工作参数)，其改变范围内包括探索气体产生峰值的电压。 2.6.4 调谐tune          在检漏技术中，调整检漏仪的一个或多个控制，使其对探索气体响应变得最大。仅利用扫描控制调谐叫做脉冲峰化。 2.6.5 调零zero          调整补偿或调零控制，使得检漏仪的输出指示在刻度盘的零处或某些其他标准点上。 2.7 灵敏度术语sensitivity terms 2.7.1 灵敏度sensitivity          仪表输出变化与引起响应的输人变化的比. 2.7.2 最小可检信号minimum detectable signal          由于引进探索气体而产生的噪声和漂移信号之和。 2.7.3最小可检漏孔，最小可检漏率minimum detectable leak.minimu二一detectable leak rate          由漏孔的标准空气漏率确定的，能够用检润仪明显检出的最小漏孔。最小可检漏率是由在离子源测量的探索气体的体积流率qt.‘和在离子源中测定的探索气体的最小分压力户。所决定的，根据公式:最小可检漏率=Pa X 4vi最小可检漏率为最小可检信号和灵敏度之比。注:考虑到本底、休积流率(抽速)和时间因素的测定最小可检漏率的实用程序 2.7.4 最小可检浓度比minimum detectable concentration ratio          当混合物以规定的速率被输人检漏仪时，检漏仪能明显检出在一种空气混合物中给定探索气体最小浓度比。本标准中，最小可检漏率可用从观察检漏仪对已知氦一空气混合物的浓度响应比计算(见3.5)。 2.8时间因数Time factors 2.8门时间常数r time constant          仪器或系统的输出变化所需要的时间间隔，该间隔是1-告或由于突然输人变化而导致极限(稳定状态)63%的输出变化。 2.8.2响应时间response time          从零或小的漏率指示到正的或较大的漏率指示的变化所对应的时间常数。 2.8.3 清洗时间;清除时间cleanup time,clearing time          从正的漏率指示到一个小的或零漏率指示的变化所对应的时间常数。注:假设响应时间和清洗时间是相等的。 更多真空技术标准请查看：<a href="http://www.chvacuum.com/biaozhun/061079.html">真空技术标准汇编</a> GB/T18193-2000 质谱检漏仪校准真空标准中华人民共和国国家标准国家质靛技术监督局 2009-05-27 15:00 GB/T 3163-2007 真空技术术语 http://www.chvacuum.com/biaozhun/061078.html GB/T 3163-2007 真空技术术语标准规定了真空技术方面的一般术语。 GB/T 3163-2007 真空技术术语 Vacuum technology - Terminology (ISO 3529:1981 Vacuum technology—Vocabulary , MOD)         GB/T 3163—2007 真空技术术语 技术标准采用ISO 3529-1：1981《真空技术术语第一部分：一般术语》（英文版）、ISO 3529-2：1981《真空技术术语第二部分：真空泵及有关术语》（英文版）和ISO 3529-3：1981《真空技术术语第三部分：真空计》（英文版）。         GB/T 3163—2007 真空技术术语 标准对ISO 3529-1：1981、ISO3529-2：1981和ISO3529-3：1981进行了整合并重新起草。         在采用ISO 3529：1981《真空技术术语》时，删除了国际标准的前言，考虑到技术的发展，本标准增加了一些条款，也做了一些编辑上的修改：         GB/T 3163—2007 真空技术术语标准代替GB/T3163-1993《真空技术术语》 一、范围         GB/T 3163—2007 真空技术术语标准规定了真空技术方面的一般术语、真空泵及有关术语、真空计术语、真空系统及有关术语、检漏及有关术语、真空镀膜技术术语、真空干燥和冷冻干燥术语、表面分析技术术语和真空冶金术语。         GB/T 3163—2007 真空技术术语标准适用于真空技术方面的技术文件、标准、书籍和手册等有关资料的编写。 二、一般术语 2.1 、标准环境条件 standard ambient conditions         温度：20度         相对湿度：65%         干燥空气大气压力：101325Pa=1013.25mbar 2.2、标准气体状态 standard reference conditions for gases         温度：0度         压力：101325Pa 2.3、真空 vacuum         用于描述低于大气压力或大气质量密度的稀薄气体状态或基于该状态环境的通用术语。 更多真空技术标准请查看：<a href="http://www.chvacuum.com/biaozhun/061079.html">真空技术标准汇编</a> GB/T3163-2007 真空技术术语真空标准中国国家标准化管理委员会真空技术网整理 2009-06-01 13:13 GB/T 3164-2007 真空技术图形符号 http://www.chvacuum.com/biaozhun/061080.html GB/T 3164-2007 真空技术图形符号 GB/T 3164-2007 真空技术图形符号 Vacuum technology - Graphical symbols         GB/T 3164-2007 真空技术图形符号标准与国际标准ISO 14617-8：2002《图形符号第8部分：阀与阻尼器》、ISO 14617-9：2002《图形符号第9部分：泵、压缩机与鼓风机》的一致性程度为非等效。         本标准替代GB/T 3164-1993《真空技术系统图用图形符号》。         本标准与GB/T 3164-1993相比，主要变化如下：         增加了干式真空泵等图形符号；         修改了GB/T 3164-1993中5.1.1.3<a href="http://www.chvacuum.com/zt/200903/22-825.html">罗茨真空泵</a>、5.1.1.4滑阀真空泵、5.1.1.6往复真空泵、5.5.6气动或液动阀的图形符号，并给出新的符号；         删除了GB/T 3164-1993的5.1.1.1.1气镇泵、5.1.1.5<a href="http://www.chvacuum.com/pumps/jixie/09116.html">余摆线真空泵</a>、5.2.3铂尔贴型挡板、5.4.2.1超高真空热阴极电离真空计、5.5.12盲法兰； 一、范围         GB/T 3164-2007 真空技术图形符号  本标准规定了<a href="http://www.chvacuum.com/pumps/">真空泵</a>、<a href="http://www.chvacuum.com/valve/">真空阀门</a>、<a href="http://www.chvacuum.com/zt/200903/22-831.html">挡板</a>、过滤器、真空管等八部分的图形符号。         本标准适用于与真空技术有关的各种系统图。 二、规范性引用文件         下列文件中的条款通过本标准的引用而成为本标准的条款。凡是注日期的引用文件，其随后所有的修改单或者修订版均不适用于本标准，然而，鼓励根据本标准达成协议的各方研究是否可使用这些文件的最新版本。凡是不注日期的引用文件，其最新版适用于本标准。         <a href="http://www.chvacuum.com/biaozhun/061078.html">GB/T 3163 真空技术术语</a>         GB/T 6567.1-1986 管路系统的图形符号基本原则         GB/T 6567.2-1986 管路系统的图形符号管路(eqv ISO 4067-1:1984)         GB/T 6567.3-1986 管路系统的图形符号管件(eqv ISO 4067-1:1984)         GB/T 6567.4-1986 管路系统的图形符号阀门和控制元件(eqv ISO 4067-1:1984)         ISO 14617-8：2002 图形符号第8部分：阀与阻尼器         ISO 14617-9：2002 图形符号第9部分：泵、压缩机与鼓风机  更多真空技术标准请查看：<a href="http://www.chvacuum.com/biaozhun/061079.html">真空技术标准汇编</a> GB/T3164-2007 图形符号真空标准中国国家标准化管理委员会真空技术网整理 2009-06-01 17:58 GB/T 6070-2007 真空技术法兰尺寸 http://www.chvacuum.com/biaozhun/061081.html GB/T 6070-2007 真空技术法兰尺寸标准规定了使用在真空技术中的低、中、高真空设备所用固定法兰、活套法兰和卡钳法兰的尺寸。 GB/T 6070—2007 真空技术法兰尺寸 Vacuum technology—Flange dimensions (ISO 1609:1986,MOD)       GB/T 6070—2007 真空技术法兰尺寸标准修改采用ISO 1609：1986《真空技术法兰尺寸》(英文版)。       本标准根据ISO 1609：1986重新起草。在附录D中列出了本标准章条编号与ISO 1609：1986章条编号的对照一览表。       考虑到我国国情，在采用ISO 1609：1986时，本标准做了些修改；删除了ISO 1609：1986的前言；有关技术性差异已编入正文中并在它们所涉及的条款的页边空白处用垂直单线标识。在附录E中给出了这些技术性差异及其原因的一览表以供参考。       本标准代替GB/T 6070—1995《真空法兰》       GB/T 6070—2007 真空技术法兰尺寸与GB/T 6070—1995的主要变化如下：       根据GB/T 1.1—2000的要求增加了前言；       根据GB/T 1.1—2000的要求增加了“2 规范性引用文件”；       根据ISO 1609：1986，将本文编辑内容中的2.1~2.5修改为3.1~3.9；       增加了所有规格的法兰内径尺寸； 一、范围       本标准规定了使用在真空技术中的低、中、高真空设备所用固定法兰、活套法兰和卡钳法兰的尺寸。适用于低、中、高真空设备连接法兰。       该尺寸可以保证固定法兰、活套法兰和卡钳法兰之间的互换性。 二、规范性引用文件       下列文件中的条款通过本标准的引用而成为本标准的条款。凡是注日期的引用文件，其随后所有的修改单或者修订版均不适用于本标准，然而，鼓励根据本标准达成协议的各方研究是否可使用这些文件的最新版本。凡是不注日期的引用文件，其最新版适用于本标准。       GB/T 321—2005 优先数和优先数系(ISO 3:1973,IDT)；       GB/T 1800.1—1997 极限与配合基础第1部分：词汇(neq ISO 286-1:1988)       GB/T 1800.2—1997 极限与配合基础第2部分：公差、偏差和配合的基本规定(eqv ISO 286-1:1988)       GB/T 1800.3—1997 极限与配合基础第3部分：标准公差和基本偏差数值表(neq ISO 286-1:1988)       GB/T 1800.4—1997 极限与配合标准公差等级和孔、轴的极限偏差表(neq ISO 286-1:1988)       GB/T 3452.1—2005 液压气动用O形橡胶密封圈第一部分：尺寸系列及公差(ISO 3601-1:2002.MOD)       GB/T 4982—2003 真空技术快卸连接器尺寸第一部分：夹紧型(ISO 2861-1:1974,IDT)       GB/T 5277—1985 紧固件螺栓和螺孔通孔(eqv ISO 273:1979)       GB/T 5286—2001 螺栓、螺钉和螺母用平垫圈总方案(IDT ISO 887:2000)       GB/T 17395—1998 无缝钢管尺寸、外形、重量及允许偏差(neq ISO 1127;1992、ISO 4200:1991、ISO 5252：1991) 更多真空技术标准请查看：<a href="http://www.chvacuum.com/biaozhun/061079.html">真空技术标准汇编</a> GB/T6070-2007 真空技术法兰尺寸真空标准中国国家标准化管理委员会真空技术网整理 2009-06-01 18:37 GB/T 6071-2003 超高真空法兰 http://www.chvacuum.com/biaozhun/061082.html GB/T6071-2003 超高真空法兰标准规定了内焊型、松套型、盲型超高真空法兰和铜密封垫的型式、尺寸及技术要求。        GB/T 6071—2003  超高真空法兰标准代替GB/T 6071.1-1985((超高真空法兰结构型式》,GB/T 6071.2-1985((超高真空法兰尺寸》,GB/T 6071. 3-1985《超高真空法兰用铜密封垫》。        GB/T 6071—2003  超高真空法兰标准与GB/T 6071. 1~6071.3-1985相比主要变化如下：        — 将D，的负公差调整为正公差；        — 对部分法兰的基本尺寸进行了调整，将外径D36改为D34,D56改为D54,D62改为D60,D71改为D70,D89改为D86。        — 增加了DN (25) , DN250规格；        — 刀口处向内倾斜5度，刀口总深度由原1. 5 mm调整为1. 2 mm；        — 法兰的烘烤温度由原450℃改为不大于300℃；        — 法兰公称通径DN直通到法兰刀口底面；        — 调整了铜密封垫的环带尺寸；        — 为方便使用将图和对应的表排在一起。 一、范围        GB/T 6071—2003  超高真空法兰标准规定了内焊型、松套型、盲型超高真空法兰(以下简称法兰)和铜密封垫的型式、尺寸及技术要求。        本标准适用于超高真空系统中公称通径为16 mm-250 mm用铜垫密封的不锈钢法兰及铜密封垫。 二、规范性引用文件        下列文件中的条款通过本标准的引用而成为本标准的条款。凡是注日期的引用文件，其随后所有的修改单(不包括勘误的内容)或修订版均不适用于本标准，然而，鼓励根据本标准达成协议的各方研究是否可使用这些文件的最新版本。凡是不注日期的引用文件，其最新版本适用于本标准。        GB/T 1800(所有部分) 极限与配合基础        GB/T 5231-2001 加工铜及铜合金化学成分和产品形状        GB/T 1220-1992 不锈钢棒 三、型式与尺寸        1、法兰与接管的连接型式应符合图1的规定，尺寸应符合表1的规定。        2、内焊型法兰的型式应符合图2的规定，尺寸应符合表2的规定。        3、松套型法兰的型式应符合图3的规定，尺寸应符合表3的规定；              松套型法兰肩环(以下简称肩环)的型式应符合图4的规定，尺寸应符合表4的规定。        4、盲型法兰的型式应符合图5的规定，尺寸应符合表5的规定。        5、铜密封垫的型式应符合图6的规定，尺寸应符合表6的规定。 更多真空技术标准请查看：<a href="http://www.chvacuum.com/biaozhun/061079.html">真空技术标准汇编</a> GB/T6071-2003 超高真空法兰真空标准中国国家标准化管理委员会真空技术网整理 2009-06-01 22:10 GB/T 4983-2003 真空技术快卸连接器尺寸第2部分:拧紧型 http://www.chvacuum.com/biaozhun/061086.html GB/T 4983-2003 真空技术快卸连接器尺寸第2部分:拧紧型标准规定了真空技术中使用的拧紧型连接器的尺寸和与连接器尾管相配合的“O”形密封圈及其衬套的尺寸。 GB/T 4983—2003 真空技术快卸连接器尺寸第2部分:拧紧型 Vacuum technology-Quick release couplings--Dimensions-Part 2：Screwed type （IS0 2861-2：1980(E)，IDT)        GB/T 4983—2003 真空技术快卸连接器尺寸第2部分:拧紧型标准等同采用国际标准ISO 2861-2e1980(E)(真空技术快卸连接器尺寸第2部分：拧紧型》（英文版）。        本标准自实施之日起，代替GB/T 4983-1985《拧紧型真空快卸法兰》。 一、范围        GB/T 4983—2003 真空技术快卸连接器尺寸第2部分:拧紧型标准规定了真空技术中使用的拧紧型连接器的尺寸和与连接器尾管相配合的“O”形密封圈及其衬套的尺寸。 二、规范性引用文件        下列文件中的条款通过本标准的引用而成为本标准的条款。凡是注日期的引用文件，其随后所有的修改单（不包括勘误的内容）或修订版均不适用于本标准，然而，鼓励根据本标准达成协议的各方研究是否可使用这些文件的最新版本。凡是不注日期的引用文件，其最新版本适用于本标准。        GB/T 4982-2003 真空技术快卸连接器尺寸第I部分：夹紧型(ISO 2861-1:1974,IDT) 三、要求        各种拧紧型快卸连接器应根据它的公称通径并参照本标准来确定。 四、连接器尾管        型式见图I，尺寸见表1。图中尾管密封表面的粗糙度应小于1.6 um。 <a target="_blank" href="http://www.chvacuum.com/uploads/userup/0906/02201UH150.gif"><img border="0" alt="连接器尾管" width="439" height="440" src="http://www.chvacuum.com/uploads/userup/0906/02201UH150.gif" /></a>  更多真空技术标准请查看：<a href="http://www.chvacuum.com/biaozhun/061079.html">真空技术标准汇编</a> GB/T4983-2003 快卸连接器拧紧型真空标准全国真空技术标准化技术委员会真空技术网整理 2009-06-02 20:10 GB/T 11164-1999 真空镀膜设备通用技术条件 http://www.chvacuum.com/biaozhun/061087.html GB/T 11164-1999 真空镀膜设备通用技术条件标准规定了真空镀膜设备技术要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输和贮存等。 GB/T 11164—1999 真空镀膜设备通用技术条件 Vacuum coating plant generic specification        GB/T 11164—1999 真空镀膜设备通用技术条件标准是对GB/T 11164-1989《真空镀膜设备通用技术条件》进行修订而编制的。        在内容上，对某些技术指标进行了修改.如:B类镀膜设备抽气时间从原来的15,20 min改为10min;增加了升压率指标;并且由于原标准中C类镀膜设备国内已无生产厂生产.在本次标准修订中将C类产品取消。        本标准自实施之日起代替GB/T 11164-1989。 一、范围        GB/T 11164—1999 真空镀膜设备通用技术条件标准规定了真空镀膜设备技术要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输和贮存等。        本标准适用于压力在10-4- 10-3Pa范围的蒸发类、溅射类、离子镀类真空镀膜设备(以下简称设备) 二、引用标准        下列标准所包含的条文，通过在本标准中引用而构成为本标准的条文。本标准出版时，所示版本均为有效，所有标准都会被修订，使用本标准的各方应探讨使用下列标准最新版本的可能性。        GB 191-199 包装储运图示标志        GB/T 6070-1995 真空法兰        GB/T 13384-1992 机电产品包装通用技术条件        JB/T 7673-1995 真空设备型号编制方法 三、定义        本标准采用下列定义。        3.1 极限压力        真空系统正常工作时，空载干燥的镀膜室逐渐稳定的最低压力。单位:Pa,        3.2 抽气时间        真空系统正常工作时，将空载干燥的镀膜室从大气压(105Pa)抽到规定的压力所需要的时间。单位:min。        3.3 升压率        将空载干燥的镀膜室连续抽气至稳定的最低压力后，截止抽气，在镀膜室内由于漏气或内部放气所造成的单位时间的升压。单位:Pa/h。        四、技术要求        1 设备正常工作条件        1.1 环境温度:10-30'C.        1.2 相对湿度:不大于75%。        1.3 冷却水进水温度:不高于25'C。        1.4 冷却水质:城市自来水或质量相当的水。 更多真空技术标准请查看：<a href="http://www.chvacuum.com/biaozhun/061079.html">真空技术标准汇编</a> GB/T11164-1999 真空镀膜真空标准国家质量技术监督局真空技术网整理 2009-06-02 20:29 GB/T 16709-1996 真空技术管路配件装配尺寸 http://www.chvacuum.com/biaozhun/061088.html GB/T 16709-1996 真空技术管路配件装配尺寸标准规定了公称通径R5系列从10~250真空管路配件(弯管、T形管、十字管)的装配尺寸。 GB/T 16709—1996 真空技术管路配件装配尺寸 Vacuum technology-Pipeline fittings-Mounting dimension         GB/T 16709—1996 真空技术管路配件装配尺寸标准是等同采用国际标准ISO 9803:1993《真空技术— 管路配件— 装配尺寸》制定的。         国际标准ISO 9803中引用标准是:ISO 1609:1986((真空技术— 法兰尺寸》和ISO 2861-1:1974《真空技术— 快卸连接器— 尺寸第一部分:夹紧型》。本标准引用标准为与之相对应的国家标准GB/T 6070-1995《真空法兰》和GB 4982-85《夹紧型真空快卸法兰》。 一、范围         GB/T 16709—1996 真空技术管路配件装配尺寸标准规定了公称通径R5系列从10~250真空管路配件(弯管、T形管、十字管)的装配尺寸。 二、引用标准         下列标准所包含的条文，通过在本标准中引用而构成为本标准的条文。本标准出版时，所示版本均为有效。所有标准都会被修订，使用本标准的各方应探讨使用下列标准最新版本的可能性。         GB/T 6070-1995 真空法兰         GB 4982-85 夹紧型真空快卸法兰 三、尺寸         真空管路配件的装配尺寸应按表1规定，并见图1~图3e         法兰尺寸应按GB/T 6070和GB 4982的规定。         GB/T 607。规定的法兰螺栓孔位置应按图4所示，a角是螺栓孔数的函数。 表1 管路配件尺寸 <a target="_blank" href="http://www.chvacuum.com/uploads/userup/0906/022102239291.gif"><img border="0" alt="表1 管路配件尺寸" width="600" height="353" src="http://www.chvacuum.com/uploads/userup/0906/022102239291.gif" /></a>  <a target="_blank" href="http://www.chvacuum.com/uploads/userup/0906/0221025C040.gif"><img border="0" alt="GB/T 16709—1996 真空技术管路配件装配尺寸" width="540" height="532" src="http://www.chvacuum.com/uploads/userup/0906/0221025C040.gif" /></a>  更多真空技术标准请查看：<a href="http://www.chvacuum.com/biaozhun/061079.html">真空技术标准汇编</a> GB/T16709-1996 管路配件装配尺寸真空标准全国真空技术标准化技术委员会真空技术网整理 2009-06-02 20:58 GB/T 19955.1-2005 蒸汽流真空泵性能测量方法第1部分:体积流率(抽速)的测量 http://www.chvacuum.com/biaozhun/061089.html GB/T 19955.1-2005 蒸汽流真空泵性能测量方法第1部分:体积流率(抽速)的测量规定了测量包括扩散泵、喷射泵、增压泵在内的蒸汽流真空泵体积流率的方法。 GB/T 19955.1—2005  蒸汽流真空泵性能测量方法第1部分:体积流率(抽速)的测量 Vapour vacuum pump—Measurement of performance characteristics—Part 1:Measurement of volume rate of flow(pumping speed) (ISO 1608-1:1993,IDT)        GB/T 19955《蒸汽流真空泵性能测量方法》分为两个部分：        第一部分：体积流率(抽速)的测量；        第二部分：临界前级压力的测量；        本部分为GB/T 19955的第一部分。        本部分等同于采用ISO 1608-1：1993《蒸汽流真空泵性能测量方法第1部分:体积流率(抽速)的测量》(英文版)        本部分代替JB/T 8472.1-1996《蒸汽流真空泵性能测量方法第1部分:体积流率(抽速)的测量》 一、范围        GB/T 19955的本部分规定了测量蒸汽流真空泵体积流率的方法。        本部分所涉及的泵由下列三种油、汞蒸汽组成：        扩散泵        喷射泵        增压泵(即泵能在分子流和层流范围工作，具有扩散泵和喷射泵的组合性能)        这些泵可以装或不装挡板或阱。 二、术语和定义        下列术语和定义适用于GB/T 19955的本部分。 2.1 体积流率(抽速) volume rate of flow(pump speed)        在理想状态下，单位时间内流经泵入口的气体体积。        但实际上，一个给定泵在规定的条件下工作，对于给定气体的体积流率(S)，取该气体的流量(Q)与在给定测试罩内规定位置的平衡压力(P)的商。即： S=Q/P        体积流率采用的单位是立方米每小时(m3/h)或者升每秒(L/S)。对蒸汽流泵来说，只有当P超过10P0时，本表达式才有效。此处的P0是用同一的真空计测量的极限压力。 2.2 测试罩(test dome)        是个装在泵入口具有规定形状和尺寸的容器，被测量的气体通过它进入泵内，其上装有压力测量装置。 2.3 极限压力(ultimate pressure)        泵在正常工作情况下，关闭进气阀，测试罩内趋向的最低压力。 三、装置 3.1 测试罩 <a target="_blank" href="/uploads/userup/0906/02215014T95.gif"><img border="0" alt="蒸汽流真空泵体积流率(抽速)的测量罩" width="552" height="431" src="/uploads/userup/0906/02215014T95.gif" /></a> 更多真空技术标准请查看：<a href="http://www.chvacuum.com/biaozhun/061079.html">真空技术标准汇编</a> GB/T19955.1-2005 蒸汽流真空泵体积流率真空标准全国真空技术标准化技术委员会真空技术网整理 2009-06-02 21:22 GB/T 19955.2-2005 蒸汽流真空泵性能测量方法第2部分:临界前级压力的测量 http://www.chvacuum.com/biaozhun/061097.html GB/T 19955.2-2005 蒸汽流真空泵性能测量方法第2部分:临界前级压力的测量规定了测量包括扩散泵、喷射泵、增压泵在内的蒸汽流真空泵临界前级压力的测量的方法。 GB/T 19955.2—2005 蒸汽流真空泵性能测量方法第2部分:临界前级压力的测量 Vapour vacuum pump—Measurement of performance characteristics—Part 2:Measurement of critical backing pressure (ISO 1608-2:1989.IDT)        GB/T 19955《蒸汽流真空泵性能测量方法》分为两个部分：        第一部分：体积流率(抽速)的测量；        第二部分：临界前级压力的测量；        本部分为GB/T 19955的第2部分。        本部分等同于采用ISO 1608-2：1993《蒸汽流真空泵性能测量方法第2部分:临界前级压力的测量》(英文版)        本部分代替JB/T 8472.2-1996《蒸汽流真空泵性能测量方法第2部分:临界前级压力的测量》 一、范围        1.1、GB/T 19955 的本部分规定了测量蒸汽流真空泵临界前级压力的方法。        注：临界前级压力是超过了影响泵工作状态的前级压力，当超过此值时，泵不能正常工作。        蒸汽流泵的性能对前级压力的依赖关系可用工作范围的入口压力和前级压力的关系曲线图来详尽描述。        一般情况下，按3.1所规定的用单一参数规定临界前级压力是合适的。但就某些情况而言，特别是超高真空性能或者像氢和氦这样的有关气体的情况，可能需要完整的曲线。        1.2、本部分所涉及到得泵由下列3种油、汞蒸汽泵组成        蒸汽喷射真空泵        扩散泵        扩散喷射泵 二、规范性引用文件        下列文件中的条款通过GB/T 19955的本部分的引用而成为本标准的条款。凡是注日期的引用文件，其随后所有的修改单或者修订版均不适用于本标准，然而，鼓励根据本标准达成协议的各方研究是否可使用这些文件的最新版本。凡是不注日期的引用文件，其最新版适用于本标准。        GB/T 19955.1—2005  蒸汽流真空泵性能测量方法第1部分:体积流率(抽速)的测量(ISO 1608-1:1993,IDT) 三、术语和定义        下列术语和定义适用于GB/T 19955的本部分。        3.1、临界前级压力 critical backing pressure        3.1.1、一般情况 general case        对于一指定流量来说，在最低前级压力下，前级压力增加微小百分数就引起入口压力规定数的百分数增加。        注：在本部分中，该规定的百分数增加的最小值为10%。        3.1.2、"空载"临界前级压力 “no-load”critical backing pressure        对应于零流量时的临界前级压力。        3.1.3 、"满载"临界前级压力 “full-load”critical backing pressure        对应于泵稳定工作最大流量时的临界前级压力 更多真空技术标准请查看：<a href="http://www.chvacuum.com/biaozhun/061079.html">真空技术标准汇编</a> GB/T19955.2-2005 蒸汽流真空泵临界前级压力真空标准全国真空技术标准化技术委员会真空技术网整理 2009-06-03 23:15 GB/T 19956.1-2005 容积真空泵性能测量方法第1部分:体积流率(抽速)的测量 http://www.chvacuum.com/biaozhun/061098.html GB/T 19956.1-2005 容积真空泵性能测量方法第1部分:体积流率(抽速)的测量技术标准规定了容积真空泵体积流率测量方法 GB/T 19956.1—2005 容积真空泵性能测量方法第1部分:体积流率(抽速)的测量 Positive-displacement vacuum pumps—Measurement of performance characteristics—Part 1:Measurement of volume rate of flow(pumping speed) (ISO 1607-1:1993,IDT)         GB/T 19956《容积真空泵性能测量方法》分为两个部分：        第一部分：体积流率(抽速)的测量        第二部分：极限压力的测量        本部分为GB/T 19956的第一部分。        本部分等同采用ISO 1607-1:1993《容积真空泵性能测量方法第1部分:体积流率(抽速)的测量》。        本部分代替JB/T 7266-1994《容积真空泵性能测量方法》。 一、范围        GB/T 19956的本部分规定了容积真空泵体积流率测量方法，所研究的泵是直排大气的并且单级获得低于100Pa的入口极限压力。 二、术语和定义        下列术语和定义适用于GB/T 19956的本部分。        2.1、体积流率(抽速) volume rate of flow (pumping speed)        在理想状态下，单位时间内流经泵入口的气体体积。        但在实际上，一个给定泵在规定条件下工作，对给定气体的体积流率(S)取该气体的流量(Q)与在给定测试罩内规定位置的平衡压力(P)的商。即： S=Q/P        体积流率采用的单位为立方米每小时(m3/h)或升每秒(L/S)        2.2、测试罩 test dome        是装在泵入口具有规定形状和尺寸的容器，被测量的气体通过它进入泵内，其上装有压力测量装置。        2.3、极限压力 ultimate pressure        泵在正常工作情况下，关闭进气阀门，测试罩趋向的最低压力。 三、装置       3.1、测试罩        如图所示，形状为圆柱体。罩的轴向尺寸为1.5D，D为罩的内径。实验气体进口在罩的轴线上，并与连接法兰的距离为D，进气口的排列应使气体自背离泵口的方向进入测试罩。测量入口压力和极限压力的真空计在距离连接法兰0.5D处，其轴线垂直于罩的轴线。测试罩的轴线应垂直于泵入口法兰平面。 更多真空技术标准请查看：<a href="http://www.chvacuum.com/biaozhun/061079.html">真空技术标准汇编</a> GB/T19956.1-2005 容积真空泵体积流率真空标准全国真空技术标准化技术委员会真空技术网整理 2009-06-04 13:09 GB/T 19956.2-2005 容积真空泵性能测量方法第2部分:极限压力的测量 http://www.chvacuum.com/biaozhun/061099.html GB/T 19956.2-2005 容积真空泵性能测量方法第2部分:极限压力的测量规定了容积真空泵极限压力测量方法，所研究的泵是直排大气的并且单级获得低于100Pa的入口极限压力。 GB/T 19956.2—2005 容积真空泵性能测量方法第2部分:极限压力的测量 Positive-displacement vacuum pumps—Measurement of performance characteristics—Part 2:Measurement of ultimate pressure (ISO 1607-2:1989,IDT)         GB/T 19956《容积真空泵性能测量方法》分为两个部分：        第一部分：体积流率(抽速)的测量        第二部分：极限压力的测量        本部分为GB/T 19956的第二部分。        本部分等同采用ISO 1607-2:1993《容积真空泵性能测量方法第2部分:极限压力的测量》。        本部分代替JB/T 7266-1994《容积真空泵性能测量方法》。 一、范围        GB/T 19956的本部分规定了容积真空泵极限压力测量方法，所研究的泵是直排大气的并且单级获得低于100Pa的入口极限压力。 二、规范性引用文件        下列文件中的条款通过GB/T 19956的本部分的引用而成为本标准的条款。凡是注日期的引用文件，其随后所有的修改单(不包括勘误的内容)或修订版均不适用于本标准，然而，鼓励根据本标准达成协议的各方研究是否可使用这些文件的最新版本。凡是不注日期的引用文件，其最新版本适用于本标准。        GB/T 19956.1—2005 容积真空泵性能测量方法第1部分:体积流率(抽速)的测量(ISO 1607-1:1993,IDT) 三、术语和定义        下列术语和定义适用于GB/T 19956的本部分。        3.1、极限压力 ultimate pressure        泵在正常工作情况下，关闭进气阀门，测试罩趋向的最低压力。在非可凝性气体极限压力和极限全压力之间必定产生一个差别。        3.2、测试罩 test dome        是装在泵入口具有规定形状和尺寸的容器，被测量的气体通过它进入泵内，其上装有压力测量装置。 四、装置       4.1、测试罩        如图所示，形状为圆柱体。罩的轴向尺寸为1.5D，D为罩的内径。实验气体进口在罩的轴线上，并与连接法兰的距离为D，进气口的排列应使气体自背离泵口的方向进入测试罩。测量入口压力和极限压力的真空计在距离连接法兰0.5D处，其轴线垂直于罩的轴线。测试罩的轴线应垂直于泵入口法兰平面。 更多真空技术标准请查看：<a href="http://www.chvacuum.com/biaozhun/061079.html">真空技术标准汇编</a> GB/T19956.2-2005 容积真空泵极限压力真空标准全国真空技术标准化技术委员会真空技术网整理 2009-06-04 14:36 JB/T 1090-1991 J型真空用橡胶密封圈型式及尺寸 http://www.chvacuum.com/biaozhun/061101.html JB/T 1090-1991 J型真空用橡胶密封圈型式及尺寸标准规定了J型真空用橡胶密封圈的型式及尺寸。 一、主题内容与标准          JB/T 1090—1991 J型真空用橡胶密封圈型式及尺寸标准规定了J型真空用橡胶密封圈的型式及尺寸。          本标准适用于外部为大气压力、真空室压力高于1E-4Pa的旋转真空机械设备的密封，在规定的温度下且旋转速度低于2m/s，转速低于2000min-1。 二、型式及尺寸          2.1、J型真空用橡胶密封圈的型式及系列尺寸应符合图1及表1的规定。  <a target="_blank" href="/uploads/userup/0906/05210544W25.gif"><img border="0" alt="J型真空用橡胶密封圈的型式" width="600" src="/uploads/userup/0906/05210544W25.gif" /></a>          2.1、标记示例          J型真空用橡胶密封圈名义直径d=50mm，标记为：          J型密封圈 d50 JB1090 三、技术要求          3.1、工作介质为机械泵油、扩散泵油或者真空油脂。          3.2、工作温度为-25~+80度。          3.3、在充气保护气体情况下工作时，其保护气体的压力不高于5E+4Pa。          3.4、胶料的物理机械性能应保证真空室压力不高于1E-4Pa。          3.5、J型真空用橡胶密封圈工作表面应平整光滑，不允许有气泡杂质、凹凸不平等缺陷，其非工作面得外观质量指标应符合表2规定。          3.6、附件及安装结构型式科参照附件。 更多真空技术标准请查看：<a href="http://www.chvacuum.com/biaozhun/061079.html">真空技术标准汇编</a> JB/T1090-1991 J型橡胶密封圈真空标准全国真空技术标准化技术委员会真空技术网整理 2009-06-05 20:42 JB/T 1091-1991 JO型和骨架型真空用橡胶密封圈型式及尺寸 http://www.chvacuum.com/biaozhun/061102.html JB/T 1091-1991 JO型和骨架型真空用橡胶密封圈型式及尺寸标准规定了JO型和骨架型真空用橡胶密封圈的型式及尺寸。 一、主题内容与标准          JB/T 1091—1991 JO型和骨架型真空用橡胶密封圈型式及尺寸标准规定了JO型和骨架型真空用橡胶密封圈的型式及尺寸。          本标准适用于外部为大气压力、真空室压力高于1E-4Pa的旋转真空机械设备的密封，在规定的温度下且旋转速度低于2m/s，转速低于2000min-1。 二、引用标准          HG 4—692 骨架式橡胶油封          YB 248 碳素弹簧钢丝 三、JO型真空用橡胶密封圈型式及尺寸          3.1、JO型真空用橡胶密封圈的型式及系列尺寸应符合附件的规定。 <a target="_blank" href="/uploads/userup/0906/052124092958.gif"><img border="0" alt="JO型真空用橡胶密封圈的型式及系列尺寸" width="600" height="425" src="/uploads/userup/0906/052124092958.gif" /></a>           3.2、标记示例          JO 型真空用橡胶密封圈名义直径d=50mm，标记为：          JO 型密封圈 d50 JB 1091 更多真空技术标准请查看：<a href="http://www.chvacuum.com/biaozhun/061079.html">真空技术标准汇编</a> JB/T1091-1991 JO型和骨架型真空标准全国真空技术标准化技术委员会真空技术网整理 2009-06-05 21:15 JB/T 6446-2004 真空阀门 http://www.chvacuum.com/biaozhun/061108.html JB/T 6446-2004 真空阀门标准规定了真空阀门(以下简称阀门)的型式与基本参数、技术要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输和贮存。           JB/T 6446—2004  真空阀门标准代替JB/T 6446-1992 ((真空阀门技术条件》. JB/T 4077-1991《高真空插板阀型式与基本参数》、JB/T 4078-1991《高真空挡板阀型式与基本参数》、JB/T 4079-1991《高真空蝶阀型式与基本参数》、JB/T 4080-1991《高真空电磁阀型式与基本参数》、JB/T 4083-1991《真空电磁带充气阀型式与基本参数》。           依据GB/T 1.1-2000的有关规定，形成本标准的编写格式和方法，同时将JB/T 4077-1991 (C高真空插板阀型式与基本参数》、JB/T 4078-1991《高真空挡板阀型式与基本参数》、JB/T 4079-1991 (S高真空蝶阀型式与基本参数》、JB/T 4080-1991《高真空电磁阀型式与基本参数》、JB/T 4083-1991真空电磁带充气阀型式与基本参数》的内容纳人本标准，并增加了电磁高真空充气阀、高真空隔膜阀、高真空微调阀、真空调节阀、真空球阀、超高真空挡板阀、超高真空插板阀的内容〕 1、范围           JB/T 6446—2004  真空阀门标准规定了真空阀门(以下简称阀门)的型式与基本参数、技术要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输和贮存。           JB/T 6446—2004  真空阀门标准适用于应用在真空系统中的电磁真空带充气阀、电磁高真空挡板阀、电磁高真空充气阀、真空微调阀、高真空挡板阀、高真空隔膜阀、高真空蝶阀、高真空挡板阀、高真空插板阀、真空调节阀、真空球阀、、超高真空插板阀。 2、规范性引用文件           下列文件中的条款通过本标准的引用而成为本标准的条款。凡是注日期的引用文件，其随后所有的修改单不包括勘误的内容)或修订版均不适用于本标准，然而，鼓励根据本标准达成协议的各方研究是否可使用这些文件的最新版本。凡是不注日期的引用文件，其最新版本适用于本标准           GB/T 3164 真空技术系统图用图形符号           GB/T 4982 真空技术快卸连接器尺寸第1部分:夹紧型(GB/T 4982-2003, ISO2861-1:1974 (E),IDT)           GB/T 6070真空法兰(GB/T 6070一1995, eqv ISO 1609: 1986)           GB/T 6071(所有部分) 超高真空法兰           GB/T 13306 标牌           JB/T 5278(所有部分) 铜丝密封可烘烤真空法兰           JB/T 7352 工业过程控制系统用电磁阀           JB/T 7673 真空设备型号编制方法 3、型式与基本参数           3.1型式           3.1.1 驱动型式           阀门有手动、气动、电动和电磁动四种型式，分别以手、压缩空气、电源和电磁力为动力，通过执行机构带动阀板(或阀的主密封件)使阀门开启和关闭。           3.1.2 型号表示方法           阀门的型号表示方法应符合JB/T 7673的规定。 更多真空技术标准请查看：<a href="http://www.chvacuum.com/biaozhun/061079.html">真空技术标准汇编</a> JB/T6446-2004 真空阀门真空标准全国真空技术标准化技术委员会真空技术网整理 2009-06-09 00:02 JB/T 10552-2006 真空技术爪型干式真空泵 http://www.chvacuum.com/biaozhun/061111.html JB/T 10552-2006 真空技术爪型干式真空泵标准规定了爪型干式真空泵的型式与基本参数、技术要求、抽样及判定方法、测量方法、检验规则、标志、包装、运输和存储。 JB/T 10552—2006 真空技术爪型干式真空泵 Vacuum technology - Claw dry vacuum pump  引言      爪型干式真空泵是一种高清洁真空获得设备。由于该产品具有广泛的市场，因此有必要规范其市场行为指定本标准。 一、范围      JB/T 10552—2006 真空技术爪型干式真空泵标准规定了爪型干式真空泵的型式与基本参数、技术要求、抽样及判定方法、测量方法、检验规则、标志、包装、运输和存储。      本标准适用于爪型干式真空泵(以下简称泵)。 二、规范性引用文件       下列文件中的条款通过本标准的引用而成为本标准的条款。凡是注日期的引用文件，其随后所有的修改单或者修订版均不适用于本标准，然而，鼓励根据本标准达成协议的各方研究是否可使用这些文件的最新版本。凡是不注日期的引用文件，其最新版适用于本标准。      GB/T 191 包装储运图示标志(GB/T 191-2000,eqv ISO 780:1997)      GB/T 3163-1993 真空技术术语      GB/T 13306 标牌      GB/T 13384 机电产品包装通用技术条件      GB/T 19956.1-2005/ISO 1607-1：1993 容积真空泵性能测量方法  第1部分：体积流率(抽速)的测量(ISO 1607-1:1993,IDT)      GB/T 19956.2-2005/ISO 1607-2：1989 容积真空泵性能测量方法  第2部分：极限压力的测量(ISO 1607-2:1989,IDT)      JB/T 8106 容积真空泵噪声测量方法 三、术语和定义      下列术语和定义适用于本标准。 3.1、抽气速率 volume flow rate      当泵装有标准试验罩并按照规定条件工作时，从实验罩流过的气体流量与在试验罩上指定位置测得的平衡压力之比，简称抽速，单位为L/S。[GB/T 3163中4.5.1] 3.2、极限压力 ultimate pressure      泵装有标准试验罩并按照规定条件工作，在不引入气体正常工作的情况下，趋向稳定的最低压力，单位为Pa。[GB/T 3163中4.5.8] 3.3、全压力 total pressure      混合气体中所有组分压力的总和，单位为Pa。[GB/T 3163中3.9] 四、型式与基本参数      4.1、型式      泵的结构型式是采用多级爪结构串联，各级转子间相位为零度，转子与泵腔无任何摩擦作同步反方向运动。 更多真空技术标准请查看：<a href="http://www.chvacuum.com/biaozhun/061079.html">真空技术标准汇编</a>  JB/T10552-2006 爪型干式真空泵真空标准全国真空技术标准化技术委员会真空技术网整理 2009-06-09 23:19 JB/T 8540-2004 水蒸气喷射真空泵 http://www.chvacuum.com/biaozhun/061112.html JB/T 8540-2004 水蒸气喷射真空泵标准规定了水蒸气喷射真空泵的型式与基本参数、技术要求、抽样及评定方法、试验方法、检验规则、标志、包装和运输。 JB/T 8540—2004 水蒸气喷射真空泵 Water vapour jet vacuum pump         本标准代替JB/T 8540一1997《水蒸气喷射真空泵》。         本标准与JB/T 8540-1997相比，主要变化如下:         按GB/T 1.1-2000对标准内容作了编辑性修改;         取消了第1章“范围”中的“贮存”:         对第2章“引用标准”的内容作了修改;         对第3章“定义”的条增加了英文;         将表1中的喷射器代号改为“<” 1、范围         JB/T 8540—2004 水蒸气喷射真空泵标准规定了水蒸气喷射真空泵的型式与基本参数、技术要求、抽样及评定方法、试验方法、检验规则、标志、包装和运输。         JB/T 8540—2004 水蒸气喷射真空泵标准适用于获得10-3 kPa- 102kPa压力的以水蒸气为工作介质的喷射真空泵(以下简称泵)。 2、规范性引用文件         下列文件中的条款通过本标准的引用而成为本标准的条款。凡是注日期的引用文件，其随后所有的修改单(不包括勘误的内容)或修订版均不适用于本标准，然而，鼓励根据本标准达成协议的各方研究是否可使用这些文件的最新版本。凡是不注日期的引用文件，其最新版本适用于本标准。         GB 150 钢制压力容器         GB/T 191包装储运图示标志(GB/T 191-2000, eqv ISO 780: 1997)         GB/T 2624 流量测量节流装置用孔板、喷嘴和文丘里管测量充满圆管的流体流量(GB/T 2624-1993, eqv ISO 5167：1991)         GB/T 13306 标牌         GB/T 13384 机电产品包装通用技术条件         JB/T 4711压力容器涂敷与运输包装         JB/T 7266容积真空泵性能测量方法(JB/T 7266-1994, eqv ISO 1607-1: 1980, ISO 1607-2: 1989)         JB/T 7673 真空设备型号编制方法 3、术语和定义         下列术语和定义适用于本标准。 3.1、吸入压力suction pressure         水蒸气喷射真空泵吸人口处的压力.单位为kPa。 3.2、当量空气equivalent air         对非20℃空气或其他气体，按其分子量和温度折算成20℃的空气质量流量，单位为kg/h。 3.3、抽气量 exhaust quantity         单位时间通过泵人口处气体的质量流量，常以当量空气标称，单位为kg/h。 3.4、吸入温度suction temperature         被抽气体在泵吸人口处的温度，单位为℃。 3.5、工作蒸汽耗能  working vapour consumption         在额定工况下，单位时间通过喷嘴的工作蒸汽质量流量;多级喷射泵则指通过全部喷嘴的总质量流量，单位为kg/h. 更多真空技术标准请查看：<a href="http://www.chvacuum.com/biaozhun/061079.html">真空技术标准汇编</a> JB/T8540-2004 水蒸气喷射真空泵真空标准全国真空技术标准化技术委员会真空技术网整理 2009-06-10 21:28 JB/T 10463-2004 真空磁流体动密封件 http://www.chvacuum.com/biaozhun/061113.html JB/T 10463-2004 真空磁流体动密封件标准规定了真空磁流体动密封件的型号编制、型式和尺寸、技术要求、标志、包装、贮存和运输。 JB/T 10463—2004 真空磁流体动密封件 Ferrofluid vacuum rotary feedthroughs 1 、范围         JB/T 10463—2004 真空磁流体动密封件标准规定了真空磁流体动密封件的型号编制、型式和尺寸、技术要求、标志、包装、贮存和运输。         JB/T 10463—2004 真空磁流体动密封件标准适用于外部压力为1 X 105Pa(大气压)，真空室压力为1 X 10-6 Pa-1X105Pa(大气压)的真空设备的动密封。 2 、规范性引用文件         下列文件中的条款通过本标准的引用而成为本标准的条款。凡是注日期的引用文件，其随后所有的修改单(不包括勘误的内容)或修订版均不适用于本标准，然而，鼓励根据本标准达成协议的各方研究是否可使用这些文件的最新版本。凡是不注日期的引用文件，其最新版本亦适用于本标准         GB/T 13306 标牌 3 、型号编制         真空磁流体动密封件的型号由基本型号和辅助型号两部分组成，两者中间为横直线。 <a target="_blank" href="http://www.chvacuum.com/uploads/userup/0906/10220R325R.gif"><img border="0" alt="真空磁流体动密封件的型号由基本型号和辅助型号" width="404" height="95" src="http://www.chvacuum.com/uploads/userup/0906/10220R325R.gif" /></a>         1— 代表密封件轴类型。对于实心轴以印刷体大写字母“S'，表示，对于空心轴以印刷体大写字母“K”表示。         2— 代表密封件轴(孔)直径，以阿拉伯数字表示，单位为mm。         3— 代表密封件的固定方式，代号及意义见表1。         4— 代表密封件的冷却方式。对于两水嘴以"2Z”表示，对于四水嘴以“4Z”表示，无水嘴则省略。         5— 代表设计序号，首次设计省略，从第一次改型设计开始，以字母A. B、C...表示。 <a target="_blank" href="http://www.chvacuum.com/uploads/userup/0906/10220910NV.gif"><img border="0" alt="真空磁流体动密封件的型号由基本型号和辅助型号" width="600" src="http://www.chvacuum.com/uploads/userup/0906/10220910NV.gif" /></a> 4 、型式和尺寸 4.1、型式         真空磁流体动密封件的型式是将磁流体注人到由高性能的永久磁铁、导磁良好的极靴以及轴所构成的磁回路间隙中。在磁场的作用下，磁液在间隙中形成数个O形圈，变固体接触式动密封为液体动密封外壳端部有用于连接到真空设备上的连接法兰。 更多真空技术标准请查看：<a href="http://www.chvacuum.com/biaozhun/061079.html">真空技术标准汇编</a> JB/T10463-2004 真空磁流体动密封件真空标准全国真空技术标准化技术委员会真空技术网整理 2009-06-10 22:03 JB/T 10550-2006 真空技术真空烧结炉 http://www.chvacuum.com/biaozhun/061114.html JB/T 10550-2006 真空技术真空烧结炉标准规定了内热式电阻加热式真空烧结炉(以下简称真空炉)的型式与基本参数、技术要求、测量方法、检验规则、标志、包装、运输、贮存及订购等。 JB/T 10550—2006 真空技术真空烧结炉 Vacuum technology-Vacuum sintering furnace 一、范围         JB/T 10550—2006 真空技术真空烧结炉标准规定了内热式电阻加热式真空烧结炉(以下简称真空炉)的型式与基本参数、技术要求、测量方法、检验规则、标志、包装、运输、贮存及订购等。         JB/T 10550—2006 真空技术真空烧结炉标准适用于真空状态下材料通过加热、加热喝机械压力或加热和气体压力作用，使相邻晶粒通过粘着和扩散而烧结成零件的真空炉。 二、规范性引用文件         下列文件中的条款通过本标准的引用而成为本标准的条款。凡是注日期的引用文件，其随后所有的修改单或者修订版均不适用于本标准，然而，鼓励根据本标准达成协议的各方研究是否可使用这些文件的最新版本。凡是不注日期的引用文件，其最新版适用于本标准。         GB 5959.1 电热设备的安全第一部分通用要求         GB 5959.4 电热设备的安全第四部分对电阻炉的通用要求(GB 5959.4-1992，eqv IEC 60519-2:1975)         GB/T 10066.1-2004 电热设备的试验方法第一部分通用部分(IEC 60398:1999，MOD)         GB/T 10067.1-1988 电热设备基本技术条件通用部分         GB/T  10067.4-1988 电阻设备基本技术条件间接电阻炉 三、术语和定义 下列术语和定义适用于本标准。 3.1、极限压力 ultimate pressure         在空炉冷态情况下，用真空炉本身配套的真空系统对干燥的真空炉腔抽空所能达到的一个趋向稳定的最低压力。 3.2、升压率 rate of pressure rise         将干燥的真空炉腔连续抽气至极限压力，截止抽气15min后，测得真空炉腔由于漏气及内部放气造成的单位时间的压升。 3.3、抽气时间 pump-down time         真空系统正常工作时，将干燥的空炉从大气压（105Pa）抽到规定的压力所需的时间。 更多真空技术标准请查看：<a href="http://www.chvacuum.com/biaozhun/061079.html">真空技术标准汇编</a> JB/T10550-2006 真空烧结炉真空标准全国真空技术标准化技术委员会真空技术网整理 2009-06-11 14:24 JB/T 10551-2006 真空技术真空感应熔炼炉 http://www.chvacuum.com/biaozhun/061115.html JB/T 10551-2006 真空技术真空感应熔炼炉标准规定了对真空感应熔炼炉(以下简称真空炉)的型式与基本参数、技术要求、试验方法、检验规则和标志、包装、运输、贮存及订货等。 JB/T 1055l—2006  真空技术  真空感应熔炼炉 Vacuum technology-Vacuum induction melting furnace 一、范围         JB/T 1055l—2006 真空技术真空感应熔炼炉标准规定了对真空感应熔炼炉(以下简称真空炉)的型式与基本参数、技术要求、试验方法、检验规则和标志、包装、运输、贮存及订货等。         JB/T 1055l—2006 真空技术真空感应熔炼炉标准适用于频率大于60Hz小于等于104Hz下的真空感应熔炼炉，包括供熔炼、保温、升温、浇铸用的各种感应熔炼炉。 二、规范性引用文件         下列文件中的条款通过本标准的引用而成为本标准的条款。凡是注日期的引用文件，其随后所有的修改单或者修订版均不适用于本标准，然而，鼓励根据本标准达成协议的各方研究是否可使用这些文件的最新版本。凡是不注日期的引用文件，其最新版适用于本标准。         GB 5959.1 电热设备的安全第一部分：通用要求         GB 5959.3 电热设备的安全第三部分：对感应和导电加热设备以及感应熔炼设备的特殊要求(GB 5959.3-1988.eqv IEC 60519-3:1985)         GB/T 6070 真空法兰(GB/T 6070-1995,eqv ISO 1609:1986)         GB/T 10067.1-1988 电热设备的基本技术条件通用部分         JB/T 1090 J型真空用橡胶密封圈型式及尺寸         JB/T 1091 JO型和骨架型真空用橡胶密封圈型式及尺寸         JB/T 1092 O型真空用橡胶密封圈型式及尺寸 三、术语和定义         下列术语和定义适用于本标准。 3.1、极限压力 ultimate pressure         在空炉冷态情况下，用真空炉本身配套的真空系统对干燥的真空炉腔抽空所能达到的一个趋向稳定的最低压力。 3.2、升压率 rate of pressure rise         将干燥的真空炉腔连续抽气至极限压力，截止抽气15min后，测得真空炉腔由于漏气及内部放气造成的单位时间的压升。 3.3、抽气时间 pump-down time         真空系统正常工作时，将干燥的空炉从大气压（105Pa）抽到规定的压力所需的时间。 3.4、坩埚占积率 useful capacity rate of crucible         真空感应炉的装料量(液体)占整个坩埚总容积的百分比。 更多真空技术标准请查看：<a href="http://www.chvacuum.com/biaozhun/061079.html">真空技术标准汇编</a> JB/T10551-2006 真空感应熔炼炉真空标准全国真空技术标准化技术委员会真空技术网整理 2009-06-11 14:59 JB/T 6921-2004 罗茨真空泵机组 http://www.chvacuum.com/biaozhun/061126.html JB/T 6921-2004 罗茨真空泵机组标准规定了抽速为30L/s~20000L/S的罗茨真空泵机组的型式与基本参数、技术要求、试验方法、检验规则以及标志、包装、运输、贮存。 JB/T 692l—2004  罗茨真空泵机组 Roots vacuum pump system           JB/T 6921—2004 罗茨真空泵机组标准是在JB/T 6921-1993《罗茨真空泵机组》标准的基础上进行修订，代替JB/f 6921-1993《罗茨真空泵机组》           本标准与JB/T 6921-1993相比，主要变化如下:           — 机组型号表示方法中，增加了中间泵代号和特性代号两部分内容的表示方法;           — 扩大了机组的范围，本标准增加了气冷式罗茨泵为主泵或中间泵或前级泵时组成的各种机组，增加了带溢流阀罗茨真空泵为主泵、中间泵的各种机组，增加了四级罗茨真空泵机组、罗茨水环大气喷射泵机组及罗茨往复真空机组。           — 重新划分了机组配比值的界限，确定了新的配比代号。本标准的配比代号为l, 2, 3, 4, 5,6, 8等七种，上一版标准的配比代号为1, 2, 4, 8等四种           — 本标准区分了前级泵为单级泵和双级泵时，机组型号的不同表示方法和相应的性能参数;           — 在技术要求方面，本标准将4.1条改为“机组应符合本标准规定，并按经规定程序批准的图样及技术文件或合同制造”的内容;4.6条内容作了适当调整，删去有关抽气效率的考核要求，改为要求对抽速和消耗功率进行测量，并绘制“抽速一人口压力”曲线:4.7条删去“运行时不得有明显的振动”:4.8, 4.9, 4.12条作适当改动。           — 将试验方法和检验规则分开，对具体内容作了调整。           — 根据实际情况，本标准删去了上一版标准中的“推荐采用的机组系列”部分的内容，以机组类别规定机组的基本参数。           — 提高了部分机组极限压力的考核指针，并明确该极限压力指的是非可凝性气体的极限分压力。           JB/T 6921-1993 (罗茨真空泵机组》标准实施近十年，对罗茨真空泵机组的标准化、系列化以及对罗茨真空泵机组的发展起到了一定的作用。由于在长期的生产实践中，罗茨真空泵机组的分支种类不断增多，原标准已不能包罗现有的罗茨真空泵机组。为此，必须对JB/T 6921-1993《罗茨真空泵机组》标准进行修订同时，根据GB/T 1.1-2000的要求，制订出JB/T 6921-2003 ((罗茨真空泵机组》标准，代替JB/T 6921-1993《罗茨真空泵机组》标准。修订部分的内容如前言所述。 1、范围           JB/T 6921—2004 罗茨真空泵机组标准规定了抽速为30L/s~20000L/S的罗茨真空泵机组的型式与基本参数、技术要求、试验方法、检验规则以及标志、包装、运输、贮存。           本标准适用于以罗茨真空泵为主泵或中间泵，以滑阀真空泵、旋片真空泵、水环真空泵、油环真空泵、水环大气喷射泵、气冷式罗茨真空泵、往复真空泵为前级泵所组成的二级、三级或四级罗茨真空泵机组(以下简称机组)。 2、规范性引用文件           下列文件中的条款通过本标准的引用而成为本标准的条款。凡是注日期的引用文件，其随后所有的修改单(不包括勘误的内容)或修订版均不适用于本标准，然而，鼓励根据本标准达成协议的各方研究是否可使用这些文件的最新版本。凡是不注日期的引用文件，其最新版本适用于本标准。           GB/T 3306 标牌           GB/T 13384 机电产品包装通用技术条件           JB/T 7674 罗茨真空泵 3 型式与基本参数 3.1 型号表示法           机组型号由基本型号和辅助型号组成，其表示方法如下: <a target="_blank" href="/uploads/userup/0906/151526463639.jpg"><img border="0" alt="罗茨泵机组型号表示方法" width="620" height="327" src="/uploads/userup/0906/151526463639.jpg" /></a> 更多真空技术标准请查看：<a href="http://www.chvacuum.com/biaozhun/061079.html">真空技术标准汇编</a> JB/T6921-2004 罗茨真空泵机组真空标准全国真空技术标准化技术委员会真空技术网整理 2009-06-15 15:15 JB/T 7674-2005 罗茨真空泵 http://www.chvacuum.com/biaozhun/061127.html JB/T 7674-2005 罗茨真空泵标准规定了罗茨真空泵型式与基本参数、技术要求、试验方法与检验规则、标志、包装、运输和贮存。JB/T 7674—2005 罗茨真空泵标准适用于名义抽速为30 L/s-20000 L/s的单级双叶罗茨真空泵(以下简称泵)。 JB/T 7674—2005 罗茨真空泵 Roots vacuum pump         JB/T 7674—2005 罗茨真空泵标准代替JB/T 7674-1995《罗茨真空泵》。         JB/T 7674—2005 罗茨真空泵标准与JB/T 7674-1995相比，主要变化如下:         增加了术语和定义(见第3章):         对一般型及带溢流阀型泵的基本参数进行了调整(见4.3.1);         增加了气冷式系列罗茨真空泵的基本参数(见4.3.2);         修改了技术要求内容(见第5章);         增加了抽样及判定方法(见第6章);         修改了前级管路图(见图2);         修改了测量装置图(见图3):         修改了最大允许压差测量时的连续运转时间(见7.5);         修改了泵的噪声测量标准(见7.8.1)         JB/T 7674-1995《罗茨真空泵》经过多年的使用，对规范我国罗茨泵产品的制造和发展起到了积极的推动作用，为制造企业生产、为科技成果鉴定和质量监督检查提供了依据。但随着国内外罗获泵总体水平的提高，同时随着气冷式系列罗茨泵的广泛使用，却役有气冷式泵方面的行业标准，把气冷式泵收人JB/T 7674成为必然。为了体现出我国在罗茨泵方面的实际水平，缩短与国际上发达国家水平的差距，有必要对JB/T 7674进行修订，依据GB/T 1.1-2000的有关规定，对标准的结构进行调整，形成本标准的编写格式和方法。 1、 范围         JB/T 7674—2005 罗茨真空泵标准规定了罗茨真空泵型式与基本参数、技术要求、试验方法与检验规则、标志、包装、运输和贮存。         JB/T 7674—2005 罗茨真空泵标准适用于名义抽速为30 L/s-20000 L/s的单级双叶罗茨真空泵(以下简称泵)。 2、规范性引用文件         下列文件中的条款通过本标准的引用而成为本标准的条款。凡是注日期的引用文件，其随后所有的修改单(不包括勘误的内容)或修订版均不适用于本标准，然而，鼓励根据本标准达成协议的各方研究是否可使用这些文件的最新版本。凡是不注日期的引用文件，其最新版本适用于本标准。         GB/T 191 包装储运图示标志(GB/r 191-2000, eqv ISO 780: 1997)         GB/T 3163 真空技术术语         GB/T 6070 真空法兰(GB/T 607。一~1995, eqv ISO 1609: 1986)         GB/T 13306 标牌         JB/T 1246一1997 滑阀真空泵         JB(7266容积真空泵性能测量方法(JB/T 7266-1994, eqv ISO 1607-1: 1980; ISO 1607-2:1989) 3、术语和定义         GB/T 3163确立的以及下列术语和定义适用于本标准。 3.1、抽气速率 volume flow rate         当泵装有标准试验罩并按规定条件工作时，从试验罩流过的气体流量与在试验罩上指定位置测得的平衡压力之比，简称抽速，单位为L/s. 3.2、极限压力 ultimate pressure         泵装有标准试验罩并按规定条件工作，在不引人气体正常工作的情况下，趋向稳定的最低压力，单位为Pa. 3.3、最大允许压差 maximum tolerable differential pressure         最大允许压差是指泵人口压力等于或低于1X103Pa时，连续运转lh，不发生故障所允许的出口压力与人口压力差值的最大值，单位为Pa. 3.4、零流量最大压缩比 maximum compression ratio of the zero discharge         零流量压缩比Ko就是关闭进气管路、气体流量为零时，前级真空管路中的压力与人口压力之比，该压缩比的最大值用Ko.max表示。试验气体为非可凝性气体，一般指空气。 更多真空技术标准请查看：<a href="http://www.chvacuum.com/biaozhun/061079.html">真空技术标准汇编</a> JB/T7674-2005 罗茨真空泵真空标准全国真空技术标准化技术委员会真空技术网整理 2009-06-15 15:56 JB/T 6533-2005 旋片真空泵 http://www.chvacuum.com/biaozhun/061128.html JB/T 6533-2005 旋片真空泵标准适用于双级油封旋片真空泵(以下简称泵)，规定了旋片真空泵的型式与基本参数、技术要求、抽样及判定方法、试验方法、检验规则、标志、包装、运输和储存。 JB/T 6533—2005 旋片真空泵 Sliding vane rotary vacuum pump         JB/T 6533—2005 旋片真空泵标准代替JB/T 6533-1997《旋片真空泵》。         本标准与JB/T 6533-1997相比，主要变化如下:         2X-1、12XZ-1进气口径由原16改为20;         在试验方法中增加了测试装置及测试仪器的要求;         增加了泵的测量条件;         增加了最大消耗功率的测量方法:         增加了工作温度的测量方法:         增加了检验项目表3;         增加了型式试验中500h连续运转的考核指标;         根据性质和作用将原标准性附录A改为资料性附录; 一、范围         JB/T 6533—2005 旋片真空泵标准规定了旋片真空泵的型式与基本参数、技术要求、抽样及判定方法、试验方法、检验规则、标志、包装、运输和储存。         JB/T 6533—2005 旋片真空泵标准适用于双级油封旋片真空泵(以下简称泵)。 二、规范性引用文件         下列文件中的条款通过本标准的引用而成为本标准的条款。凡是注日期的引用文件，其随后所有的修改单(不包括勘误的内容)或修订版均不适用于本标准，然而，鼓励根据本标准达成协议的各方研究是否可使用这些文件的最新版本。凡是不注日期的引用文件，其最新版本适用于本标准。         GB/T 191 包装储运图示标志(GB/T 191-2000, eqv ISO 780:1997)         GB/T 3163 真空技术术语         GB/T 13306 标牌         GB/T 13384 机电产品包装通用技术条件         JB/T 7266 容积真空泵性能测量方法(JB/T 7266-1994, eqv ISO 1607-1: 1980, ISO 1607-2:1989)         JB/T 7673 真空设备型号编制方法         JB/T 8106 容积真空泵噪声测量方法         SH 0528 矿物油型真空泵油 三、术语和定义         GB/T 3163确立的以及下列术语和定义适用于本标准。 3.1、抽气速率volume flow rate         当泵装有标准测试罩并按规定条件工作时，从测试罩流过的气体流量与在测试罩上指定位置测得的平衡压力之比，简称抽速，单位为L/s。 3.2、几何抽气速率geometric pumping speed         泵每转理论吸气容积与额定转速的乘积，单位为L/s。 3.3、极限压力ultimate pressure         泵装有标准测试罩并按规定条件工作，在不引人气体正常工作的情况下，趋向稳定的最低压力，单位为Pa. 3.4、最高允许水蒸气入口压力maximum tolerable water vapour inlet pressure         标准环境条件下(20℃和101325Pa)，气镇泵在连续工作时，被抽气体中水蒸气的最高允许人口压力，单位为Pa. 3.5、水蒸气允许最water vapour tolerable load         标准环境条件下(20℃和101325Pa)，气镇泵在连续工作时，单位时间内能抽除的最大水蒸气质量流量，单位为g/h。 3.6、最低启动温度minimum tolerable starting temperature         停泵至少1h后，在大气压下，泵能启动的最低环境温度，单位为℃。 更多真空技术标准请查看：<a href="http://www.chvacuum.com/biaozhun/061079.html">真空技术标准汇编</a> JB/T6533-2005 旋片真空泵真空标准全国真空技术标准化技术委员会真空技术网整理 2009-06-15 20:52 JB/T 6873-2005 热偶真空计 http://www.chvacuum.com/biaozhun/061129.html JB/T 6873-2005 热偶真空计标准规定了热偶真空规管和热偶真空计的分类、要求、试验方法、检验规则以及标志、包装和贮存等。适用于测量压力范围为10-1Pa~1*105Pa的定流式、定温式热偶真空规管和热偶真空计。 JB/T 6873—2005 热偶真空计 Thermocouple gauge         JB/T 6873—2005 热偶真空计标准代替JB/T 6873一1993《热偶真空计技术条件》。         JB/T 6873—2005 热偶真空计标准与JB/T 6873-1993相比，主要变化如下:          删去1章中“对于进口同类仪器的检验亦应参照使用”(1993版的1);         删去1993版的4.3;         删去1993版的5.2.11;         修改“模拟式”为“指针式(1993版的4.2.2a)项;本版的4.2.2a)项):         5.1.2d)项移到第8章中作为8.2.1，原8.2.1条顺延为8.2.2;         修改“匹配误差”的涵盖(1993版的5.2.4;本版的5.2.4);         修改数字式真空计测试点的分布方式(1993版的6.2.9.1:本版的6.2.9.1);         修改加热丝电流可调范围(1993版的5.2.3.1;本版的5.2.3.1 );         增加金属规管采用法兰连接接口方式(1993版的5.1.3项:本版的5.1.3c)项);         在真空计供电电源方面，增加了直流电源供电的内容(1993版的5.2.1c);本版的5.2.1c)和1993版的6.2.9.2;本版的6.2.9.2)，试验方法作相应调整(1993版的6.2.3.2:本版的6.2.3.2和1993版的6.2.5:本版的6.2.5);         增加真空计模拟直流电流信号输出和数字通信接口(1993版的5.2.7a)和5.2.7b);本版的5.2.7a)和5.2.7b)项)，同时测试方法作相应调整(1993版的6.2.7:本版的6.2.7) 一、范围         JB/T 6873—2005 热偶真空计标准规定了热偶真空规管和热偶真空计的分类、要求、试验方法、检验规则以及标志、包装和贮存等。         JB/T 6873—2005 热偶真空计标准适用于测量压力范围为10-1Pa~1*105Pa的定流式、定温式热偶真空规管和热偶真空计。 二、规范性引用文件         下列文件中的条款通过本标准的引用而成为本标准的条款。凡是注日期的引用文件，其随后所有的修改单(不包括勘误的内容)或修订版均不适用于本标准，然而，鼓励根据本标准达成协议的各方研究是否可使用这些文件的最新版本。凡是不注日期的引用文件，其最新版本适用于本标准。         GB/T 191包装储运图示标志(GBfr 191-2000, eqv ISO 780:1997)         GB/T 2828.1 计数抽样检验程序第1部分:按接收质量限(AQL)检索的逐批检验抽样计划(GB/T2828.1-2003, ISO 2859-1: 1999, IDT)         GB/T 2829 周期检验计数抽样程序及表(适用于对过程稳定性的检验)         GB/T 3163 真空技术术语         GB/T 3369 工业自动化仪表用模拟直流电流信号         GB/T 3370 工业自动化仪表用模拟直流电压信号         GB/T 4982 真空技术快卸连接器尺寸第1部分:夹紧型(GB/174982-2003, ISO 2861-1:1974, IDT)         GB/T 6070真空法兰(GB/T 6070-1995, eqv ISO 1609: 1986)         GB/T 6107 使用串行二进制数据交换的数据终端设备和数据电路终接设备之间的接口(idtEIA/TIA-232-E)         GB/T 6587.2 电子测量仪器温度试验         GB/T 6587.3 电子测量仪器湿度试验         GB/T 6587.7 电子测量仪器基本安全试验         GB/T 11014 平衡电压数字接口电路的电气特性(eqv EIA RS-422 A : 1978)         GB/T 15464 仪器仪表包装通用技术条件         JB/T 8105.1 橡胶密封真空规管接头         JB/T 9329 仪器仪表运输，运输贮存基本环境条件及试验方法         ELA/FIA-574 使用串联二进制数据交换的数据终端设备和数据电路终接设备之间的9插针非同步接口 三、术语和定义         GB/T 3163确立的以及下列术语和定义适用于本标准。 3.1、热偶真空计thermocouple gauge         利用热电偶测量压力的一种热传导真空计。它的规管由加热丝和热偶丝组成。 3.2、定流式热偶真空计constant current thermocouple gauge         在工作过程中，加热丝电流保持不变的一种热偶真空计。 3.3、定温式热偶真空计constant temperature thermocuple gauge         在工作过程中，热电偶输出电势保持不变的一种热偶真空计。 3.4、真空计电路gauge circuit         为真空计的一部分，它由真空计控制单元和真空计指示单元组成。 3.5、标准环境温度standard ambient temperature         温度为23'C正负3C. 更多真空技术标准请查看：<a href="http://www.chvacuum.com/biaozhun/061079.html">真空技术标准汇编</a> JB/T6873-2005 热偶真空计真空标准全国真空技术标准化技术委员会真空技术网整理 2009-06-15 21:17 JB/T 7675-2005 往复真空泵 http://www.chvacuum.com/biaozhun/061130.html JB/T 7675-2005 往复真空泵标准适用于抽除不含颗粒的气体的往复式真空泵，本标准规定了往复式真空泵的型式和基本参数、技术要求、抽样及判定、试验方法、检验规则、保证期、标志、包装、运输和贮存。 JB/T 7675—2005 往复真空泵 Piston vacuum pump        JB/T 7675—2005 往复真空泵标准代替JB/T 7675-1995《往复真空泵》。        JB/T 7675—2005 往复真空泵标准与JB/T 7675-1995相比，主要变化如下:        增加了部分规范性引用文件:        增加了“术语和定义”一章;        在“型式与基本参数”一章中，增加了表3WL系列，并在表2WY系列(移动阀式)中，增加了5个规格;        在“型式与基本参数”一章中，增加了型号的表示方法及标记示例;        在“型式与基本参数”一章中，增加了在吸人压力为16kPa时抽气速率的具体指标要求:        在技术要求中增加了对比功率的要求;        提高了泵的平均无故障工作时间的指标，原标准对抽气速率低于或等于150L/s的泵要求是不少于2500h，而本标准规定为不少于4000h，原标准刘抽气速率高于150L/s的泵要求是不应少于2000h，而本标准规定为不应少于3000h;        在“试验方法”一章中增加了对抽气速率可采用其他测量方法的规定:        在“试验方法”一章中增加了对测量条件的规定。 1、范围         JB/T 7675—2005 往复真空泵标准规定了往复式真空泵的型式和基本参数、技术要求、抽样及判定、试验方法、检验规则、保证期、标志、包装、运输和贮存。        JB/T 7675—2005 往复真空泵标准适用于抽除不含颗粒的气体的往复式真空泵(以下简称泵)。 2、规范性引用文件        下列文件中的条款通过本标准的引用而成为本标准的条款。凡是注日期的引用文件，其随后所有的修改单(不包括勘误的内容)或修订版均不适用于本标准，然而，鼓励根据本标准达成协议的各方研究是否可使用这些文件的最新版本。凡是不注日期的引用文件。其最新版本适用于本标准。        GB/T 1032-1985 三相异步发动机试验方法        GB/T 3163 真空技术术语        GB/T 4879 防锈包装        GB/T 9113.1 平面、突面整体钢制管法兰        GB/T 13306 标牌        GB/T 13384 机电产品包装通用技术条件        GB/T 17421.6 整体铸铁管法兰        GB/T 7673真空设备型号编制方法 三、术语和定义        GB/T 3163确立的以及下列术语和定义适用于本标准。 3.1、抽气速率volume flow rate (or pumping speed)        泵的抽气速率是指人口在给定的压力下，出口压力为大气压时，单位时间内通过泵人口的体积流量，单位为L/s。 3.2、入口压力pressure of inlet        泵的人口压力是指吸气口处气体的压力，单位为kPa。 3.3、极限压力ultimate pressure        泵的极限压力是指抽气速率为零时人口处的压力。单位为kPa。 3.4、J1.何抽气速率geometric pumping speed        泵的几何抽气速率是指理论抽气速率，即曲轴每转气缸的理论抽气容积与转速的乘积，单位为L/S。 3.5、抽气效率efficiency of exhaust        泵的抽气效率是指实测的最大抽气速率与几何抽气速率之比，%。 3.6、最大抽气速率maximum volume flow rate        各测量点的抽气速率的最大值，单位为L/S。 3.7、比功率specific power        泵的比功率是指在给定的人口压力下，轴功率与实测抽气速率之比，单位为L/S。 更多真空技术标准请查看：<a href="http://www.chvacuum.com/biaozhun/061079.html">真空技术标准汇编</a> JB/T7675-2005 往复真空泵真空标准全国真空技术标准化技术委员会真空技术网整理 2009-06-16 20:27 JB/T 10462-2004 水喷射真空泵 http://www.chvacuum.com/biaozhun/061131.html JB/T 10462-2004 水喷射真空泵标准适用于以水为工作介质、抽气量为32m3/h--2000m3/h的水喷射真空泵。规定了水喷射真空泵的型式与基本参数、技术要求及试验方法、检验规则、标志、包装和运输。 JB/T 10462—2004 水喷射真空泵 Water ejector vacuum pump 一、范围        JB/T 10462—2004 水喷射真空泵标准规定了水喷射真空泵的型式与基本参数、技术要求及试验方法、检验规则、标志、包装和运输。        JB/T 10462—2004 水喷射真空泵标准适用于以水为工作介质、抽气量为32m3/h--2000m3/h的水喷射真空泵(以卜简称泵被抽介质为空气或以不凝结性气体为主，凝结性气体为辅的气体。 二、规范性引用文件        下列文件中的条款通过本标准的引用而成为本标准的条款，凡是注日期的引用义件，其随后所有的修改单(不包括勘误的内容)或修订版均不适用于本标准，然而鼓励根据木标准达协议(的各方侧盯乙是否可使用这些文件的最新版本凡是不注日期的引用文件，其最新版本适用本标准        GB/T 191包装储运图示标志(GB/T 191-2000. eqv ISO 780: 1997)        GB/T 13384 机电产品包装通用技术条件        JB/T 7673 真空设备型号编制方法 三、术语和定义        下列术语和定义适用于JB/T 10462—2004 水喷射真空泵 3.1、极限压力ultimate pressure        泵在工作时，空载干燥的真空容器逐渐接近稳定的最低压力值。 3.2、当量空气equivalent air        对非20℃空气或其他气体，按其相对分子质量和温度折算成20℃空气流量，单位为m3/h。 3.3、吸入温度section temperature        被抽气体在泵吸人口处的温度，单位为C。 3.4、最大抽气里maximum exhaust quantity        泵在规定的测量条件下，泵口刚形成真空时的抽气速率单位为m3/h。 3.5、工作水压working water pressure        进人泵喷嘴前的工作介质压力，单位是MPa。 4、型式与基本参数 4.1、泵的命名应符合JB/T 7673的规定。 4.2、泵的型式为单级泵、泵主要由喷嘴、吸人室、扩压管组成喷嘴可根据性能要求做成单喷嘴或花板泵的结构见图1。 4.3、泵的基本参数应符合表1的规定基本参数。 更多真空技术标准请查看：<a href="http://www.chvacuum.com/biaozhun/061079.html">真空技术标准汇编</a> JB/T10462-2004 水喷射真空泵真空标准全国真空技术标准化技术委员会真空技术网整理 2009-06-16 21:10 JB/T 7463-2005 热阴极电离真空计 http://www.chvacuum.com/biaozhun/061133.html JB/T 7463-2005 热阴极电离真空计标准适用于与中真空、高真空、超高真空热阴极电离规管(以下简称规管)配套使用的热阴极电离真空计规定了热阴极电离真空计(电离规管标准另订)的技术要求、试验方法、检验规则以及标志、包装和贮存等技术内容。 JB/T 7463—2005 热阴极电离真空计 Hot cathode ionization gauge JB/T 7463—2005 热阴极电离真空计标准代替JB/T 7463-1994《热阴极电离真空计》。 本标准与JB/T 7463-1994相比，主要变化如下: 由于原标准的适用范围不包含数显式真空计，存在缺陷，本标准增加了数显真空计的相关条款，对标准中技术要求、试验方法等，进行了相应的调整与修订; 调整了规范性引用文件内容: 将原标准5.3标志、包装和贮存调整为独立的第7章。 1、范围 JB/T 7463—2005 热阴极电离真空计标准规定了热阴极电离真空计(电离规管标准另订)的技术要求、试验方法、检验规则以及标志、包装和贮存等技术内容。 本标准适用于与中真空、高真空、超高真空热阴极电离规管(以下简称规管)配套使用的热阴极电离真空计(以下简称真空计)。对于进口的同类真空计亦可参照使用。 2、规范性引用文件 下列文件中的条款通过本标准的引用而成为本标准的条款。凡是注日期的引用文件，其随后所有的修改单(不包括勘误的内容)或修订版均不适用于本标准，然而，鼓励根据本标准达成协议的各方研究是否可使用这些文件的最新版本。凡是不注日期的引用文件，其最新版本适用于本标准。 GB/T 191 包装储运图示标志(GB/T 191-2000, eqv ISO 780:1997) GB/T 2829 周期检查计数抽样程序及表(适用于对过程稳定性的检验) GB/T 3163 真空技术术语 GB/T 3369 工业自动化仪表用模拟直流电流信号 GB/T 3370 工业自动化仪表用模拟直流电压信号 GB/T 6107 使用串行二进制数据交换的数据终端设备和数据电路终接设备之间的接口(idtEIA/TIA-232-E ) GB/T 6587.1 电子测量仪器环境试验总纲 GB/7 11014 平衡电压数字接口电路的电气特性(eqv EIA RS-422A: 1978) GB/T 15464 仪器仪表包装通用技术条件 JB/T 9329 仪器仪表运输，运输贮存基本环境条件及试验方法 EIA/TIA-574 使用串联二进制数据交换的数据终端设备和数据电路终接设备之间的9插针非同步接口 3、术语和定义 GB/T 3163确立的以及下列术语和定义适用于本标准。 3.1、真空计vacuum gauge 测量低于一个大气压的气体或蒸汽压力的仪器。注:某些常用的真空计实际上不直接测量压力，而侧量在规定条件下与压力有关的某些其他物理量。 3.2、灵敏度系数sensitivity coefficient 对于一给定压力，真空计指示的读数变化，除以对应压力变化。注:某些真空计灵敏度系数与气体性质有关，在这种情况下灵敏度通常指氮气而言。 3.3、热阴极电离真空计hot cathode ionization gauge 通过热阴极发射电子使气体电离的一种电离真空计。 4、技术要求 4.1、工作环境 真空计在下述环境下应能正常工作: 环境温度:00C --40 0 C , 相对湿度:不大于85%; 电源电压:220V122V, 50Hz交流电。 4.2、外观 4.2.1、真空计的指示器应无引起测量误差的外观缺陷。如电表机械零位失调、指针弯曲、卡针以及表面刻度不清、数字显示无模糊字、缺字、缺划和乱跳等现象。 4.2.2、开关、旋钮、指示灯、插头(座)、熔断器、电缆和附件等均应齐全、完好。 4.2.3、机箱表面应平整、光洁、无明显涂层剥落、锈蚀等现象。 4.3、电参数的示值误差 4.3.1、发射电流示值误差不应超过标称值的士3%. 4.3.2、加速极对阴极电位不应超过标称值的士5%. 4.3.3、阴极中心点对地电位不应超过标称值的士5% 更多真空技术标准请查看：<a href="http://www.chvacuum.com/biaozhun/061079.html">真空技术标准汇编</a> JB/T7463-2005 热阴极电离真空计真空标准全国真空技术标准化技术委员会真空技术网整理 2009-06-18 21:59 JB/T 7462-2005 热阴极电离真空规管 http://www.chvacuum.com/biaozhun/061134.html JB/T 7462-2005 热阴极电离真空规管标准适用于中、高真空及超高真空热阴极电离真空规管，包括玻璃规管和裸规。，规定了热阴极电离真空规管的技术要求、试验方法、检验规则以及标志、包装与贮存等内容。 JB/T 7462—2005 热阴极电离真空规管 Hot cathode vacuum gauge head 本标准代替JB/T 7462-1994《热阴极电离真空规管技术条件》。 本标准与JB/T 7462-1994相比，主要变化如下: 增加了第3章术语和定义: 增加了裸规的相关内容; 增加并修改了引用标准: 修改了规管的工作环境(见4.1); 增加了裸规的封装要求(见4.3.2); 修改了检验规则的内容(见第6章) 1、范围 本标准规定了热阴极电离真空规管的技术要求、试验方法、检验规则以及标志、包装与贮存等内容。 本标准适用于中、高真空及超高真空(限于极限压力不低于10乍a)热阴极电离真空规管，包括玻璃规管和裸规。(以下简称规管)。 2、规范性引用文件 下列文件中的条款通过本标准的引用而成为本标准的条款。凡是注日期的引用文件，其随后所有的修改单(不包括勘误的内容)或修订版均不适用于本标准，然而，鼓励根据本标准达成协议的各方究是否可使用这些文件的最新版本。凡是不注日期的引用文件，其最新版本适用于本标准。 GB/T 191 包装储运图示标志(GB/T 191-2000, eqv IS0780: 1997) GB/T 2828.1 计数抽样检验程序第1部分:按接收质量限(IQL)检索的逐批检验抽样计划(GB/T2828.1- 2003, ISO 2859-1: 1999, IDT) GB/T 2829 周期检查汁数抽样程序及抽样表(适用于生产过程稳定性的检查) GB/T 3163 真空技术术语 GB/T 6071 超高真空法兰 GB/T 15464 仪器仪表包装通用技术条件 JB/T 9329 仪器仪表运输，运输贮存基本环境条件及试验方法 3、术语和定义 GB/T 3163确立的以及下列术语和定义适用于本标准。 3.1、X射线极限值 X-ray limit 一种热阴极电离真空计的X射线极限值为与主要由离子收集极发射的光电子产生的残余电流所引起的相同读数的纯氮压力值。 3.2、零散性scattered 规管系数的偏差。 3.3、裸规nude gauge 一种没有外壳的规头，其敏感元件直接插人真空系统。 3.4、漏率leak rates 在规定的条件下，一种特定气体通过漏孔的流量，单位为Pa·L·s-1, 4、技术要求 4.1、工作环境 规管在下述环境条件下应能正常工作: a)环境温度:0℃_.40℃: b)相对湿度:成90% (25℃时) 4.2 外观 a)玻璃规管外壳应无裂缝或明显的气线、气泡等缺陷; b)规管内壁与电极应无污染与明显的氧化现象; c)规管外壳与管基之间的固定应牢固。 4.3、连接 4.3.1、玻璃规管与真空系统连接部分的玻壳外径应为:15.5士0.5 mm;25士1 mm. 4.3.2 、裸规封装结构应符合GB/T 6071的规定。 4.4 漏率 玻璃规管的漏率应小于10-11Pa·m3·S-1。 裸规的漏率应符合GB/T 6071的规定。 4.5、零散性 在压力为10-2Pa时，中、高真空规管系数的零散不超过120%.超高真空规管系数的零散不超过士30%. 4.6、测f范围 规管测量范围的上限由规管非线性S'不超过20%所对应的压力确定:规管测量范围下限由规管X射线极限值(Po)的10倍确定。 更多真空技术标准请查看：<a href="http://www.chvacuum.com/biaozhun/061079.html">真空技术标准汇编</a> JB/T7462-2005 热阴极电离规真空标准全国真空技术标准化技术委员会真空技术网整理 2009-06-18 22:18 JB/T 7265-2004 蒸汽流真空泵 http://www.chvacuum.com/biaozhun/061135.html JB/T 7265—2004 蒸汽流真空泵标准适用于以油蒸气作为工作介质的扩散泵及扩散喷射泵，规定了蒸汽流真空泵(包括扩散泵、扩散喷射泵)的型式、规格、基本参数、技术要求、试验方法、检验规则以及标志、包装、运输和贮存。 JB/T 7265—2004 蒸汽流真空泵 Vapour vacuum pumps 本标准代替JB/T 7265-1994《蒸汽流真空泵》。 本标准与JB/T 7265-1994相比，主要变化如下: 扩散泵按进气口公称通径增加了七种规格(单位为mm) : (150) , 250, (300) , 500, (600) .(90 0 ), (1200); 扩散喷射泵按进气口公称通径增加了五种规格(单位为mm):(150)，250 , (300)，500,(60 0 ); 提高了抽气速率、极限压力、临界前级压力等一些主要技术性能指标，对其他性能指标做了适当的调整: 增加了扩散泵的泵液返流率指标; 1、范围 JB/T 7265—2004 蒸汽流真空泵标准规定了蒸汽流真空泵(包括扩散泵、扩散喷射泵)的型式、规格、基本参数、技术要求、试验方法、检验规则以及标志、包装、运输和贮存。 本标准适用于以油蒸气作为工作介质的扩散泵及扩散喷射泵。 2、规范性引用文件 下列文件中的条款通过本标准的引用而成为本标准的条款。凡是注日期的引用文件，其随后所有的修改单(不包括勘误的内容)或修订版均不适用于本标准，然而，鼓励根据本标准达成协议的各方研究是否可使用这些文件的最新版本。凡是不注日期的引用文件，其最新版本适用于本标准。 GB/T 191 包装储运图示标志(GB/T1 91-2000,e qvIS O7 80: 1997) GB/T 6070 真空法兰(GB/T6 070-1995,e qv ISO 1609: 1986,V acuum technology-Flange dimensions) GB/T 7775 蒸汽流真空泵加热时间和加热功率测试方法 GB/T 7776 蒸汽流真空泵泵液返流率测试方法 GB/T 13306 标牌 GB/T 13384 机电产品包装通用技术条件 JB/T 7673 真空设备型号编制方法 JB/T 8472.1 蒸汽流真空泵性能测定第一部分:抽气速率(体积流率)的测定(JB/T8 472.1-1996,eqv ISO 1608小1993) JB/T 8472.2 蒸汽流真空泵性能测定第二部分:临界前级压力的测定(JB/T8 472.2-1996,e qvISO 1608-2: 1989) SH 052 9 矿物油性扩散泵油 3、型式 3.1、本标准所规定的蒸汽流真空泵是用水或其他冷却液冷却泵壁的金属制多级泵。 3.2、蒸汽流真空泵的进气口和出气口法兰应符合GB/T 6070的规定。其中带括号规格的泵的进、出气口法兰连接尺寸参见附录A。 3.3、在扩散泵的进气口与出气口中心连线上，不应有法兰螺栓孔。 3.4、蒸汽流真空泵的型号应符合JB/T 7673的规定 4、规格与基本参数 4.1、规格 扩散泵按进气口公称通径分为十六种规格(单位为mm):80,1 00, (150)，160,2 00,2 50.(3 00)，320, 400, 500, (600)，630, 800, (900)，1000, (1200)。扩散喷射泵按进气口公称通径分为十二种规格(单位为mm):(150)，160,2 00,2 50, (300)，320, 400, 500, (600)，630, 800, 1000. 更多真空技术标准请查看：<a href="http://www.chvacuum.com/biaozhun/061079.html">真空技术标准汇编</a> JB/T7265-2004 蒸汽流真空泵真空标准全国真空技术标准化技术委员会真空技术网整理 2009-06-19 15:08 JB/T 10074-2004 电阻真空计技术条件 http://www.chvacuum.com/biaozhun/061138.html JB/T 10074-2004电阻真空计技术条件适用于压强测量范围:105Pa-10-1Pa的真空计,规定了电阻真空计(以下简称真空计)的技术要求、试验方法、检验规则等内容。该真空计由电阻真空计规管和电阻真空计电路组成。 JB/T 10074—2004 电阻真空计技术条件 Specifications of resistance vacuum gauge         本标准代替JB/T 10074-1999 ((电阻真空计技术条件》。主要技术指标参照JJF 1051〕一1996《工作用热传导真空计校准规范》，以及国内主要电阻真空计生产厂家提出的技术要求而制订。 1、范围         JB/T 10074—2004 电阻真空计技术条件标准规定了电阻真空计(以下简称真空计)的技术要求、试验方法、检验规则等内容。该真空计由电阻真空计规管和电阻真空计电路组成。         本标准适用于压强测量范围:105Pa-10-1Pa的真空计。 2、规范性引用文件         下列文件中的条款通过本标准的引用而成为本标准的条款。凡是注日期的引用文件，其随后所有的修改单(不包括勘误的内容)或修订版均不适用于本标准，然而，鼓励根据本标准达成协议的各方研究是否可使用这些文件的最新版本。凡是不注日期的引用文件，其最新版本适用于本标准         GB/T 191包装储运图示标志(GB/T 191-2000， eqv ISO 780: 1997)         GB/T 4982 夹紧型真空快卸法兰(GB/T4982-1985, idt ISO 2861-1: 1974)         GB/T 6587.2 电子测量仪器温度试验         GB/T 6587.3 电子测量仪器湿度试验         GB/T 13306 标牌         JB/T 9329 仪器仪表运输，运输贮存基本环境条件及试验方法         JJF 1050 T作用执传导直幸计}4M.A6 3、术语和定义         下列术语和定义适用于本标准 3.1、电阻真空计resistance vacuum gauge         利用加热中的热丝电阻随压强而变化的一种热导真空计 3.2、真空计规管vacuum gauge tube         为电阻真空计的一个部分，含有热丝电阻随温度变化的敏感元件并直接与真空系统连接 3.3、真空计电路vacuum gauge circuit         为真空计的一部分，它由真空计控制单元和真空计指示单元组成。 4、技术要求 4.1 规管的技术要求 4.1.1 规管在下述环境条件下应能正常工作:         a)环境温度:0℃ 一400C         b)相对湿度:不大于80% (25℃时)。 4.1.2 外观:规管外壳应无裂纹、锈斑或明显的气线、气泡等缺陷。 4.1.3 电阻值:规管热丝电阻冷态电阻值的零散不应超过士2% 4.1.4 规管与真空系统连接部分应满足下列要求: 4.1.4.1 规管连接部分为圆型管道时，管道的外择应为15.5mm+0_5mm. 更多真空技术标准请查看：<a href="http://www.chvacuum.com/biaozhun/061079.html">真空技术标准汇编</a> JB/T10074-2004 电阻真空计真空标准全国真空技术标准化技术委员会真空技术网整理 2009-06-21 23:05 JB/T 6922-2004 真空蒸发镀膜设备 http://www.chvacuum.com/biaozhun/061139.html JB/T6922-2004真空蒸发镀膜设备标准适用于极限压力在5x10-4Pa-5 x10-3Pa范围的真空蒸发镀膜设备，规定了真空蒸发镀膜设备的型式和基本参数、技术要求、试验方法、检验规则及标志、包装、运输、贮存等要求。 JB/T 6922—2004 真空蒸发镀膜设备 Vacuum evaporation coating plant 本标准是对JB/T 6922一1993《真空蒸发镀膜设备》的修订 本标准与JB/T 6922-1993相比，主要变化如下: — 增加了原标准的“4.1工作环境条件”的内容; 一增加了4.3.6, 4.3.7, 4.4.12等条款; — 纠正了某些错误概念，如将原标准的:“4.2.8...在产品说明书规定的参数范围内......”修订为 “4 .2. 8...在产品设计要求规定的参数范围内......’。 本次修订按GB/T 1.1-2000标准对JB/T 6922-1993的标准格式进行了调整 本标准代替JBfT 6922- 1993 1、范围 JB/T 6922—2004 真空蒸发镀膜设备标准规定了真空蒸发镀膜设备的型式和基本参数、技术要求、试验方法、检验规则及标志、包装、运输、贮存等要求。 本标准适用于极限压力在5x10-4Pa-5 x10 -3Pa范围的真空蒸发镀膜设备(以下简称设备) 2、规范性引用文件 下列文件中的条款通过本标准的引用而成为本标准的条款。凡是注日期的引用文件，其随后所有的修改单(不包括勘误的内容)或修订版均不适用于本标准，然而，鼓励根据本标准达成协议的各方研究是否可使用这些文件的最新版本。凡是不注日期的引用文件，其最新版本适用于本标准 GB/T191包装储运图示标志(GB/T 191-2000,e qvIS O7 80: 1997) GB/T 6070 真空法兰(GB/T6 070-1995,e qv ISO 1609: 1 98 6, V acuum technology-Flangedimensions) GB/T 11164-1999 真空镀膜设备通用技术条件 GB/T 13306 标牌 JB/T 1090 J型真空用橡胶密封圈型式及尺寸 JB/T 1091 JO型和骨架型真空用橡胶密封圈型式及尺寸 JB/T 1092 O型真空用橡胶密封圈型式及尺寸 JB/T 7673 真空设备型号编制方法 3、型式与基本参数 3、结构形式 设备主要由镀膜室、蒸发系统、真空系统、机架、保护装置及电气控制装置组成。 3.2 基本参数 设备的基本参数应符合表1的规定。 <a target="_blank" href="http://www.chvacuum.com/uploads/userup/0906/22203T39525.gif"><img border="0" alt="JB/T6922—2004真空蒸发镀膜设备" width="620" height="289" src="http://www.chvacuum.com/uploads/userup/0906/22203T39525.gif" /></a>  更多真空技术标准请查看：<a href="http://www.chvacuum.com/biaozhun/061079.html">真空技术标准汇编</a> JB/T6922-2004 真空蒸发镀膜真空标准全国真空技术标准化技术委员会真空技术网整理 2009-06-22 20:30 JB/T 8944-1999 单级旋片真空泵 http://www.chvacuum.com/biaozhun/061140.html JB/T8944-1999单级旋片真空泵标准适用于单级、油封旋片真空泵。规定了单级旋片真空泵的型式与基本参数，技术要求，抽样及判定方法，试验方法，检验规则，标志、包装、运输和贮存。 JB/T 8944—1999 单级旋片真空泵 Single stage rotary vane vacuum pump 1、范围 JB/T 8944—1999 单级旋片真空泵标准规定了单级旋片真空泵的型式与基本参数，技术要求，抽样及判定方法，试验方法，检验规则，标志、包装、运输和贮存。 本标准适用于单级、油封旋片真空泵（以下简称泵）。 2、引用标准 下列标准所包含的条文，通过在本标准中引用而构成为本标准的条文。本标准出版时，所示版本均为有效。所有标准都会被修订，使用本标准的各方应探讨使用下列标准最新版本的可能性。 GB 191—1990 包装储运图示标志 GB/T 3163—1993 真空技术术语 GB/T 13306—1991 标牌 GB/T 13384—1992 机电产品包装通用技术条件 JB/T 6533—1997 旋片真空泵 JB/T 7266—1994 容积真空泵性能测量方法 JB/T 7673—1995 真空设备型号编制方法 JB/T 8106—1999 容积真空泵噪声测量方法 SH 0528—1992 矿物油型真空泵油 3、定义 本标准采用下列定义。 3.1、抽气速率S 当泵装有标准测试罩并按规定条件工作时，从测试罩流过的气体流量与在测试罩上指定位置测得的平衡压力之比，简称抽速。单位是升/秒（L/s）。（GB/T 3163—1993 中4.5.1） 3.2、几何抽速SN 泵每转理论吸气容积与额定转速的乘积。SN用L/s表示，转速的时间单位为秒（s）。 3.3、极限压力 泵装有标准测试罩并按规定条件工作，在不引入气体正常工作情况下，趋向稳定的最低压力，单位是帕（Pa）。（GB/T 3163—1993中4.5.8） 3.4、水蒸汽允许压力pwo 在标准环境条件下，气镇泵连续工作时，被抽气体中水蒸汽的最高入口压力，单位是帕（Pa）。（GB/T3163—1993中4.5.18） 3.5、水蒸气允许量Cwo 气镇真空泵在标准环境条件下（20℃和101325 Pa）连续运转，并打开气镇阀时，单位时间内抽出最大水蒸气质量流量，单位是克/小时（g/h）。（GB/T 3163—1993 中4.5.17） 3.6、最低启动温度 停泵至少1 h后，在大气压下，泵能启动的最低环境温度（℃）。 4、型式与参本参数 4.1、型式 泵的结构型式是转子偏心地装在泵壳内并与泵壳内表面固定面相切（或相交），在转子内装有二个（或二个以上）旋片，当转子旋转时，旋片沿其径向（或斜向）槽往复滑动且与泵壳内壁始终接触，将泵腔分成几个可变空积。 4.2、基本参数 泵的基本参数应符合表1 规定。 表 1 泵的基本参数 <a target="_blank" href="http://www.chvacuum.com/uploads/userup/0906/2221164A5V.gif"><img border="0" alt="单级旋片泵的基本参数" width="620" height="493" src="http://www.chvacuum.com/uploads/userup/0906/2221164A5V.gif" /></a>  更多真空技术标准请查看：<a href="http://www.chvacuum.com/biaozhun/061079.html">真空技术标准汇编</a> JB/T8944-1999 单级旋片真空泵真空标准全国真空技术标准化技术委员会真空技术网整理 2009-06-22 21:06 JB/T 8945-1999 真空溅射镀膜设备 http://www.chvacuum.com/biaozhun/061158.html JB/T8945—1999真空溅射镀膜设备标准适用于压力在1×10-4~5×10-3Pa范围的真空贱射镀膜设备，规定了真空溅射镀膜设备的型号和基本参数，技术要求，试验方法，检验规则，标志、包装、运输和贮存等。 JB/T 8945—1999 真空溅射镀膜设备 Vacuum sputtering coating plant 1、范围 JB/T 8945—1999 真空溅射镀膜设备标准规定了真空溅射镀膜设备的型号和基本参数，技术要求，试验方法，检验规则，标志、包装、运输和贮存等。 本标准适用于压力在1×10-4~5×10-3 Pa 范围的真空贱射镀膜设备（以下简称设备）。 2、引用标准 下列标准所包含的条文，通过在本标准中引用而构成为本标准的条文。本标准出版时，所示版本均为有效。所有标准都会被修订，使用本标准的各方应探讨使用下列标准最新版本的可能性。 GB 191—1990 包装储运图示标志 GB/T 6070—1995 真空法兰 GB/T 11164—1999 真空镀膜设备通用技术条件 GB/T 13306—1991 标牌 JB/T 1090—1991 J型真空用橡胶密封圈 JB/T 1091—1991 JO型和骨架型真空用橡胶密封圈型式及尺寸 JB/T 1092—1991 O型真空用橡胶密封圈型式及尺寸 JB/T 7673—1995 真空设备型号编制方法 3、型号与基本参数 3.1、设备的型号应符合JB/T 7673的规定。 3.2、设备的基本参数应符合表1 的规定。 表 1 基本参数 <a target="_blank" href="http://www.chvacuum.com/uploads/userup/0906/2R30J22348.gif"><img border="0" alt="真空溅射镀膜设备的基本参数" width="620" src="http://www.chvacuum.com/uploads/userup/0906/2R30J22348.gif" /></a>  4、技术要求 4.1、设备正常工作条件 4.1.1、温度：10~30℃。 4.1.2、相对湿度：不大于75%。 4.1.3、冷却水进水温度：不高于25℃。 4.1.4、冷却水质量：城市自来水或质量相当的水。 4.1.5、供电电源：380V、三相四线制、50 Hz，电压波动范围：361~399 V，频率波动范围：49~51 Hz。 4.1.6、环境：室内应整洁；地面、天花板及设备周围墙壁应干净；空气应清洁，不应有可引起电器及其他金属件表面腐蚀或引起金属间导电的尘埃或气体存在。 4.2、结构要求 4.2.1、设备中静、动密封圈的结构形式及尺寸应符合GB/T 6070和JB/T 1090~1092的规定。 4.2.2、真空管道上和镀膜室靠近排气口位置上应装设真空测试规管，分别测量各部位的压力。 4.2.3、如果设备以油扩散泵或油扩散喷射泵为主泵，应在其进气口一侧安装油蒸气捕集阱。 4.2.4、镀膜室应设有观察窗，对在镀膜过程中发生射线的设备，观察窗上应加装防射线镜片。 4.3、制造质量 设备的制造质量要求按GB/T 11164—1999 中4.4。 4.4、安全防护要求 设备的安全防护要求按GB/T 11164—1999 中4.5。 5、试验方法 5.1、极限压力 5.1.1、试验条件 a）镀膜室内为空载（即不放被镀物品，也不进行溅射），不得拆去设备正常工作时应安装的溅射源、工件支架等部件； b）真空测量规管应装于镀膜室靠近排气口位置上； c）允许在抽气过程中用设备本身配有的加热或轰击装置对镀膜室进行除气。 5.1.2、测试方法 按GB/T 11164—1999 中的5.2.2。 更多真空技术标准请查看：<a href="http://www.chvacuum.com/biaozhun/061079.html">真空技术标准汇编</a> JB/T8945-1999 真空溅射镀膜设备真空标准全国真空技术标准化技术委员会真空技术网整理 2009-06-28 22:56 JB/T 8946-1999 真空离子镀膜设备 http://www.chvacuum.com/biaozhun/061159.html JB/T8946-1999真空离子镀膜设备标准适用于压力在10-4~10-3Pa范围的真空离子镀膜设备，规定了真空离子镀膜设备的技术要求，试验方法，检验规则，标志、包装、运输和贮存等。 JB/T 8946—1999 真空离子镀膜设备 Vacuum ion coating plant 1、范围 JB/T 8946—1999 真空离子镀膜设备标准规定了真空离子镀膜设备的技术要求，试验方法，检验规则，标志、包装、运输和贮存等。 本标准适用于压力在10-4~10-3Pa范围的真空离子镀膜设备（以下简称设备），具体包括如下类型：多弧离子镀、电弧放电型真空离子镀、空心阴极离子镀（HCD）、射频离子镀（RFIP）、直流放电二极型（DCIP）、多阴极型、活性反应蒸发镀（ARE）、增强型ARE、低压等离子体离子镀（LFPD）、电场蒸发离子镀、感应加热离子镀、簇团离子束镀等。 注：离子镀是在真空条件下，利用气体放电使气体或被蒸发物质部分离化，在气体离子或被蒸发物质离子轰击作用的同时，把蒸发物或其反应物沉积在基片上。 2、引用标准 下列标准所包含的条文，通过在本标准中引用而构成为本标准的条文。本标准出版时，所示版本均为有效。所有标准都会被修订，使用本标准的各方应探讨使用下列标准最新版本的可能性。 GB/T 6070—1995 真空法兰 GB/T 11164—1999 真空镀膜设备通用技术条件 3、技术要求 3.1设备正常工作条件 3.1.1 环境温度：10℃~30℃。 3.1.2 相对湿度：不大于75%。 3.1.3 冷却水进水温度：不高于25℃。 3.1.4 冷却水质：城市自来水或相当质量的水。 3.1.5 供电电源：380 V三相50 Hz 或220 V单相50 Hz（由所用电器需要而定）； 电压波动范围：342 ~ 399 V或198 ~231 V； 频率波动范围：49~51 Hz。 3.1.6 设备所需的压缩空气，液氮，冷水、热水等的压力、温度，消耗量等，均应在产品使用说明书中写明。 3.1.7 设备周围环境整洁，空气清洁，不应有引起电器及其他金属件表面腐蚀或引起金属间导电的尘埃或气体存在。 3.2 设备技术参数 3.2.1 设备的主要技术参数应符合表1规定。 <a target="_blank" href="http://www.chvacuum.com/uploads/userup/0906/2R31R15046.gif"><img border="0" alt="真空离子镀膜设备技术参数" width="620" height="177" src="http://www.chvacuum.com/uploads/userup/0906/2R31R15046.gif" /></a> 更多真空技术标准请查看：<a href="http://www.chvacuum.com/biaozhun/061079.html">真空技术标准汇编</a> JB/T8946-1999 真空离子镀膜真空标准全国真空技术标准化技术委员会真空技术网整理 2009-06-28 23:14 JB/T 8105.1-1999 橡胶密封真空规管接头 http://www.chvacuum.com/biaozhun/061167.html JB/T 8105.1-1999 橡胶密封真空规管接头标准适用于真空系统真空测量用橡胶密封的测量规管接头,规定了橡胶密封真空规管接头的型式与结构尺寸及技术要求。 JB/T 8105.1—1999 橡胶密封真空规管接头 Rubber seal connections of vacuum gauges 1、范围 JB/T 8105.1—1999 橡胶密封真空规管接头标准规定了橡胶密封真空规管接头的型式与结构尺寸及技术要求。 JB/T 8105.1—1999 橡胶密封真空规管接头标准适用于真空系统真空测量用橡胶密封的测量规管接头。 2、引用标准 下列标准所包含的条文，通过在本标准中引用而构成为本标准的条文。本标准出版时，所示版本均为有效。所有标准都会被修订，使用本标准的各方应探讨使用下列标准最新版本的可能性。 GB/T 4982—1985 夹紧型真空快卸法兰 GB/T 4983—1985 拧紧型真空快卸法兰 GB/T 6070—1995 真空法兰 3、型式与结构尺寸及技术要求 3.1、橡胶密封真空规管接头型式分Ⅰ型、Ⅱ型、Ⅲ型，其结构型式及主要结构尺寸见图1~图3 及表1规定。 <a target="_blank" href="http://www.chvacuum.com/uploads/userup/0906/3015302L421.jpg"><img border="0" alt="橡胶密封真空规管接头结构型式及主要结构尺寸" width="620" height="129" src="http://www.chvacuum.com/uploads/userup/0906/3015302L421.jpg" /></a> 3.2、Ⅰ型接头为快速连接型，其快速连接法兰应符合GB/T 4982、GB/T 4983 的规定。 <a target="_blank" href="http://www.chvacuum.com/uploads/userup/0906/301531034534.jpg"><img border="0" alt="橡胶密封真空规管快速连接型接头" width="473" height="363" src="http://www.chvacuum.com/uploads/userup/0906/301531034534.jpg" /></a>   3.3、Ⅱ型接头为法兰连接型，其法兰应符合GB/T 6070 的规定。 <a target="_blank" href="http://www.chvacuum.com/uploads/userup/0906/301531262051.jpg"><img border="0" alt="橡胶密封真空规管法兰型接头" width="518" height="445" src="http://www.chvacuum.com/uploads/userup/0906/301531262051.jpg" /></a>   3.4、Ⅲ型法兰为焊接型，其焊接方式与接管长度可根据设备结构需要由选用者确定。 <a target="_blank" href="http://www.chvacuum.com/uploads/userup/0906/3015314G161.jpg"><img border="0" alt="橡胶密封真空规管焊接法兰型接头" width="515" height="372" src="http://www.chvacuum.com/uploads/userup/0906/3015314G161.jpg" /></a>   3.5、标记示例 公称通径为16 mm 的快速连接型规管接头，其标记为： 规管接头 16–Ⅰ JB/T 8105.1—1999 3.6、装配后接头漏气率不大于7×10-7 Pa·L/s。 3.7 规管接头用橡胶密封圈的要求见附录A（标准的附录）。 更多真空技术标准请查看：<a href="http://www.chvacuum.com/biaozhun/061079.html">真空技术标准汇编</a> JB/T8105.1-1999 橡胶密封真空规管真空标准全国真空技术标准化技术委员会真空技术网整理 2009-06-30 15:27 JB/T 8105.2-1999 金属密封真空规管接头 http://www.chvacuum.com/biaozhun/061168.html JB/T8105.2-1999金属密封真空规管接头标准适用于可烘烤真空系统中真空测量用金属密封的规管接头,规定了金属密封真空规管接头的型式与结构尺寸及技术要求。 JB/T 8105.2—1999 金属密封真空规管接头 Metal seal connections of vacuum gauges 1、范围 JB/T 8105.2—1999 金属密封真空规管接头标准规定了金属密封真空规管接头的型式与结构尺寸及技术要求。 JB/T 8105.2—1999 金属密封真空规管接头标准适用于可烘烤真空系统中真空测量用金属密封的规管接头。 2、引用标准 下列标准所包含的条文，通过在本标准中引用而构成为本标准的条文。本标准出版时，所示版本均为有效。所有标准都会被修订，使用本标准的各方应探讨使用下列标准最新版本的可能性。 GB/T 6071.2—1985 超高真空法兰尺寸 GB/T 6071.3—1985 超高真空法兰铜密封垫 YB/T 5231—1993 铁–镍–钴玻璃封接合金4J29 3、型式与结构尺寸及技术要求 3.1金属密封真空规管接头的型式与结构尺寸按图1 及表1 规定。 <a target="_blank" href="http://www.chvacuum.com/uploads/userup/0906/3023395N2F.gif"><img border="0" alt="金属密封真空规管接头的型式与结构尺寸" width="620" src="http://www.chvacuum.com/uploads/userup/0906/3023395N2F.gif" /></a>   3.2 金属密封真空规管接头用法兰应符合GB/T 6071.2 的规定，其密封垫应符合GB/T 6071.3 的规定。 3.3 标记示例 公称通径为25 mm 的金属密封真空规管接头，标记为：规管接头 25 JB/T 8105.2—1999 3.4 法兰与玻管之间的接管采用符合YB/T 5231—1993 规定的4J29 膨胀合金制造。 3.5 规管接头漏气率不大于7×10-8 Pa·L/s。 3.6 规管接头最高烘烤温度为450℃。 更多真空技术标准请查看：<a href="http://www.chvacuum.com/biaozhun/061079.html">真空技术标准汇编</a> JB/T8105.2-1999 金属密封真空规管接头标准真空标准全国真空技术标准化技术委员会真空技术网整理 2009-06-30 23:36 JB/T 8107-1999 容积真空泵振动测量方法 http://www.chvacuum.com/biaozhun/071194.html JB/T 8107-1999 容积真空泵振动测量方法标准适用于极限压力低于100 Pa，并能直接向大气空间排气的容积真空泵（以下简称泵）的机械振动测量。规定了容积真空泵振动的测量方法。 JB/T 8107—1999 容积真空泵振动测量方法 Methods of measurement for mechanical vibation of positive–displacement vacuum pumps 前言 国家标准GB 7773—87《变容真空泵振动测量方法》在1995 年调整为行业标准JB/T 8107—95《变容真空泵振动测量方法》，本标准是对其进行的修订。修订时，对原标准作了编辑性修改，主要技术内容没有改变。 本标准非等效采用国际标准ISO 2372：1974《转速为10~200 s-1 的机器机械振动—规定评价标准的基础》。 本标准自实施之日起代替JB/T 8107—95。 本标准的附录A 是提示的附录。 本标准由全国真空技术标准化技术委员会提出并归口。 本标准起草单位：沈阳真空技术研究所。 本标准主要起草人：李玉英、李春影。 本标准于1987 年首次发布。 1、范围 JB/T 8107—1999 容积真空泵振动测量方法标准规定了容积真空泵振动的测量方法。 JB/T 8107—1999 容积真空泵振动测量方法标准适用于极限压力低于100 Pa，并能直接向大气空间排气的容积真空泵（以下简称泵）的机械振动测量。 2、引用标准 下列标准所包含的条文，通过在本标准中引用而构成为本标准的条文。本标准出版时，所示版本均为有效。所有标准都会被修订，使用本标准的各方应探讨使用下列标准最新版本的可能性。 JB/T 7266—1994 容积真空泵性能测量方法 3、测量的量 主要测量频率在2~1000 Hz 范围内，以泵的机械振动速度有效值为表征的振动烈度。振动速度有效值可由平方检波特性的仪器直接测量并显示。在规定的测点和方向上测得的最大值，表征泵的振动烈度。泵的振动不是单一的简谐振动，而是由几个不同频率的简谐振动复合而成的周期振动或准周期振动。若振动周期为T，振动速度为时间t 的函数： <a target="_blank" href="http://www.chvacuum.com/uploads/userup/0907/0R200543J9.gif"><img border="0" alt="" width="620" height="93" src="http://www.chvacuum.com/uploads/userup/0907/0R200543J9.gif" /></a> 当泵的振动由几个不同频率（ ωj，j=1，2……n）的简谐振动复合而成时，根据频谱分析，其位移幅值为sj，速度幅值为υj，加速度幅值为aj，j=1、……n，则表征振动烈度的相应的速度有效值可用式（3）计算： <a target="_blank" href="http://www.chvacuum.com/uploads/userup/0907/0R201251Q5.gif"><img border="0" alt="" width="614" height="205" src="http://www.chvacuum.com/uploads/userup/0907/0R201251Q5.gif" /></a> 注：振动速度有效值换算成位移幅值的方法见附录A（提示的附录）。 更多真空技术标准请查看：<a href="http://www.chvacuum.com/biaozhun/061079.html">真空技术标准汇编</a> JB/T8107-1999 容积真空泵振动测量真空标准全国真空技术标准化技术委员会真空技术网整理 2009-07-08 21:54 GB/T 7774-2007 真空技术涡轮分子泵性能参数的测量 http://www.chvacuum.com/biaozhun/052496.html 规定了涡轮分子泵性能参数的测量方法,它适用于所有规格和所有型式的涡轮分子泵。 标准编号:  GB/T 7774-2007 中文标准名称:  真空技术涡轮分子泵性能参数的测量 代替标准号:  GB/T 7774-1987 涡轮分子泵性能测试方法, 标准简介: GB/T 7774-2007 真空技术涡轮分子泵性能参数的测量规定了涡轮分子泵性能参数的测量方法,它适用于所有规格和所有型式的涡轮分子泵。 国际标准分类号:  23.160 中国标准分类号:  J78 标准状态:  现行 标准前言:   本标准等同采用ISO5302:2003 真空技术.涡轮分子泵.性能特征的测量《真空技术涡轮分子泵性能参数的测量》(英文版)。 为便于使用,本标准还做了下列编辑性修改: ---本国际标准一词改为本标准; ---本文一词改为本标准; ---引用文件一词改为规范性引用文件; ---删除ISO5302:2003的前言。 本标准代替GB/T7774-1987 涡轮分子泵性能测试方法《涡轮分子泵性能测试方法》。 本标准附录A 为资料性附录。 本标准由中国机械工业联合会提出。 本标准由全国真空技术标准化技术委员会(SAC/TC18)归口。 本标准起草单位:北京中科科仪技术发展有限责任公司、成都南光机器有限公司、沈阳真空技术研究所。 本标准主要起草人:邹蒙、李奇志、孟祥菊、张勤德、王斌、李剑辉、范林东、李春影。 本标准所代替标准的历次版本发布情况为: ---GB/T7774-1987。 引用标准:   下列文件中的条款通过本标准的引用而成为本标准的条款。凡是注日期的引用文件,其随后所有的修改单(不包括勘误的内容)或修订版均不适用于本标准,然而,鼓励根据本标准达成协议的各方研究是否可使用这些文件的最新版本。凡是不注日期的引用文件,其最新版本适用于本标准。 ISO3529-2 真空技术词汇第2部分:真空泵及相关术语 首次发布日期:  1987-05-23 英文标准名称:  Vacuum technology -Turbomolecular pumps - Measurement of performance characteristics 采用国际标准号:  ISO 5302-2003 真空技术.涡轮分子泵.性能特征的测量, 采用国际标准名称:  真空技术涡轮分子泵性能参数的测量 采用程度:  IDT 采用国际标准:  ISO 标准类别:  国家标准 标准页数:   主管部门:  604-1 中国机械工业联合会 归口单位:  469-18 全国真空技术标准化技术委员会 起草人:  邹蒙、李奇志、孟祥菊、张勤德、王斌、李剑辉、范林东、李春影 起草单位:  北京中科科仪技术发展有限责任公司、成都南光机器有限公司、沈阳真空技术研究所 文件格式:  PDF格式 大小:  95KB 更多真空技术标准请查看：<a href="http://www.chvacuum.com/biaozhun/061079.html">真空技术标准汇编</a> GB/T 7774-2007 真空技术涡轮分子泵性能参数的测量真空标准真空技术网整理中国国家标准化管理委员会 2012-05-10 10:17 GB/T 21271-2007 真空技术真空泵噪声测量 http://www.chvacuum.com/biaozhun/052497.html 本标准规定了真空泵发射噪声的测量方法以及标示 标准编号:  GB/T 21271-2007 中文标准名称:  真空技术真空泵噪声测量 代替标准号:  GB 7772-1987 变容真空泵噪声测量方法, 标准简介: GB/T 21271-2007 真空技术真空泵噪声测量规定了真空泵发射噪声的测量方法以及标示。 国际标准分类号:  23.160 中国标准分类号:  J78 标准状态:  现行 标准前言:   本标准修改采用ISO2151:2004 声学.压缩机和真空泵的噪声试验规范.工程方法(2级)《声学压缩机和真空泵的噪声试验规程工程法(二级)》(英文版)。 本标准根据ISO2151:2004重新起草。在附录A 中列出了本标准章条编号与ISO2151:2004章条编号的对照一览表。 在采用ISO2151:2004时,本标准做了一些修改,并删除了关于压缩机的章条。有关技术性差异已编入正文中并在它们所涉及的条款的页边空白处用垂直单线标识。在附录B 中给出了这些技术性差异及其原因的一览表以供参考。 为了便于使用,对于ISO2151:2004还做了下列编辑性修改: ---用小数点符号.代替小数点符号,; ---用本标准代替本国际标准; ---删除ISO2151:2004的前言,修改了ISO2151:2004的引言。 自本标准实施之日起,JB/T8106-1999 容积真空泵噪声测量方法《变容真空泵噪声测量方法》作废。 本标准的附录A、附录B、附录C、附录D、附录E、附录F均为资料性附录。 本标准由中国机械工业联合会提出。 本标准由全国真空技术标委会归口。 本标准起草单位:浙江真空设备集团有限公司、浙江台州环球真空设备厂、沈阳真空技术研究所。 本标准主要起草人:王国民、张宝夫、许涛、王晓虎、赵伟胜、王玲玲。 本标准所代替标准的历次版本发布情况为: ---GB7772-1987 变容真空泵噪声测量方法。 引用标准:   下列文件中的条款通过本标准的引用而成为本标准的条款。凡是注日期的引用文件,其随后所有的修改单(不包括勘误的内容)或修订版均不适用于本标准,然而,鼓励根据本标准达成协议的各方研究是否可使用这些文件的最新版本。凡是不注日期的引用文件,其最新版本适用于本标准。 GB3102.7-1993 声学的量和单位(eqvISO317:1992) GB/T3241-1998 倍频程和分数倍频程滤波器(eqvIEC1260:1995) GB/T3767-1996 声学声压法测定噪声源声功率级反射面上方近似自由场的工程法(eqvISO3744:1994 声学.噪声源音响功率级的测定.反射平面上基本自由声场中的工程法) GB/T3947-1996 声学名词术语 GB/T4129-2003 声学用于声功率级测定的标准声源的性能与校准要求(ISO6926:1999 声学声功率级测定用的基准声源的性能和校正的要求,IDT) GB/T14574-2000 声学机器和设备噪声发射值的标示和验证(eqvISO4871:1996 声学机器和设备燥声辐射值的确定和检测) GB/T17248.2-1999 声学机器和设备发射的噪声工作位置和其他指定位置发射声压级的测量一个反射面上方近似自由场的工程法(eqvISO11201:1995 声学机器和设备发射的噪声工作位置和其他指定位置发射声压级的测量一个反射面上方近似自由场的工程法) GB/T17248.3-1999 声学机器和设备发射的噪声工作位置和其他指定位置发射声压级的测量现场简易法(eqvISO11202:1995 声学机器和设备发射的噪声工作位置和其他指定位置发射声压级的测量现场简易法) GB/T17248.4-1998 声学机器和设备发射的噪声由声功率级确定工作位置和其他指定位置的发射声压级(eqvISO11203:1995 声学机器和设备发射的噪声从声功率级测定工作位置和其他指定位置发射声压级) IEC616721:2002 电声学声级计第1部分:规范 英文标准名称:  Vacuum technology - Noise measurement for vacuum pumps 采用国际标准号:  ISO 2151-2004 声学.压缩机和真空泵的噪声试验规范.工程方法(2级) 采用国际标准名称:  声学压缩机和真空泵的噪声试验规程工程法 采用程度:  MOD 采用国际标准:  ISO 标准类别:  国家标准 标准页数:  27 主管部门:  604-1 中国机械工业联合会 归口单位:  469-18 全国真空技术标准化技术委员会 起草人:  王国民、张宝夫、许涛、王晓虎、赵伟胜、王玲玲 起草单位:  浙江真空设备集团有限公司、浙江台州环球真空设备厂、沈阳真空技术研究所 文件格式:  PDF格式 大小:  5MB 更多真空技术标准请查看：<a href="http://www.chvacuum.com/biaozhun/061079.html">真空技术标准汇编</a> GB/T 21271-2007 真空技术真空泵噪声测量真空标准全国真空技术标准化技术委员会真空技术网整理 2012-05-10 10:36 GB/T 21272-2007 蒸汽流真空泵性能测量方法泵液返流率和加热时间的测量 http://www.chvacuum.com/biaozhun/052498.html 本标准规定了蒸汽流真空泵泵液返流率和加热时间的测量方法。 标准编号:  GB/T 21272-2007 中文标准名称:  蒸汽流真空泵性能测量方法泵液返流率和加热时间的测量 代替标准号:  , 标准简介: GB/T 21272-2007 蒸汽流真空泵性能测量方法泵液返流率和加热时间的测量规定了蒸汽流真空泵泵液返流率和加热时间的测量方法。 国际标准分类号:  23.160 中国标准分类号:  J78 标准状态:  现行 标准前言:   本标准修改采用DIN28427:1983 真空技术.流体蒸气压低于1mbar的扩散泵和蒸气喷射真空泵的验收规范《泵液蒸汽压低于1mbar的扩散泵和蒸汽射流真空泵验收规则》(德文版)。 根据需要,本标准在采用DIN28427:1983 时进行了修改。这些技术性差异用垂直单线标示在它们所涉及的条款的页边空白处。在附录A 中给出了本标准与DIN28427:1983技术性差异及其原因的 一览表,以供参考。 为便于使用,本标准还做了下列编辑性修改: ---本验收规则一词改为本标准; ---删除了DIN28427:1983的前言。 本标准附录A 为资料性附录。 本标准由中国机械工业联合会提出。 本标准由全国真空技术标准化技术委员会(SAC/TC18)归口。 本标准负责起草单位:兰州真空设备有限责任公司。 本标准参加起草单位:辽宁真龙真空设备制造有限公司、沈阳真空技术研究所。 本标准主要起草人:温发兰、徐玉江、许艳巧、林森、王学智。 英文标准名称:  Vapour vacuum pumps - Measurement of performance characteristics Measurement of back-streaming rate of pump fluid and the heating time 采用国际标准号:  DIN 28427-1983 真空技术.流体蒸气压低于1mbar的扩散泵和蒸气喷射真空泵的验收规范, 采用国际标准名称:  泵液蒸汽压低于1mbar的扩散泵和蒸汽射流真空泵验收规则 采用程度:  MOD 采用国际标准:  国外先进标准 标准类别:  国家标准 标准页数:   主管部门:  604-1 中国机械工业联合会 归口单位:  469-18 全国真空技术标准化技术委员会 起草人:  温发兰、徐玉江、许艳巧、林森、王学智 起草单位:  兰州真空设备有现责任公司、沈阳真空技术研究所 文件格式:  PDF格式 大小:  77KB 更多真空技术标准请查看：<a href="http://www.chvacuum.com/biaozhun/061079.html">真空技术标准汇编</a> GB/T 21272-2007 蒸汽流真空泵性能测量方法泵液返流率和加热时真空标准全国真空技术标准化技术委员会真空技术网整理 2012-05-10 10:55 JB/T 7673-1995 真空设备型号编制方法 http://www.chvacuum.com/biaozhun/052499.html 本标准适用于上述各种真空设备的型号编制。 标准编号:  JB/T 7673-1995 中文标准名称:  真空设备型号编制方法 代替标准号:  ZBJ78016～78019-89, 标准简介: JB/T 7673-1995 真空设备型号编制方法代替ZB J78 016-89、 ZB J78 017-89、ZB J78 018-89和ZB J78 019-89四项标准。本标准规定了真空泵、真空机组、真空阀门和真空镀膜机型号和编制方法。本标准适用于上述各种真空设备的型号编制。 中国标准分类号:  J78 标准关注次数:  33次 标准上传日期:  2010-6-16 发布日期:  95-06-16 实施日期:  96-07-01 标准类别:  机械行业标准 标准页数:   归口单位:  沈阳真空技术所 文件格式:  PDF格式 更多真空技术标准请查看：<a href="http://www.chvacuum.com/biaozhun/061079.html">真空技术标准汇编</a> JB-T 7673-1995 真空设备型号编制方法真空标准全国真空技术标准化技术委员会真空技术网整理 2012-05-10 11:18 JB/T 2965-1992 溅射离子泵性能测试方法 http://www.chvacuum.com/biaozhun/052500.html 本标准规定了溅射离子泵性能测试方法。本标准适用于抽速大于10LS(-1)的离子泵。 标准编号:  JB/T 2965-1992 中文标准名称:  溅射离子泵性能测试方法 代替标准号:  JB 2965-81, 标准简介: JB/T 2965-1992 溅射离子泵性能测试方法规定了溅射离子泵性能测试方法。本标准适用于抽速大于10LS(-1)的离子泵。 中国标准分类号:  机械>>通用机械与设备>>j78真空技术与设备 标准状态:  现行 标准关注次数:  35次 标准上传日期:  2010-9-18 发布日期:  1992-01-01 实施日期:  1992-01-01 标准类别:  机械行业标准 标准页数:  6 页 归口单位:  沈阳真空技术研究所 文件格式:  PDF格式 更多真空技术标准请查看：<a href="http://www.chvacuum.com/biaozhun/061079.html">真空技术标准汇编</a> JB-T 2965-1992 溅射离子泵性能测试方法真空标准全国真空技术标准化技术委员会真空技术网整理 2012-05-10 11:22 JB/T 4081-1991 溅射离子泵型式与基本参数 http://www.chvacuum.com/biaozhun/052501.html 本标准规定了普通型式的溅射离子泵的型式与基本参数。本标准适用于二电位的二极型和三极型溅射离子泵。 标准编号:  JB/T 4081-1991 中文标准名称:  溅射离子泵型式与基本参数 代替标准号:  JB4081-85, 标准简介: JB/T 4081-1991 溅射离子泵型式与基本参数规定了普通型式的溅射离子泵的型式与基本参数。本标准适用于二电位的二极型和三极型溅射离子泵。 中国标准分类号:  J78 标准关注次数:  39次 标准上传日期:  2010-1-9 发布日期:  91-07-22 实施日期:  92-07-01 标准类别:  机械行业标准 标准页数:   归口单位:  沈阳真空技术所 起草人:  冯玉国 起草单位:  机械电子工业部沈阳真空技术研究所 文件格式:  PDF格式 更多真空技术标准请查看：<a href="http://www.chvacuum.com/biaozhun/061079.html">真空技术标准汇编</a> JB/T 4081-1991 溅射离子泵型式与基本参数真空标准全国真空技术标准化技术委员会真空技术网整理 2012-05-10 11:30 JB/T 4082-1991 溅射离子泵技术条件 http://www.chvacuum.com/biaozhun/052502.html 规定了普通型式溅射离子泵的技术要求、检验规则、试验方法、包装、贮存等。 标准编号:  JB/T 4082-1991 中文标准名称:  溅射离子泵技术条件 代替标准号:  JB4082-85, 标准简介: JB/T 4082-1991  溅射离子泵  技术条件规定了普通型式溅射离子泵的技术要求、检验规则、试验方法、包装、贮存等。本标准适用于JB/T 4081所规定的二极型(L型)和三极型(3L型)的溅射离子泵(以下简称泵)。 中国标准分类号:  J78 标准关注次数:  32次 标准上传日期:  2010-1-4 发布日期:  91-07-22 实施日期:  92-07-01 标准类别:  机械行业标准 标准页数:   归口单位:  沈阳真空技术所 起草人:  冯玉国 起草单位:  机械电子工业部沈阳真空技术研究所 文件格式:  PDF格式 更多真空技术标准请查看：<a href="http://www.chvacuum.com/biaozhun/061079.html">真空技术标准汇编</a> JB/T 4082-1991 溅射离子泵技术条件真空标准全国真空技术标准化技术委员会真空技术网整理 2012-05-10 11:35 JB/T 5410-1991 低真空电磁压差充气阀型式与基本参数 http://www.chvacuum.com/biaozhun/052503.html 规定了低真空电磁压差充气阀的型式与基本参数。 标准编号:  JB/T 5410-1991 中文标准名称:  低真空电磁压差充气阀型式与基本参数 代替标准号:  , 标准简介: JB/T 5410-1991  低真空电磁压差充气阀  型式与基本参数规定了低真空电磁压差充气阀的型式与基本参数。本标准行之有效用于DYC-Q型低真空电磁压差充气阀。 中国标准分类号:  J78 标准关注次数:  43次 标准上传日期:  2009-12-22 发布日期:  91-07-22 实施日期:  92-07-01 标准类别:  机械行业标准 标准页数:   归口单位:  沈阳真空技术所 文件格式:  PDF格式 更多真空技术标准请查看：<a href="http://www.chvacuum.com/biaozhun/061079.html">真空技术标准汇编</a> JB/T 5410-1991 低真空电磁压差充气阀型式与基本参数真空标准全国真空技术标准化技术委员会真空技术网整理 2012-05-10 11:38 JB/T 5971-1992 单级多旋片式真空泵 http://www.chvacuum.com/biaozhun/052504.html 规定了单级多旋片式真空泵的型式与基本参数,技术要求,试验方法,检验规则与标志、包装、贮存等。 标准编号:  JB/T 5971-1992 中文标准名称:  单级多旋片式真空泵 代替标准号:  , 标准简介: JB/T 5971-1992  单级多旋片式真空泵规定了单级多旋片式真空泵的型式与基本参数,技术要求,试验方法,检验规则与标志、包装、贮存等。本标准适用于单级多片旋片式真空泵。本标准不适用于单级油封式旋片真空泵。 中国标准分类号:  机械>>通用机械与设备>>j78真空技术与设备 标准状态:  已废止 标准关注次数:  13次 标准上传日期:  2009-12-4 发布日期:  1992-07-20 实施日期:  1993-01-01 废止时间:  2010-01-20 标准类别:  机械行业标准 标准页数:  5 页 归口单位:  全国真空技术标准化技术委员会 文件格式:  PDF格式 更多真空技术标准请查看：<a href="http://www.chvacuum.com/biaozhun/061079.html">真空技术标准汇编</a> JB/T 5971-1992 单级多旋片式真空泵真空标准全国真空技术标准化技术委员会真空技术网整理 2012-05-10 11:43 JB/T 10553-2006 真空技术扩散硅压阻真空计 http://www.chvacuum.com/biaozhun/052505.html 本标准规定了扩散硅压阻真空计的分类、技术要求、试验方法、检验规则以及标志、包装和贮存等。 标准编号:  JB/T 10553-2006 中文标准名称:  真空技术扩散硅压阻真空计 代替标准号:  J78, 标准简介: JB/T 10553-2006 真空技术扩散硅压阻真空计规定了扩散硅压阻真空计的分类、技术要求、试验方法、检验规则以及标志、包装和贮存等。 国际标准分类号:  流体系统和通用件>>23.160真空技术 中国标准分类号:  机械>>通用机械与设备>>j78真空技术与设备 标准关注次数:  37次 标准上传日期:  2011-1-4 发布日期:  2006-5-6 实施日期:  2006-10-1 英文标准名称:  vacuum technology-piezoresistive silicon chip vacuum gauge 采用程度:  3 标准类别:  机械行业标准 标准页数:  12 页 归口单位:  全国真空技术标委会 起草人:  吴春阳、苏玉萍、付晓东、王晓莉 起草单位:  沈阳真空技术研究所 文件格式:  PDF格式 更多真空技术标准请查看：<a href="http://www.chvacuum.com/biaozhun/061079.html">真空技术标准汇编</a> JBT 10553-2006 真空技术扩散硅压阻真空计真空标准全国真空技术标准化技术委员会真空技术网整理 2012-05-10 11:49 JB/T 10075-1999 冷阴极电离真空计技术条件 http://www.chvacuum.com/biaozhun/052506.html 标准编号:  JB/T 10075-1999 中文标准名称:  JB/T 10075-1999 冷阴极电离真空计技术条件 代替标准号:  ZB Y 285-1984 冷阴极电离真空计技术条件, 国际标准分类号:  流体系统和通用件>>23.160真空技术 中国标准分类号:  N68 标准关注次数:  7次 标准上传日期:  2009-10-1 发布日期:  99-04-05 实施日期:  99-04-05 英文标准名称:  specifications of cold cathode ionization gauge 标准类别:  机械行业标准 标准页数:   归口单位:  上海市通用机械所 文件格式:  PDF格式 更多真空技术标准请查看：<a href="http://www.chvacuum.com/biaozhun/061079.html">真空技术标准汇编</a> JB/T 10075-1999 冷阴极电离真空计技术条件真空标准全国真空技术标准化技术委员会真空技术网整理 2012-05-10 11:52 JB/T 10076-1999 冷阴极电离真空规管技术条件 http://www.chvacuum.com/biaozhun/052507.html 标准编号:  JB/T 10076-1999 中文标准名称:  JB/T 10076-1999 冷阴极电离真空规管技术条件 代替标准号:  ZB Y 286-1984 冷阴极电离真空规管技术条件, 国际标准分类号:  电子学>>31.100电子管 中国标准分类号:  N68 标准关注次数:  37次 标准上传日期:  2010-5-14 发布日期:  99-04-05 实施日期:  99-04-05 英文标准名称:  specifications of cold cathode ionization vacuum gauge head 标准类别:  机械行业标准 标准页数:   归口单位:  上海市通用机械所 文件格式:  PDF格式 更多真空技术标准请查看：<a href="http://www.chvacuum.com/biaozhun/061079.html">真空技术标准汇编</a> JB/T 10076-1999 冷阴极电离真空规管技术条件真空标准全国真空技术标准化技术委员会真空技术网整理 2012-05-10 11:55 GB 22360-2008 真空泵安全要求 http://www.chvacuum.com/biaozhun/052508.html 列出了在真空泵的使用期间及随后的处置过程中,与其相关的重要的危害性,详细规定了适用于真空泵设计、安装、运行、维修及拆卸过程中的安全要求。 标准编号:  GB 22360-2008 中文标准名称:  真空泵安全要求 代替标准号:  , 标准简介: GB 22360-2008 真空泵安全要求适用于各种真空泵、真空机组和真空抽气系统。标准中列出了在真空泵的使用期间及随后的处置过程中,与其相关的重要的危害性,详细规定了适用于真空泵设计、安装、运行、维修及拆卸过程中的安全要求。 本部分不适用于开放的系统下连续进行抽气及入口处的压力高于75KPA(750MBAR)的泵,例如真空吸尘器、换气扇。一些用于特殊场合的真空泵应符合与其应用相关的特殊标准规定。 国际标准分类号:  23.160 中国标准分类号:  J78 标准状态:  现行 标准前言:   本标准的第5章5.1.1中A)、B)、C)、F)、G)、5.1.2、5.1.5、5.2.1、5.2.2、5.3.1、5.3.2 中A)、B)、5.4、5.6.1、5.6.2、5.7、5.8、5.9、第6章、第7章、第8章中8.3 为强制性,其余为推荐性。 本标准修改采用EN10122:1996 《压缩机和真空泵　安全要求　第2部分:真空泵》(英文版)。 本标准与EN10122:1996的章节、条款一致,技术内容一致。 本标准根据EN10122:1996重新起草,与EN10122:1996的差异为: ———为了与现有的真空技术标准配套使用,将EN10122:1996 《压缩机和真空泵　安全要求　第2部分:真空泵》的名称改为我国的《真空泵　安全要求》; ———对于EN10122:1996 引用的国际标准和欧洲标准中有被修改采用的我国标准,本标准引用 我国的这些国家标准代替对应的国际标准或欧洲标准;对于EN10122:1996 引用的国际标准和欧洲标准中有被非等效采用的我国标准,本标准引用我国的这些国家标准中对应的条款代替对应的国际标准或欧洲标准;其余未被等同或修改采用为我国标准的国际标准和欧洲标准,在本标准中均被直接引用(见本标准附录B); ———由于EN10122:1996中引用文件EN2921、EN2922并没有在标准中引用,按GB/T1.1的规定将其删除; ———由于EN10122:1996中引用文件EN12076 《压缩机和真空泵的噪声发射的测量(工程法)》已作废,本标准删除了该引用标准,用GB/T21271 《真空技术　真空泵噪声测量》代替; ———增加引用标准GB2894 安全标志; ———将EN10122:1996中的BAR、MBAR改成本标准中的PA、KPA。 为了便于使用,本标准还做了下列编辑性修改: ———“本欧洲标准”一词改为“本标准”; ———删除了EN10122:1996的前言; ———删除了EN10122:1996的引言; ———增加了附录B“EN10122:1996与中国标准、国际标准对应的标准编号和名称”。 本标准的附录A 为规范性附录,附录B为资料性附录。 本标准由中国机械工业联合会提出。 本标准由全国真空技术标准化技术委员会归口。 本标准起草单位:上海凯尼真空设备有限公司、浙江真空设备集团有限公司、成都南光机器有限公司、国家真空设备质量监督检验中心、沈阳真空技术研究所。 本标准主要起草人:姜燮昌、孟凡林、张宝夫、李剑辉、李春影、王学智、王玲玲。 本标准首次发布。 引用标准:   下列文件中的条款通过本标准的引用而成为本标准的条款。凡是注日期的引用文件,其随后所有的修改单(不包括勘误的内容)或修订版均不适用于本标准,然而,鼓励根据本标准达成协议的各方研究是否可使用这些文件的最新版本。凡是不注日期的引用文件,其最新版本适用于本标准。 GB/T825　吊环螺钉(GB/T825—1988 吊环螺钉,NEQISO3266:1984 一般起重用的吊环螺钉) GB2894　安全标志(GB2894—1996 安全标志,NEQISO3864:1984 安全颜色和安全标记) GB/T3163　真空技术　术语(GB/T3163—2007 真空技术术语,ISO3529:1981,MOD) GB4793.1—2007 测量、控制和实验室用电气设备的安全要求第1部分：通用要求　测量、控制和实验室用电气设备的安全要求　第1部分:通用要求(GB4793.1—2007,IEC61010-1:2001 测量、控制和实验室用电气设备的安全要求第1部分：一般要求,IDT) GB5226.1—2002　机械安全　机械电气设备　第1部分:通用技术条件(IEC60204-1:2000,IDT) GB/T5465.2　电气设备用图形符号(GB/T5465.2—1996 电气设备用图形号,IDTIEC417:1994) GB/T8196　机械安全　防护装置　固定和移动防护装置设计与制造一般要求(GB/T8196— 2003,ISO14120:2002 机械安全.保护装置.固定和可移动保护装置的设计和制造的一般要求,MOD) GB/T12241　安全阀　一般要求(GB/T12241—2005 安全阀一般要求,ISO41261:1991,MOD) GB/T12265.1　机械安全　防止上肢触及危险区的安全距离(GB/T 12265.1—1997 机械安全防止上肢触及危险区的安全距离,EQVEN294:1992 机械安全避免上肢可到达危险区域的安全距离) GB/T14574　声学　机器和设备噪声发射值的标示和验证(GB/T14574—2000 声学机器和设备噪声发射值的标示和验证,EQVISO4871:1996 声学机器和设备燥声辐射值的确定和检测) GB/T16273.1　设备用图形符号　通用符号(GB/T16273.1—1996 设备用图形符号通用符号,NEQISO7000:1989 设备用图形符号.索引和一览表.两种语言版) GB16754　机械安全　急停　设计原则(GB16754—1997 机械安全急停设计原则,EQVISO/IEC13850:1995) GB/T18153　机械安全　可接触表面温度　确定热表面温度限值的工效学数据(GB/T18153—2000 机械安全可接触表面温度确定热表面温度限值的工效学数据,EQVEN563:1994) GB18209.1　机械安全　指示、标志和操作　第1部分:关于视觉、听觉和触觉信号的要求(GB18209.1—2000 机械安全指示、标志和操作第1部分:关于视觉、听觉和触觉信号的要求,IDTIEC61310-1:1995) GB/T21271　真空技术　真空泵噪声测量(<a href="http://www.chvacuum.com/biaozhun/052497.html">GB/T21271—2007 真空技术真空泵噪声测量</a>,ISO2151:2004,MOD) ISO/TR11688-1　声学　低噪声机器和设备设计实例的推荐用规程　第1部分:计划 ENV1070　机械安全　术语 EN1127-1　爆炸性环境　爆炸防止和防护　第1部分:基本概念和方法 EN60079-0　爆炸性气体环境用电器设备　第0部分:一般要求 英文标准名称:  Vacuum pumps - Safety requirements 采用国际标准号:  EN 1012-2:1996, 采用国际标准名称:  压缩机和真空泵安全要求第2部分: 真空泵 采用程度:  MOD 采用国际标准:  国外先进标准 标准类别:  国家标准 标准页数:   主管部门:  604-1 中国机械工业联合会 归口单位:  469-18 全国真空技术标准化技术委员会 起草人:  姜燮昌、孟凡林、张宝夫、李剑辉、李春影、王学智、王玲玲 起草单位:  上海凯尼真空设备有限公司、浙江真空设备集团有限公司、沈阳真空技术研究所 文件格式:  PDF格式 更多真空技术标准请查看：<a href="http://www.chvacuum.com/biaozhun/061079.html">真空技术标准汇编</a> GB 22360-2008 真空泵安全要求真空标准全国真空技术标准化技术委员会真空技术网整理 2012-05-10 14:02 JB/T 9125-2007 真空技术涡轮分子泵 http://www.chvacuum.com/biaozhun/052511.html 规定了涡轮分子泵的型式和基本参数,技术要求、测试方法、检验规则、标志、包装、运输和贮存等。 标准编号:  JB/T 9125-2007 中文标准名称:  真空技术涡轮分子泵 代替标准号:  JB/T 9125-1999 立式涡轮分子泵 标准简介: JB/T 9125-2007 真空技术涡轮分子泵规定了涡轮分子泵的型式和基本参数,技术要求、测试方法、检验规则、标志、包装、运输和贮存等。本标准适用于具有前级泵、变频电源的涡轮分子泵。 国际标准分类号:  流体系统和通用件>>23.160真空技术 中国标准分类号:  J78 标准关注次数:  24次 标准上传日期:  2010-1-10 发布日期:  2007-08-28 实施日期:  2008-02-01 英文标准名称:  Vacuum technology-Turbomolecular pumps 采用程度:  2 采用国际标准:  ISO 5302-2003,NEQ 标准类别:  机械行业标准 标准页数:  16 页 归口单位:  全国真空技术标准化技术委员会 起草人:  张勤德、邹蒙、李奇志、孟祥菊、周毅、李春影 起草单位:  北京中科科仪技术发展有限责任公司、北京北仪创新真空技术有限责任公司、沈阳真空技术研究所 文件格式:  PDF格式 更多真空技术标准请查看：<a href="http://www.chvacuum.com/biaozhun/061079.html">真空技术标准汇编</a> JB/T 9125-2007 真空技术涡轮分子泵真空标准全国真空技术标准化技术委员会真空技术网整理 2012-05-10 14:10 JB/T 10770-2007 真空技术液环真空泵验收规范 http://www.chvacuum.com/biaozhun/052512.html 规定了液环真空泵验收测量条件和内容要求、装置和方法、验收测量前的准备、测量结果的换算及测试报告的内容。 标准编号:  JB/T 10770-2007 中文标准名称:  真空技术液环真空泵验收规范 代替标准号:  , 标准简介: JB/T 10770-2007 真空技术液环真空泵验收规范规定了液环真空泵验收测量条件和内容要求、装置和方法、验收测量前的准备、测量结果的换算及测试报告的内容。本标准适用于水或其他液体做工作介质的液环真空泵。 国际标准分类号:  流体系统和通用件>>23.160真空技术 中国标准分类号:  J78 标准关注次数:  11次 标准上传日期:  2009-8-25 发布日期:  2007-08-28 实施日期:  2008-02-01 英文标准名称:  Vacuum technology-Acceptance specifications for liquid ring vacuum pumps 采用程度:  2 标准类别:  机械行业标准 标准页数:  12 页 归口单位:  全国真空技术标准化技术委员会 起草人:  燕洪顺、黄毅、张宝夫、王学智、刘连贵、荆延波、陈子明、吕庆孔 起草单位:  淄博真空设备厂有限公司 文件格式:  PDF格式 更多真空技术标准请查看：<a href="http://www.chvacuum.com/biaozhun/061079.html">真空技术标准汇编</a> JB/T 10770-2007 真空技术液环真空泵验收规范真空标准全国真空技术标准化技术委员会真空技术网整理 2012-05-10 14:12 JB/T 10771-2007 真空技术复合分子泵 http://www.chvacuum.com/biaozhun/052513.html 规定了复合分子泵的型式与基本参数、技术要求、试验方法、检验规则及标志、包装、运输和贮存等。 标准编号:  JB/T 10771-2007 中文标准名称:  真空技术复合分子泵 代替标准号:  , 标准简介: JB/T 10771-2007 真空技术复合分子泵规定了复合分子泵的型式与基本参数、技术要求、试验方法、检验规则及标志、包装、运输和贮存等。本标准适用于具有前级泵、变频电源的复合分子泵。 国际标准分类号:  流体系统和通用件>>23.160真空技术 中国标准分类号:  J78 标准关注次数:  26次 标准上传日期:  2009-7-28 发布日期:  2007-08-28 实施日期:  2008-02-01 英文标准名称:  Vacuum technology-Hybrid molecular pumps 采用程度:  2 标准类别:  机械行业标准 标准页数:  16 页 归口单位:  全国真空技术标准化技术委员会 起草人:  储继国、张勤德、周毅、李春影 起草单位:  深圳大学、北京中科科仪技术发展有限责任公司、北京北仪创新真空技术有限责任公司、沈阳真空技术研究所 文件格式:  PDF格式 更多真空技术标准请查看：<a href="http://www.chvacuum.com/biaozhun/061079.html">真空技术标准汇编</a> JB/T 10771-2007 真空技术复合分子泵真空标准全国真空技术标准化技术委员会真空技术网整理 2012-05-10 14:14 JB/T 1246-2007 真空技术滑阀真空泵 http://www.chvacuum.com/biaozhun/052509.html 规定了滑阀真空泵的型式与参数、技术要求、抽样及判定、试验方法、检验规则及标牌、标志、包装和贮存等 标准编号:  JB/T 1246-2007 中文标准名称:  真空技术滑阀真空泵 代替标准号:  JB/T 1246-1997 滑阀真空泵, 标准简介: JB/T 1246-2007 真空技术滑阀真空泵规定了滑阀真空泵的型式与参数、技术要求、抽样及判定、试验方法、检验规则及标牌、标志、包装和贮存等。本标准适用于各种类型的单级、双级滑阀真空泵。 国际标准分类号:  流体系统和通用件>>23.160真空技术 中国标准分类号:  J78 标准关注次数:  20次 标准上传日期:  2009-10-16 发布日期:  2007-08-28 实施日期:  2008-02-01 英文标准名称:  Vacuum technology-Rotary plunger vacuum pump 采用程度:  2 标准类别:  机械行业标准 标准页数:  11 页 归口单位:  全国真空技术标准化技术委员会 起草人:  王国民、许涛、张宝夫、孟凡林、王德顺、陈海垚、陈勇、李春影 起草单位:  浙江真空设备集团有限公司、上海凯尼真空设备有限公司 文件格式:  PDF格式 更多真空技术标准请查看：<a href="http://www.chvacuum.com/biaozhun/061079.html">真空技术标准汇编</a> JB/T 1246-2007 真空技术滑阀真空泵真空标准全国真空技术标准化技术委员会真空技术网整理 2012-05-10 14:07 JB/T 6923-2007 真空技术真空-加压浸渍设备 http://www.chvacuum.com/biaozhun/052510.html 规定了真空-加压浸渍设备的型式与基本参数、技术要求、试验方法、检验规则及标志、包装、运输和贮存等要求。 标准编号:  JB/T 6923-2007 中文标准名称:  真空技术真空-加压浸渍设备 代替标准号:  JB/T 6923-1993 真空加压浸渍设备, 标准简介: JB/T 6923-2007 真空技术真空-加压浸渍设备规定了真空-加压浸渍设备的型式与基本参数、技术要求、试验方法、检验规则及标志、包装、运输和贮存等要求。本标准适用于以增加电气元件的绝缘电阻、耐压强度及减少介质损耗和增加木材的强度及木材、纺织物的防腐等为目的的真空-加压浸渍设备。 国际标准分类号:  流体系统和通用件>>23.160真空技术 中国标准分类号:  J78 标准关注次数:  34次 标准上传日期:  2011-3-18 发布日期:  2007-08-28 实施日期:  2008-02-01 英文标准名称:  Vacuum technology Vacuum-pressure impregnate plant 采用程度:  2 标准类别:  机械行业标准 标准页数:   归口单位:  全国真空技术标准化技术委员会 起草人:  高峰、李龙军、刘兴家、任伟、王学智 起草单位:  中山凯旋真空技术工程有限公司 文件格式:  PDF格式 更多真空技术标准请查看：<a href="http://www.chvacuum.com/biaozhun/061079.html">真空技术标准汇编</a> JB/T 6923-2007 真空技术真空-加压浸渍设备真空标准全国真空技术标准化技术委员会真空技术网整理 2012-05-10 14:08 真空技术标准汇编 http://www.chvacuum.com/biaozhun/061079.html 中国标准出版社第三编辑室和全国真空技术标准化技术委员会共同对真空标准进行了汇编，组织出版了《真空技术标准汇编》。本汇编收集了截至2007年12月底批准发布的真空技术标准共51项。         真空工业是国民经济的基础工业之一，与国民经济的各个领域息息相关。真空技术在机械、电子、冶金、化工、信息产业、环保、能源、航空航天、原子能等领域都有广泛的应用。         真空技术标准与真空工业的发展过程是密切相关的，是科研、生产中的重要技术文件，是产品质量的判定依据，是商品交易的平台，是消费者权益的保障，是真空工业发展和实现现代化管理的重要手段。1980年全国真空技术标准化技术委员会(SAC／TC 18)成立，经过近30年的工作，已建立了较为完善的真空技术标准体系。包括基础标准、试验方法标准和产品标准在内的国家标准和行业标准，在真空工业和国民经济发展中起到了重要的作用，为真空行业产品的策划、设计开发、生产、检验、质量控制、贸易等方面提供了重要依据。         为满足广大读者对标准文本的需求，中国标准出版社第三编辑室和全国真空技术标准化技术委员会共同对真空标准进行了汇编，组织出版了《真空技术标准汇编》。         本汇编收集了截至2007年12月底批准发布的真空技术标准共51项。         鉴于本汇编收集的标准发布年代不尽相同，汇编时对标准中所用计量单位、符号未做改动。本汇编收集的国家标准的属性已在目录上标明(GB或GB／T)，年号用四位数字表示。鉴于部分国家标准是在国家清理整顿前出版的，故正文部分仍保留原样；读者在使用这些标准时，其属性以目录上标明的为准(标准正文“引用标准”中标准的属性请读者注意查对)。行业标准类同。 1、<a href="http://www.chvacuum.com/biaozhun/061078.html">GB/T 3163-2007  真空技术  术语</a> 2、<a href="http://www.chvacuum.com/biaozhun/061080.html">GB/T 3164-2007  真空技术  图形符号</a> 3、<a href="http://www.chvacuum.com/biaozhun/03750.html">GB/T 4982-2003  真空技术  快卸连接器  尺寸  第1部分：夹紧型</a> 4、<a href="http://www.chvacuum.com/biaozhun/061086.html">GB/T 4983-2003  真空技术  快卸连接器  尺寸  第2部分：拧紧型</a> 5、<a href="http://www.chvacuum.com/biaozhun/061081.html">GB/T 6070-2007  真空技术  法兰尺寸</a> 6、<a href="http://www.chvacuum.com/biaozhun/061082.html">GB/T 6071-2003  超高真空法兰</a> 7、<a href="http://www.chvacuum.com/biaozhun/052496.html">GB/T 7774-2007  真空技术  涡轮分子泵性能参数的测量</a> 8、<a href="http://www.chvacuum.com/biaozhun/061087.html">GB/T 11164-1999  真空镀膜设备通用技术条件</a> 9、<a href="http://www.chvacuum.com/biaozhun/061088.html">GB/T 16709-1996  真空技术  管路配件  装配尺寸</a> 10、<a href="http://www.chvacuum.com/biaozhun/051052.html">GB/T 18193-2000  真空技术  质谱检漏仪校准</a> 11、<a href="http://www.chvacuum.com/biaozhun/061089.html">GB/T 19955.1-2005  蒸汽流真空泵性能测量方法  第1部分：体积流率(抽速)的测量</a> 12、<a href="http://www.chvacuum.com/biaozhun/061097.html">GB/T 19955.2-2005  蒸汽流真空泵性能测量方法  第2部分：临界前级压力的测量</a> 13、<a href="http://www.chvacuum.com/biaozhun/061098.html">GB/T 19956.1-2005  容积真空泵性能测量方法  第1部分：体积流率(抽速)的测量</a> 14、<a href="http://www.chvacuum.com/biaozhun/061099.html">GB/T 19956.2-2005  容积真空泵性能测量方法  第2部分：极限压力的测量</a> 15、<a href="http://www.chvacuum.com/biaozhun/052497.html">GB/T 21271-2007  真空技术  真空泵噪声测量</a> 16、<a href="http://www.chvacuum.com/biaozhun/052498.html">GB/T 21272-2007  蒸汽流真空泵性能测量方法  泵液返流率和加热时间的测量</a> 17、<a href="http://www.chvacuum.com/biaozhun/052508.html">GB 22360-2008 真空泵安全要求</a> 18、<a href="http://www.chvacuum.com/biaozhun/061101.html">JB/T 1090-1991  J型真空用橡胶密封圈型式及尺寸</a> 19、<a href="http://www.chvacuum.com/biaozhun/061102.html">JB/T 1091-1991  JO型和骨架型真空用橡胶密封圈型式及尺寸</a> 20、<a href="http://www.chvacuum.com/biaozhun/03745.html">JB/T 1092-1991  O型真空用橡胶密封圈型式及尺寸</a> 21、<a href="http://www.chvacuum.com/biaozhun/052509.html">JB/T 1246-2007 真空技术滑阀真空泵</a> 22、<a href="http://www.chvacuum.com/biaozhun/052500.html">JB/T 2965-1992  溅射离子泵  性能测试方法</a> 23、<a href="http://www.chvacuum.com/biaozhun/052501.html">JB/T 4081-1991  溅射离子泵  型式与基本参数</a> 24、<a href="http://www.chvacuum.com/biaozhun/052502.html">JB/T 4082-1991  溅射离子泵  技术条件</a> 25、<a href="http://www.chvacuum.com/biaozhun/052503.html">JB/T 5410-1991  低真空电磁压差充气阀  型式与基本参数</a> 26、<a href="http://www.chvacuum.com/biaozhun/052504.html">JB/T 5971-1992  单级多旋片式真空泵</a> 27、<a href="http://www.chvacuum.com/biaozhun/061108.html">JB/T 6446-2004  真空阀门</a> 28、<a href="http://www.chvacuum.com/biaozhun/061128.html">JB/T 6533-2005  旋片真空泵</a> 29、<a href="http://www.chvacuum.com/biaozhun/061129.html">JB/T 6873-2005  热偶真空计</a> 30、<a href="http://www.chvacuum.com/biaozhun/061126.html">JB/T 6921-2004  罗茨真空泵机组</a> 31、<a href="http://www.chvacuum.com/biaozhun/061139.html">JB/T 6922-2004  真空蒸发镀膜设备</a> 32、<a href="http://www.chvacuum.com/biaozhun/052510.html">JB/T 6923-2007 真空技术真空-加压浸渍设备</a> 33、<a href="http://www.chvacuum.com/biaozhun/061135.html">JB/T 7265-2004  蒸汽流真空泵</a> 34、<a href="http://www.chvacuum.com/biaozhun/061134.html">JB/T 7462-2005  热阴极电离真空规管</a> 35、<a href="http://www.chvacuum.com/biaozhun/061133.html">JB/T 7463-2005  热阴极电离真空计</a> 36、<a href="http://www.chvacuum.com/biaozhun/052499.html">JB/T 7673-1995  真空设备型号编制方法</a> 37、<a href="http://www.chvacuum.com/biaozhun/061127.html">JB/T 7674-2005  罗茨真空泵</a> 38、<a href="http://www.chvacuum.com/biaozhun/061130.html">JB/T 7675-2005  往复真空泵</a> 39、<a href="http://www.chvacuum.com/biaozhun/061167.html">JB/T 8105.1-1999  橡胶密封真空规管接头</a> 40、<a href="http://www.chvacuum.com/biaozhun/061168.html">JB/T 8105.2-1999  金属密封真空规管接头</a> 41、<a href="http://www.chvacuum.com/biaozhun/071194.html">JB/T 8107-1999  容积真空泵  振动测量方法</a> 42、<a href="http://www.chvacuum.com/biaozhun/061112.html">JB/T 8540-2004  水蒸气喷射真空泵</a> 43、<a href="http://www.chvacuum.com/biaozhun/061140.html">JB/T 8944-1999  单级旋片真空泵</a> 44、<a href="http://www.chvacuum.com/biaozhun/061158.html">JB/T 8945-1999  真空溅射镀膜设备</a> 45、<a href="http://www.chvacuum.com/biaozhun/061159.html">JB/T 8946-1999  真空离子镀膜设备</a> 46、<a href="http://www.chvacuum.com/biaozhun/052511.html">JB/T 9125-2007 真空技术涡轮分子泵</a> 47、<a href="http://www.chvacuum.com/biaozhun/061131.html">JB/T 10462-2004  水喷射真空泵</a> 48、<a href="http://www.chvacuum.com/biaozhun/061113.html">JB/T 10463-2004  真空磁流体动密封件</a> 49、<a href="http://www.chvacuum.com/biaozhun/061114.html">JB/T 10550-2006  真空技术  真空烧结炉</a> 50、<a href="http://www.chvacuum.com/biaozhun/061115.html">JB/T 10551-2006  真空技术  真空感应熔炼炉</a> 51、<a href="http://www.chvacuum.com/biaozhun/061111.html">JB/T 10552-2006  真空技术  爪型干式真空泵</a> 52、<a href="http://www.chvacuum.com/biaozhun/052505.html">JB/T 10553-2006  真空技术  扩散硅压阻真空计</a> 53、<a href="http://www.chvacuum.com/biaozhun/052512.html">JB/T 10770-2007 真空技术液环真空泵验收规范</a> 54、<a href="http://www.chvacuum.com/biaozhun/061138.html">JB/T 10074-2004  电阻真空计  技术条件</a> 55、<a href="http://www.chvacuum.com/biaozhun/052506.html">JB/T 10075-1999 冷阴极电离真空计技术条件(原ZB Y 285-84)</a> 56、<a href="http://www.chvacuum.com/biaozhun/052507.html">JB/T 10076-1999  冷阴极电离真空规管技术条件(原ZB Y 286-84)</a> 57、<a href="http://www.chvacuum.com/biaozhun/052513.html">JB/T 10771-2007 真空技术复合分子泵</a> 真空技术标准汇编真空标准全国真空技术标准化技术委员会全国真空技术标准化技术委员会 2009-06-01 14:15 JB/T106-2004阀门的标志和涂漆技术标准 http://www.chvacuum.com/biaozhun/02721.html JB/T106—2004标准规定了各类通用阀门的标志内容、标记式样、标记方法和尺寸、阀门的涂漆颜色。 <h2>1 范围</h2>      本标准规定了各类通用<a target="_blank" href="http://www.chvacuum.com/valve/">阀门</a>的标志内容、标记式样、标记方法和尺寸、阀门的涂漆颜色。      本标准适用于各类通用阀门。 <h2>2 规范性引用文件</h2>       下列文件中的条款通过本标准的引用而成为本标准的条款。凡是注日期的引用文件，其随后所有的修改单（不包括勘误的内容）或修订版均不适用于本标准，然而，鼓励根据本标准达成协议的各方研究是否可使用这些文件的最新版本。凡是不注日期的引用文件，其最新版本适用于本标准。GB/T12220通用阀门标志（GB/T12220—1989，idt ISO 5209：1977） <h2>3 标志和标记方法</h2> 3.1 标志的内容        阀门承压阀体的外表面，应按<a target="_blank" href="http://www.chvacuum.com/biaozhun/">GB/T 12220标准</a>的规定标注永久性的标志，标志内容应有阀门的通径、压力代号或工作压力代号、材料牌号或代号、制造厂名或商标，炉号（铸造阀门）：有流向要求的阀门应标注介质流向的箭头。 表1 标记式样 <a target="_blank" href="http://www.chvacuum.com/uploads/userup/0902/2419151Q609.gif"><img border="0" alt="" width="600" height="278" src="http://www.chvacuum.com/uploads/userup/0902/2419151Q609.gif" /></a>   3.2 标志的标记方法 3.2.1 阀体采用铸造或压铸方法成形的，其标志应与阀体同时铸造或压铸在阀体上。 3.2.2 当阀体外形由模锻方法成形的，其标志除与阀体同时模锻或压铸形成外，也可采用压印的方法标记在阀体上。当阀体外形采用锻件加工、钢管或钢板卷制焊接成形的，其标志除采用压印的方法形成外，也可采用其他不影响阀体性能的其他方法。 3.3 标志的标记式样 公称通径数值标注、压力代号或工作压力代号、流向标志，应按表1 规定的组合样式，公称通径数值标注在压力代号上方。 3.4 标志的标记位置 3.4.1 标志内容，应标注在阀体容易观看的部位。标记应尽可能标注在阀体垂直中心线的中腔位置。 3.4.2 当标志内容在阀体的一个面上标注位置不够时，可标注在阀体中腔对称位置的另一个面上。 3.4.3 标志应明显、清晰，排列整齐、匀称。#p#副标题#e# 3.5 标志标记尺寸 3.5.1 铸造标志标记尺寸，字体及箭头的排布按图1 的式样，字体及箭头的尺寸按表2 的规定，并应制成凸出的剖面。 <a target="_blank" href="http://www.chvacuum.com/uploads/userup/0902/2419163VH0.gif"><img border="0" alt="铸造标志标记尺寸" width="600" height="290" src="http://www.chvacuum.com/uploads/userup/0902/2419163VH0.gif" /></a>  图1 铸造标志标记尺寸 表2 铸造标志标记尺寸 <a target="_blank" href="http://www.chvacuum.com/uploads/userup/0902/24191Jc2L.gif"><img border="0" alt="铸造标志标记尺寸" width="600" height="237" src="http://www.chvacuum.com/uploads/userup/0902/24191Jc2L.gif" /></a>  3.5.2 压印标志尺寸，按表3 的规定。箭头尺寸由设计图样规定。 表3 压印标志尺寸 <a target="_blank" href="http://www.chvacuum.com/uploads/userup/0902/24191U43944.gif"><img border="0" alt="压印标志尺寸" width="600" height="145" src="http://www.chvacuum.com/uploads/userup/0902/24191U43944.gif" /></a>   3.5.3 每一产品标志的字体号，可按表4 选用，亦可根据具体产品外形大小由设计图样规定。 表4 字体号 <a target="_blank" href="http://www.chvacuum.com/uploads/userup/0902/24191931B18.gif"><img border="0" alt="压印标志尺寸" width="600" height="77" src="http://www.chvacuum.com/uploads/userup/0902/24191931B18.gif" /></a>   <h2>4 涂漆</h2> 4.1 阀门的涂漆： 4.1.1 铸铁、碳素钢、合金钢材料的，阀门外表面应涂漆出厂。阀门应按其承压壳体材料区分颜色进行涂漆，可按表5 规定的颜色。当用户订货合同有要求时，按用户指定的颜色进行涂漆。 表5 阀门涂漆的颜色 <a target="_blank" href="http://www.chvacuum.com/uploads/userup/0902/241921144236.gif"><img border="0" alt="" width="600" height="125" src="http://www.chvacuum.com/uploads/userup/0902/241921144236.gif" /></a>   4.1.2 涂漆层应耐久、美观，并保证标志明显清晰。使用满足使用温度、无毒、无污染的漆。 4.1.3 涂漆层应耐久、美观，并保证标志明显清晰。 4.1.4 手轮零件的涂漆层按企业标准。 4.2 铜合金材质阀门的承压壳体表面不涂漆。 4.3 除非用户要求，耐酸钢、<a target="_blank" href="http://www.chvacuum.com/material/material/11500.html">不锈钢</a>材质阀门承压壳体表面不涂漆。 4.4 阀门驱动装置的涂漆： 4.4.1 手动齿轮传动机构，其表面的涂漆颜色同阀门表面的颜色。 4.4.2 阀门驱动装置（气动、液动、电动等）涂漆的颜色一般按企业标准的规定，当用户订货合同有要求时，按用户指定的颜色。 JB/T106—2004 阀门真空标准真空标准国家发展和改革委员会中华人民共和国机械行业标准 2009-02-24 19:00 JB/T 9210-1999真空热处理技术标准 http://www.chvacuum.com/biaozhun/081307.html JB/T 9210-1999真空热处理规定了真空热处理设备的特殊要求.真空热处理常用金属材料，真空热处理的工艺过程及其基本工艺参数。本标准适用于金属的真空淬火、真空回火、真空退火、真空固溶热处理及真空时效等工艺. 前言 　　本标准是对ZB J36 015—90《真空热处理》的修订. 　　本标准与ZB J36 015—90在以下主要技术内容上有所改变: 　　——真空淬火炉,真空回火炉有效加热区的温度偏差由一般不得超过±10℃改为±5℃;真空退火炉有效加热区的温度偏差由不得超过±15℃改为±8℃; 　　——真空淬火炉和真空退火炉的加热元件对地绝缘电阻应大于2 kΩ,回火炉应大于500 kΩ改为真空淬火炉,回火炉和退火炉的加热元件对地绝缘电阻应大于2 kΩ; 　　——按有关规定作了编辑性修改. 　　本标准自实施之日起代替ZB J36 015—90. 　　本标准由全国热处理标准化技术委员会提出并归口. 　　本标准负责起草单位:上海市机械制造工艺研究所. 　　本标准主要起草人:屠恒悦,梅志强. 　　本标准于1990年4月19日首次发布. 1、范围 　　本标准规定了真空热处理设备的特殊要求,真空热处理常用金属材料,真空热处理的工艺过程及其基本工艺参数. 　　本标准适用于金属的真空淬火,真空回火,真空退火,真空固溶热处理及真空时效等工艺. 2、引用标准 　　下列标准所包含的条文,通过在本标准中引用而构成为本标准的条文.本标准出版时,所示版本均为有效.所有标准都会被修订,使用本标准的各方应探讨使用下列标准最新版本的可能性. 　　GB/T 230—1991金属洛氏硬度试验方法 　　GB/T 231—1984金属布氏硬度试验方法 　　GB/T 1818—1994金属表面洛氏硬度试验方法 　　GB/T 4340—1984金属维氏硬度试验方法 　　GB/T 10066.1—1988电热设备的试验方法通用部分 　　GB/T 10067.1—1988电热设备基本技术条件通用部分 　　GB/T 10067.4—1988电热设备基本技术条件间接电阻炉 　　GB 15735—1995金属热处理生产过程安全卫生要求 3、真空热处理常用材料 　　合金工具钢,高速工具钢,铬轴承钢,耐热钢棒,高温合金,钛合金,精密合金等. 4、设备 　　4.1、真空热处理电阻炉的技术参数应符合GB/T 10067.1及GB/T 10067.4的有关规定. 　　4.2、试验项目按GB/T 10066.1相应条款规定的方法进行试验或检查. 　　4.3、真空淬火炉,真空回火炉有效加热区内的温度偏差一般不得超过±5℃; 真空退火炉不得超过±8℃.温度应能调节,制动控制和跟踪记录. 　　4.4、炉子在使用过程中,真空度应能满足相应的工艺要求,真空泄漏率应不大于1×10^–1 Pa/(L·s)(泄漏率在炉子充分干燥以后测定). 　　4.5、真空淬火炉,真空回火炉和真空退火炉的加热元件对地绝缘电阻应大于2 kΩ. 　　4.6、冷却水的压力应大于0.2 MPa或按炉子的要求确定,流量应能调节,不允许突然断水. 　　4.7、气冷用气源与炉子之间,应有相应的减压阀和真空压力表,能准确地指示和调节气体压力,管道应符合密封要求. 　　4.8、冷却用气的纯度应能满足相应工艺的要求.钢一般采用99.995%纯度的氮气,高温合金一般采用99.999%纯度的氮气或氩气,钛合金应采用99.995%纯度的氩气. 　　4.9、炉内的传动机构应平稳可靠,运行速度应能调节,热闸门的启闭应灵活可靠. 　　4.10、淬火油应满足工件真空淬火后的硬度及光亮度的要求,应不易老化,对工件不产生腐蚀及其他有害影响.淬火油槽内应备有加热及搅拌装置. 　　4.11、真空回火炉应具有快冷装置. 　　4.12、真空热处理炉不用时应处在真空或充纯氮状态下. 　　4.13、真空热处理设备应定期进行检查和维护,并做好记录. #p#副标题#e# 5、工艺过程 5.1、处理前的准备 　　5.1.1、了解工件钢号,技术要求,预先热处理状况及热处理规范. 　　5.1.2、应对工件和热处理设备进行检查.工件应无碰伤,锈斑及其他不允许的表面缺陷,设备应处于正常状态. 　　5.1.3、对工件和夹具进行清洗和烘干. 5.2、装炉 　　工件应置于炉子的有效加热区内,并根据真空加热的特点采用正确的装炉方法. 5.3、升温 　　工件入炉后待达到一定真空度,一般为6.67 Pa时,方可升温加热.升温过程中应注意脱气情况,并据此相应调节升温速度. 5.4、预热 　　工件达到预定加热温度之前应进行预热.当预定加热温度为1000~1100℃时,一般采用800℃一次预热;当预定加热温度在1200℃以上时,形状简单的工件可采用850℃一次预热,形状复杂的工件可采用500~600℃和850℃两次预热或多次预热. 5.5、保温 　　5.5.1、真空淬火的加热温度一般取盐浴炉或空气炉加热时的下限.真空回火,真空退火,真空固溶处理及真空时效的加热温度一般与常规处理时加热温度相同. 　　5.5.2、真空淬火加热保温时间一般比盐浴炉加热时长3~5倍,www.cuihuolu.com比空气炉长1倍;真空回火加热的保温时间略长于空气炉加热时保温时间,但比硝盐炉长1~2倍;真空退火加热的保温时间一般比空气炉长1倍. 　　5.5.3、根据工件的材料及加热温度,用回充高纯氮气的方法控制加热时的真空度.钢在900℃以下加热时,真空度一般为1.33×10^–1 Pa左右;在900~1100℃加热时,真空度一般为13.3~1.33 Pa左右;在1100~1300℃加热时,真空度一般为13.3~665 Pa左右. 　　5.5.4、真空回火时待炉内达到某一真空度(一般为0.133 Pa)时,向炉内通入高纯氮气到6.6×10^4 Pa左右,并采用风扇循环,保持这种状态到回火加热结束. 5.6、冷却 　　5.6.1、淬火油应进行充分地脱气,必要时要适当加热.淬火时应充气(高纯氮气或氩气)到5.3×10^4 Pa左右,淬火油要进行搅拌. 　　5.6.2、根据工艺要求可采用正压气淬或负压气淬.正压气淬时通入2×10^5 ~ 6×10^5 Pa的高纯氮气;负压气淬时通入7.9×10^4~9.3×10^4 Pa的高纯氮气进行淬火.高速钢工件宜采用正压气淬方法. 　　5.6.3、回火加热结束后,应采用气体强迫快冷. 　　5.6.4、退火加热结束后,按工艺要求进行冷却,在冷却过程中应继续抽真空到一定温度后方可停止. 5.7、出炉与清理 　　5.7.1、冷态出炉. 　　5.7.2、油淬工件出炉后应进行去油清理. 5.8、校正 　　工件变形量超过技术规定时,应采用正确的校正方法校正到符合规定要求. 6、质量检验 　　6.1、外观 　　处理后用肉眼进行外观检查,工件不应有碰伤,裂纹及明显的氧化色. 6.2、硬度 　　硬度检验按GB/T 230,GB/T 231,GB/T 1818,GB/T 4340规定的方法进行. 6.3、金相组织 　　对显微组织有要求的工件,按规定进行检查. 6.4、变形 　　变形量应在工件技术要求范围之内. 7、安全技术 　　按GB 15735规定进行. JB/T9210-1999 真空热处理真空标准国家机械工业局国家机械工业局 2009-08-24 15:19 SH/T 3118-2000石油化工蒸汽喷射式抽空器设计规范 http://www.chvacuum.com/biaozhun/091371.html SH/T 3118-2000石油化工蒸汽喷射式抽空器设计规范技术标准。 中华人民共和国行业标准 石油化工蒸汽喷射式抽空器设计规范 Specification for design of steam-Jet vacuum pump for petrochemical SH/T 3118-2000 主编单位: 中国石化集团北京设计院 主编部门:中国石油化工集团公司 批准部门: 国家石油和化学工业局 2、一般规定 2.0.1、抽空器系统见图2.0.1, <img border="0" alt="抽空器系统示意图" width="470" height="281" src="/uploads/userup/0909/15004A62B9.gif" /> 图2.0.1 抽空器系统示意图 2.0.2、抽空器的级数可参照表2.0.2初步选取，然后比较各种级数的抽空器在不同的吸入压力和排出压力条件下的蒸汽消耗量后确定。 表2.0.2 抽空器级数的参考数据 <img border="0" alt="抽空器级数的参考数据" width="620" height="117" src="/uploads/userup/0909/15004G62604.gif" /> 2.0.3、在设计多级抽空器时，各级可按相同或不同的压缩比(即每台单体抽空器的排出压力与吸入压力之比)计算蒸汽消耗量，以确定合理方案。 2.0.4、冷凝冷却器宜选用间接式。冷却用水应按进入冷凝冷却器的夏季设计水温、可供给的最小水量和最低压力考虑。 2.0.5、抽空器吸入口的绝对压力小于5.33kPa且冷却水温度高于28℃时，在该级抽空器之前不宜设置冷凝冷却器。 2.0.6、工作蒸汽的压力(表)应为0.3-1.6M Pa，宜采用0.8-1.2MPa。抽空器入口处的蒸汽应有一定的过热度。 2.0.7、抽空器用蒸汽管线宜为专用线。 2.0.8、抽空器的设计参数: 1、吸入压力 　　第一级抽空器的吸入压力(绝)取被抽容器出口处的最低操作压力减去管线压力降后的90%;第二级和第三级抽空器的吸入压力(绝)取前级排出压力减去级间(包括冷凝冷却器和管线)压力降，级间压力降通常取前级排出压力的15%-8%(真空度高者取大值). 2、吸入气体量及其特性 　　吸入气体量指可能达到的最大量。包括气体每一组分的质量流量:吸入气体特性包括每一组分的分子量、定压比热和绝热指数. 3、吸入气体温度 4、排出压力 5、工作蒸汽参数包括压力、温度、比容和热烩。 6、漏入被抽系统(包括容器和管线)的空气量，可根据被抽系统容积的大小、容器和法兰连接的严密程度以及要求的真空度高低来确定，选取方法见附录A。 2. 0. 9、抽空器的设计计算可采用附录A的方法。 SH/T3118-2000 石油化工蒸汽喷射式抽空器真空标准国家孑牙油和化学工业局国家孑牙油和化学工业局 2009-09-15 00:38 基于PLC的真空蒸发废油处理自动控制 http://www.chvacuum.com/application/else/091341.html 本文介绍了PLC 在废油处理设备自动控制系统中的应用。主要介绍了真空蒸发工艺及PC—PLC控制系统的主要功能等。 　　本文介绍了PLC在废油处理设备自动控制系统中的应用。主要介绍了<a href="http://www.chinabaike.com/article/baike/1001/2008/200805111470407_2.html">真空蒸发工艺</a>及PC—PLC控制系统的主要功能等。该系统实现了对废油再生设备的自动控制和运行状态的实时监控。PLC具有运行稳定、可靠性高及价格低廉等优点，提高了废油处理设备的运行控制水平。 　　正文：石油是一种重要能源和优质的化工原料，使用价值很高，通常把油液喻为现代工业装备的血液。但油液在生产、运输、储存过程中，不可避免地会受到环境的污染，使油中颗粒、水分、气体等污染物含量超标，从而严重影响充油设备的正常运行。据统计，国际上液压系统中液压元件的失效75%~80%是由油液污染引起的，严重影响了设备效能的充分发挥。因此，废油处理设备的设计、开发和运行控制受到了广泛的重视。 　　随着现代控制技术和计算机技术的迅速发展，大量新型的控制技术在各个领域得到了广泛的应用。可编程控制器PLC作为一种多功能的自动控制器，具有可靠性高、通用性好、运行稳定、安装灵活、低成本和故障率低等诸多特点，在工业控制领域得到了越来越广泛的应用。韩双霞等利用变压法对真空干燥设备的监控系统进行了设计研究；徐言生等对<a href="http://www.chvacuum.com/application/vacuumdrying/">真空冷冻干燥</a>设备控制系统进行了研究、应用。本文以重庆工商大学废油资源化技术与装备教育部工程研究中心的真空净化设备为例，来说明PLC控制器在工业废油处理设备中的应用。 <h2>1、真空蒸发工艺</h2> 　　在废油再生处理中，真空蒸发是一个很重要的单元过程。根据油与水存在较大的沸点差，在高真空状态下水的沸点大大降低而迅速挥发使油液得到干燥的原理。真空滤油机就是根据油、水之间的沸点差的真空干燥原理，结合精密过滤技术等来设计的。真空室采用超大面积、长路径、久滞留的高效型真空分离塔使水分能得到更加充分挥发、抽提，经冷凝—<a href="http://www.chvacuum.com/systemdesign/">真空系统</a>抽出，从而对废油进行净化处理。图1 是某废油再生设备的工艺流程。 <img border="0" alt="废油再生设备流程图" width="399" height="335" src="http://www.chvacuum.com/uploads/userup/0909/051544445G9.jpg" /> 图1 废油再生设备流程图 <h3>1.1、工艺过程</h3> 　　如上图所示，废润滑油液和辅料（如添加剂）分别通过供油泵和计量泵打入储油箱。同时开启搅拌器搅拌，使油中各物质混合均匀，一段时间后停止搅拌；加热器对储油箱中的油液进行加热到一定温度，有助于加速油中各种杂质的沉降。然后经板框过滤器滤去粗颗粒杂质后，将油液打入真空蒸发室。真空蒸发室是一种能够被抽成真空的密封容器，污染油液中的水分和气体杂质在其中通过蒸发实现与油液的分离，并被真空泵（真空获得设备）系统抽除。油液在真空蒸发室里形成展开面积增大了许多倍的油膜，油膜在向下滑移时伴随有翻滚，使含水油液的挥发表面不断更新油中水分迅速由液态转变为汽态，一部分通过冷凝器凝结成液态后排出，另一部分被<a href="http://www.chvacuum.com/pumps/">真空泵</a>抽除。油液经过深度净化后，通过排油泵才会启动，将负压油升为正压经单向阀、精滤器滤除细小微粒后，最后从出油口输出洁净油。 <h3>1.2、工艺测试参数</h3> 　　废油再生设备测试参数见（表1）。 表1 废油再生设备模拟量传感器测点和测试参数 <img border="0" alt="废油再生设备模拟量传感器测点和测试参数" width="485" height="249" src="http://www.chvacuum.com/uploads/userup/0909/051545021427.jpg" /> <h3>1.3、控制对象</h3> 　　供油泵、计量泵、排油泵和管道等组成了油液输运系统，为油液在废润滑油再生设备中的传输和流动提供了动力。在工艺流程中需要控制的主要对象有供油泵的启停、<a href="http://www.chvacuum.com/pumps/jixie/10277.html">计量泵</a>的启停、真空泵的启停、排油泵的启停、加热系统的调节和油、气管路<a href="http://www.chvacuum.com/valve/">阀门</a>的启闭以及其他执行元件的控制等，均按照预定的真空净油时序和测试参数控制的。#p#副标题#e# <h2>2、控制系统结构</h2> 　　该系统采用上位机和下位机相结合的架构。下位机以PLC为核心，通过数据采集模块，采集废油再生设备的运行状态参数，由RS-232/485 通讯电缆进行连接并传输到上位机。上位机以工控计算机为核心，运用VisualBasic 6.0编程开发自动监控系统，其开发周期短，完全可以满足工业软件的开发要求，从而实现对真空净化设备的运行仿真，并在上位机上通过PLC 实现对废油再生设备的实时控制。其控制系统结构如图2 所示。 <img border="0" alt="废油再生设备自动监控流程图" width="447" height="343" src="http://www.chvacuum.com/uploads/userup/0909/0515451a446.jpg" /> 图2 废油再生设备自动监控流程图 <h3>2.1、下位机（PLC）控制</h3> 　　下位机选用经济可靠的日本OMRON公司生产的CP1H-XA40型PLC。CP1H-XA40 PLC为模块式结构，CPU单元为系统的核心，包括电源、微处理器、系统存储器、控制逻辑和接口电路等，自带有24点数字量输入、16点数字量输出、4路模拟量输入和2 路模拟量输出。基本I/O单元和智能I/O单元提供现场输入设备和控制输出设备与CPU的接口电路。采用CX-Programmer 6.1编程软件，以梯形图方式对下位机PLC进行编程，以直接实现对真空净化设备传感器数据采集和执行器的自动/手动控制。 　　根据废油再生设备的蒸发室油位和管路流量，PLC对现场各个测试点参数进行控制，包括真空度、温度、流量、压力、液位等传感器。同时PLC 通过PID 调节器对加热器电源的导通角进行控制，实现对温度的控制等。 <h3>2.2、上位机（IPC）监控</h3> 　　上位机采用工控计算机作监控管理，配备显示器、打印机等外围设备，在Windows操作系统下运行由VB 6.0编程开发的监控系统。 　　Visual Basic作为一种可视化编程语言，在开监测系统中具有其独特的优势，开发界面友好，并能提供强大的串行通讯控件，可以开发串行通讯的系统程序。此VB开发的监控系统承担着真空净化设备的监控界面仿真、运行状态显示、传感器数据显示、实时和历史趋势图显示等工作任务。 <h2>3、自动控制程序的设计</h2> <h3>3.1、设备系统的控制模式</h3> 　　该设备的控制系统采用手动控制和自动控制两种控制模式。前一种方式一般只在设备调试或维修时使用，正常情况下系统主要以自动控制方式运行。在这种方式下，所有设备的启、停、各种模式的转换都由PLC 按照预先编制的程序自动运行，不需要操作人员的干预。 <h3>3.2、控制程序设计</h3> 　　VB 6.0中自带有串行通讯控件MSComm、数据库操作控件Adodc、数据库显示控件DataGrid、图像显示控件MSChart、Image 控件等，按照工艺处理流程，VB 监控程序应具备如下的功能： 　　（1）人机对话与图形界面显示。实现监测真空净化设备的运行状态、人机对话功能并提供友好实用的用户操作，同时显示工艺流程图画面、分组画面、实时/ 历史趋势图、系统报表生成、报警、打印等，并对图片进行处理达到满意的图形界面效果，且每个画面均可自由切换。 　　（2）监测与控制功能。上位机通过与PLC的通讯实现对真空净化设备的自动/手动控制。将PLC采集的实时工况、过程变量、油质指标、工艺参数，实时在显示器上直观显示出来。管理人员通过鼠标和键盘下达各种调度指令，进行工艺参数的设定。 　　（3）建立动态实时数据库功能。自动监控系统不仅要实时监测工业生产的当前工况，还应具备存储数据和查询历史数据的功能。如果不采取建立动态实时数据库来处理数据存储，将会造成数据堆积的危险，导致影响系统的正常运行。 　　（4）通讯功能。VB提供了MSComm通信控件，此控件用于支持VB对串口的访问。同时VB可以调用外部DLL或应用程序，通过DLL将数据变量传递到监控系统，形成一个C/S的框架结构。 　　（5）报警功能。在无报警时，自动隐藏报警功能；有报警时，声讯/光电报警并立即弹出当前报警信息框，所有报警信息均可在报警记录中查询，方便以后的运行分析。 <h2>4、结束语</h2> 　　随着我国对环境保护投资力度的不断加大，国内对“第四废”即废油治理的研究也越来越重视。本文创新在于：利用VB 6.0自主开发了自动监控程序，构建了PC-PLC自动控制系统。该系统配置合理、可靠性高、控制精度高和系统成本低，实现了废油再生设备的自动监控，可以很好地满足真空净油过程的自控要求，从而避免了真空净化设备的人工误操作，提高了真空净化设备净油过程的控制水平，并进一步为工业废油处理设备的智能控制构建良好的平台。 真空蒸发废油处理其他应用张贤明重庆工商大学废油资源化技术与装备教育部工程研究中心 2009-09-05 15:37 无水氯化铝在真空条件下的升华研究 http://www.chvacuum.com/application/metallurgy/081278.html AlCl3作为Al2O3的真空热还原2氯化2歧化反应的氯化剂,需要通过控制其升华条件以控制其进入反应体系的速率。本文研究了无水AlCl3 在真空条件下的升华规律。 　　当前铝工业生产普遍采用<a href="http://baike.baidu.com/view/2437031.htm">电解法</a>。在电解法不断被完善的同时,冶金工作者也一直在努力寻求新的铝的生产方法[1-4] 。人们很早就发现了低价金属铝的歧化反应现象,在歧化反应应用于铝冶金的方面做了许多研究工作[5-14] 。近年来,真空冶金的推广使用促使歧化反应在铝冶金中的应用再次被重视起来[15 - 19 ] 。真空热还原-卤化-歧化反应炼铝的研究取得了一定的成果[17-19] 。几种铝的低价化合物中氯化物最有应用前景。氯化铝升华点低,可以实现与铝的分开冷凝,可能实现半连续作业。且以氯化铝为氯化剂,可以实现循环作业,理论上氯化铝在反应流程中可以反复使用。 　　氯化铝作为一种反应物,其分压是影响真空热还原-卤化-歧化反应的一个重要条件。因此,如何控制氯化铝进入反应体系的速率也就成为一个必须要解决的问题。在影响氯化铝升华速率的可能因素中,温度是最为重要的一个条件。前人的文献中仅见到Philipp Gross 明确指出三氯化铝的升华温度选择为120℃[5] ,真空技术网的另外位投稿作者王平艳在操作步骤中提到三氯化铝升华温度为183℃[18] 。本文研究了在一定的其他条件下,温度对氯化铝升华速率的影响规律。 1、升华实验 1.1、实验设备 　　使用专门为研究<a href="http://www.chvacuum.com/">真空</a>碳热还原-卤化-歧化生产铝的工艺特别设计的三段式加热的<a href="http://www.keyehf.com/Html/News_114.html">真空实验炉</a>,如图1 所示。使得氯化铝挥发研究实验条件与生产铝工艺研究条件基本一致。 <a target="_blank" href="/uploads/userup/0908/16232T4I92.gif"><img border="0" alt="真空炉示意图" width="368" height="472" src="/uploads/userup/0908/16232T4I92.gif" /></a>  图1 　真空炉示意图 　　<a href="http://www.chvacuum.com/pumps/">真空泵</a>功率:0.25kW 　抽速:1L/s 　石墨管内径:25mm 1.2、实验原料 　　无水氯化铝:为分析纯化学试剂 1.3、实验方法 　　把5g无水三氯化铝加入到最下端的石墨筒中,抽真空至1Pa时,对最下端石墨件升温至一定的温度,保温一定的时间,停止加热,降温至70℃左右,取出未升华挥发的无水三氯化铝,称重。 　　由于氯化铝具有强烈的吸水性,附着在石墨件内壁的氯化铝会吸收空气中的水分,影响下次的实验。下次实验前需对石墨件在真空条件下升温至300℃加热处理,使吸水后的氯化铝分解、石墨件上吸附的水分挥发。 2、实验结果与讨论 2.1、三氯化铝在真空条件下的挥发规律 　　无水三氯化铝在常压下的升华温度为183℃,真空条件下其升华温度降低。我们计算了在不同的温度下三氯化铝的蒸汽压如表1。 表1 　无水三氯化铝在不同温度下的蒸汽压 <a target="_blank" href="/uploads/userup/0908/16232910GE.gif"><img border="0" alt="无水三氯化铝在不同温度下的蒸汽压" width="533" height="83" src="/uploads/userup/0908/16232910GE.gif" /></a>  　　当体系的<a href="http://www.chvacuum.com/tools/pressure.php">真空度</a>达到三氯化铝的蒸汽压时,开始升华。从表1 可见,温度越低,蒸汽压越低。所以真空度越高,开始升华的温度越低。真空炉中,无水三氯化铝在稍高于室温条件后即开始升华,高于50℃后升华速度加快。我们在不同的温度下进行实验,所得结果如图2所示。80℃保温10min ,升华出去的氯化铝为52 % ,130 ℃保温10min ,升华出去的氯化铝达68% ,180℃保温10min,挥发量已接近80%。所以,在进行歧化法炼铝的研究时,氯化铝的升华温度应保持在80 ℃左右,根据所需氯化铝流量的大小适当提高或降低升华温度。但不应该高于130℃、低于50℃。还应注意氯化铝升华时,随着时间的延长,升华速率降低。在130 ℃、180 ℃、220 ℃下延长升华时间为60min、120min 时都不能使三氯化铝升华挥发完全,残余三氯化铝的质量都为0.5g。 图2 　残余物的质量随升华时间的变化 <a target="_blank" href="/uploads/userup/0908/16232922bB.gif"><img border="0" alt="残余物的质量随升华时间的变化" width="401" height="306" src="/uploads/userup/0908/16232922bB.gif" /></a> #p#副标题#e# 2.2、实验现象及解释 　　升华实验过程中,各温度条件下,残压随时间的变化趋势类似,仅以80 ℃下升华5g 氯化铝120min的实验来进行分析。如图3 所示,温度升高到80 ℃时,残压升高。残压的升高可能由于石墨件吸附的气体的释放、无水氯化铝吸水后加热分解放出氯化氢气体、未冷凝下来的氯化铝气体。实验后观察,炉顶真空管接口处、真空泵出气口处都附着有固体物质,说明三氯化铝未能完全在上段冷凝盘区冷凝下来。未能完全冷凝下来的无水氯化铝是残压升高的原因之一。 图3 　80 ℃下压力随升华时间的变化 <a target="_blank" href="/uploads/userup/0908/162329395541.gif"><img border="0" alt="80 ℃下压力随升华时间的变化" width="425" height="277" src="/uploads/userup/0908/162329395541.gif" /></a>　　 　　石墨件在空气中放置后,上半部分滑湿,吸水现象严重,应当是冷凝下来的氯化铝吸水潮解,水合氯化铝加热分解应得到氧化铝。但在300 ℃加热处理2h 后,成为干燥白色物质起壳,进行X2射线衍射分析未得到氧化铝的衍射图,为非晶态物质。 2.3、残余物的性质分析 2.3.1、残余物的溶解性 　　在实验中发现,升高温度和延长升华时间,都不能使三氯化铝挥发完,残余氯化铝最少为10 %。由于三氯化铝具有强烈的吸水性,在保存或操作过程中都可能吸水,三氯化铝升华后的残余物就有可能是水合氯化铝分解产物氧化铝。然而,对其进行溶解性实验,发现大部分可溶解在水中,说明残余物的主要成分不是氧化铝。 2.3.2、残余物吸水性 　　试剂氯化铝具有强烈的吸水性,而挥发后氯化铝残余物在空气中放置一定的时间,发现随升华处理的条件不同,表现出不同的吸水性。观察其外观并称重,把吸水程度列于表2 进行比较。由于空气的湿度不同,称重的结果只作为判断吸水性强弱的一个依据,不在表中列出。 表2 　残余物吸水性 <a target="_blank" href="/uploads/userup/0908/162330095226.gif"><img border="0" alt="残余物吸水性" width="620" src="/uploads/userup/0908/162330095226.gif" /></a> 　　可见,三氯化铝升华后的残余物,随升华温度的升高、时间的延长,吸水性越来越弱。 2.3.3、残余氯化铝结构分析 　　无水氯化铝中铝的理论含量为20.24 % ,用置换滴定分析法测定实验用试剂无水氯化铝中的铝含量为19.13 % ,说明氯化铝有一定程度的吸水潮解。对130 ℃下升华120min 后的氯化铝残余物,用同样的方法分析,测出其铝含量为29.14 % ,远高于铝的理论含量。 　　对氯化铝残余物及原料氯化铝进行X2粉末衍射分析如图4 所示。 　　原料氯化铝的各主要峰位置与标准卡片位置基本一致,但最强峰和次强峰减弱。无水氯化铝性质不稳定,一定程度的潮解导致了晶体的微观结构出现改变。 　　氯化铝升华后的残留物为非晶形物质。氯化铝加热可以发生的变化为: (1) 无水氯化铝加热可以分解为铝和氯气,导致失去氯元素。(2) 含有水时,加热可以生成聚合氯化铝。(加少许升华后残留物于有机染料溶液中,具有明显的絮凝作用) (3) 无水氯化铝的熔点很低,为190 ℃,加热可以导致非晶化,加热温度越接近熔点,加热时间越长,非晶化程度越高。所以,残留物的可能组成为:非晶的氯化铝、聚合氯化铝及铝。 <a target="_blank" href="/uploads/userup/0908/162330325J1.gif"><img border="0" alt="残余物及原料氯化铝的X2射线衍射图" width="446" height="173" src="/uploads/userup/0908/162330325J1.gif" /></a>  图4 　残余物及原料氯化铝的X2射线衍射图 3、结论 　　无水三氯化铝作为真空碳热还原2氯化2歧化反应的氯化剂,合适的升华温度为80 ℃左右。温度太低,进入反应区的速度太慢,影响还原-氯化反应的进行。温度太高,升华速度太快,影响后续的低价氯化铝的歧化反应,且会使三氯化铝进入<a href="http://www.chvacuum.com/pumps/">真空泵</a>而缩短泵的使用寿命。 　　无水三氯化铝在真空条件下,长时间加热后会脱去部分氯,脱去部分氯后的氯化铝残留物为粉末状、非晶形,可溶解于水中,升华性、吸水性明显减弱。其可能组成为:非晶的氯化铝,含有聚合氯化铝及铝。 参考文献： [1] 　Murray JP. 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BORDER-LEFT: rgb(0,0,0) 1px solid; BORDER-TOP: rgb(0,0,0) 1px solid; BORDER-RIGHT: rgb(0,0,0) 1px solid" border="0" alt="真空辅助树脂灌注树脂制备（二）" src="/uploads/allimg/080902/1556061.jpg" /> <a href="http://www.chvacuum.com/uploads/allimg/080902/1556061.jpg">真空辅助树脂灌注树脂制备（二）</a>     对BA9912树脂进行DSC分析，可以了解树脂体系的固化反应特性，其DSC曲线如图2所示。分析图2可知，BA9912树脂的反应放热峰始温度为112℃、峰顶温度为139℃、峰终温度153℃，从中可以看出，该体系反应温度区域窄反应温度较低，反应活性高，能够满足中温(120℃)固化的要求。 <img style="BORDER-BOTTOM: rgb(0,0,0) 1px solid; BORDER-LEFT: rgb(0,0,0) 1px solid; BORDER-TOP: rgb(0,0,0) 1px solid; BORDER-RIGHT: rgb(0,0,0) 1px solid" border="0" alt="真空辅助树脂灌注树脂制备（二）" src="/uploads/allimg/080902/1556062.jpg" /> <a href="http://www.chvacuum.com/uploads/allimg/080902/1556062.jpg">真空辅助树脂灌注树脂制备（二）</a> #p#分页标题#e#    图3为BA9912树脂中温固化物的DMA曲线。从图中可以获知，BA9912树脂在中温固化条件下，固化物的玻璃化转变温度Tg达到了 187℃，其模量—温度曲线的拐点为173.9℃，82℃时的模量保持率达到88%，120℃时则达到了80.1%，说明BA9912树脂活性高，耐热性好，能够满足工作温度82℃以上的要求。     通过流变仪对BA9912树g旨的黏度特睦进行测试分析，获得了BA9912 树脂的黏度—温度曲线(见图4)。BA9912树脂的室温黏度较低，约为300mPa•s左右，能够满足VARI低成本成型工艺要求。BA9912树脂的黏度随着温度的上升而迅速降低，50℃温度下黏度即可达到50mpa•s以下，最低黏度在20mpa•s左右，可见该树脂体系能够满足VARI成型工艺对基体树脂的低黏度要求。使用BA9912树脂和G0827经编织物进行了大量的VARI成型工艺研究，研究结果表明BA9912树脂工艺性能良好。     2、BA9912树脂浇注料的性能按照国军标的要求，制作了BA9912树脂浇注料的力学性能试验件，并进行了相应性能的测试分析。BA9912树脂浇注料的主要性能如表1所示。美国Cytec公司开发的CYCOM823RTM环氧树脂体系的物化特性与BA9912树脂比较接近，且已在航空航天领域获得了良好的应用。因此这2个树脂体系进行了一些对比分析。CYCOM823RTM树脂浇注料的性能见表1。     表1BA9912树脂浇注料和CYCOIVl823RTM树脂浇注料的性能     项  目         BA9912树脂        CYCOM823RTM树脂     拉伸模量/MPa       4.3                80     拉伸模量/GPa        3.36              2.9     压缩强度/MPa        167               -     压缩模量/GPa        3.36              -     弯曲强度/MPa         109              144     弯曲模量/GPa         3.73             3.4     拉伸伸长率/％        2.79            8.8      Tg/％               187             135     密度/(g·cm-3)         1.27            1.23     BA9912树脂的物化特性主要如下：中温固化(120℃/4h)，初始注射黏度约为300mPa•s，最低黏度约为20mPa•s，可室温注射，湿态工作温度为 82℃，干态工作温度可达120℃。CY-COM823RTM树脂的物化特性主要如下：中温固化(125℃1h)，初始注射黏度为250mpa•s，最低黏度<20mPa•s，可室温注射，湿态工作温度为90℃，干态工作温度为110℃。比较后认为，BA9912树脂的性能与CY- COM823RTM树脂的性能比较相近，主要差别在于拉伸伸长率和玻璃化转变温度Tg，CY-COM823RTM树脂的伸长率高达8.8％，Tg为 135℃；BA9912的伸长率为2.79％，Tg则高达187℃，耐热性优良。 VARI 真空辅助成型树脂基体树脂其他应用真空技术网网络 2008-09-02 15:52 GB4982-85夹紧型真空快卸法兰 http://www.chvacuum.com/engineering/12529.html GB 4982-85夹紧型真空快卸法兰标准PDF下载 GB 4982-85夹紧型真空快卸法兰标准适用于低、中、高真空管路，其公称通径为10至40MM，用O型密封圈的夹紧型真空快卸法兰。 1、夹紧型真空快卸法兰结构形式及通径如图所示 <a target="_blank" href="http://www.chvacuum.com/uploads/userup/0812/052009555031.gif"><img border="0" alt="夹紧型真空快卸法兰" width="517" height="411" src="http://www.chvacuum.com/uploads/userup/0812/052009555031.gif" /></a>  GB4982-85 夹紧型真空法兰真空基础 admin 真空技术网整理 2008-12-05 20:05 GB4983-85拧紧型真空快卸法兰真空技术标准 http://www.chvacuum.com/engineering/12533.html GB4983-85拧紧型真空快卸法兰标准PDF下载 GB4983-85拧紧型真空快卸法兰标准适用于低、中、高真空管路，其公称通径为10至40MM，用O型密封圈的拧紧型真空快卸法兰。 1、拧紧型真空快卸法兰结构形式及通径如图所示 <a target="_blank" href="/uploads/userup/0812/06131G015a.gif"><img border="0" alt="GB4983-85" width="486" height="319" src="/uploads/userup/0812/06131G015a.gif" /></a>  图：拧紧型真空快卸法兰结构型式 GB4983-85 真空法兰真空基础真空技术论坛转载中华人民共和国国家标准 2008-12-06 13:14 不同封装白光LED衰减特性的研究 http://www.chvacuum.com/engineering/111627.html 对GaN基蓝色发光芯片，激发YAG黄色荧光粉混光获得白光的LED（W-LED）的衰减特性进行了系统研究。 　　本文对GaN基蓝色发光芯片，激发YAG黄色荧光粉混光获得白光的LED（W-LED）的衰减特性进行了系统研究。以不同封装及集成模式制作W-LED 模块，对比了以传统封装的点光源W-LED光源结构和平面封装的W-LED光源结构的衰减情况。结果表明LED的封装结构对其散热性能有重要影响。与传统颗粒封装工艺相比，平面封装工艺可以大大改善W-LED集成光源模块的散热性能，因此可以有效地延长LED光源的使用寿命。 <h2>一、引言</h2> 　　作为第四代照明光源，GaN基发光二极管（LED）一经问世就受到了广泛关注，对比前三代照明光源，即白炽灯、荧光灯和气体放电灯，LED具有环保、节能、显色指数高、体积小、寿命长、响应速度快等突出优点，并被广泛应用于汽车、交通灯、电子产品背光源、显 示屏、景观照明灯等领域。 　　节能是LED最大的特点，在我国具有非常重要的现实意义。中国照明用电约占总电量的12%, 保守估计2010年我国总发电量将达到30000亿度，照明用电将达到约3600亿度，如能节约一半的照明用电就是1800亿度，相当于两个三峡电站的年发电量。随着技术的发展，白光LED比白炽灯节能90%，比荧光灯节能60%。照明节能产生了两方面益处：能源消耗的节约和二氧化碳气体排放的减少。 　　LED照明技术正处于一个迅速发展的阶段，发光效率不断改善，根据Haitz定律，每两年单个LED封装器件输出的光通量将翻一倍。未来LED将成为全球照明的主要光源。利用LED作为光源制造出来的照明器具，在照明领域正吸引着世人的目光。LED作为一种新型的绿色光源产品，必然是未来发展的趋势，21世纪将进入以LED为代表的新型照明光源时代。 　　LED的优异性能使其快速地进入了照明光源产业，但由于芯片发热而引起的光衰使LED照明应用的发展遇到了瓶颈。尽管很多实验研究表明LED的寿命可达十万小时以上，但是传统封装的LED光衰严重，因此，改变封装材料及改善封装结构就成为了解决散热问题的主要途径。本文通过长时间的老化测试，对封装结构和工艺的优化能否解决LED散热问题进行了研究。 <h2>二、实验</h2> 　　实验中的白光LED光源模块采用了两种不同封装工艺。一种是采用传统工艺将YAG荧光粉涂敷在蓝色芯片表面，用环氧树脂常规封装的W-LED颗粒直径为5mm,光出射角为60°，W-LED颗粒的剖面如图1-b所示。分别选择32颗和52颗光电特性一致的W-LED颗粒，以串联的形式集成于具有电路布置的PCB板上形成LED集成光源模块，如图1-a所示。通过驱动电路，使W-LED集成光源模块发光工作。正常工作时，输入电压为220V,W-LED的工作电流为15mA，32颗和52颗集成光源实测功率分别为1W和2W，文中对其简称为1W模块和2W模块。对1W模块和2W模块分别进行2000小时的老化，采用照度仪(TES 1330A)测试其不同阶段的照度值，光源测试环境为37cm*25cm的暗箱。 <img style="WIDTH: 277px; HEIGHT: 435px" border="0" alt="传统封装的W-LED结构示意图" width="354" height="478" src="/uploads/userup/0911/301419411K4.gif" /> 图1 传统封装的W-LED结构示意图：（a）多颗W-LED集成光源模块示意图（1.传统W-LED颗粒 2.PCB板）（b）单颗W-LED结构示意图（1.芯片 2.荧光粉 3.环氧树脂 4.金线5.支架） 　　另一种封装形式是平面封装结构，是在铝基板上制造凹槽结构，将蓝光芯片通过传统固晶工艺，直接安装在铝基板的凹槽结构中，将芯片电极与图形化的铝基板电极相连接，最后采用灌胶工艺将荧光粉胶灌覆于串联芯片的表面。形成一光滑平面，实现混光型白光LED平面光源模块如图2-a所示，其单元结构如图2-b所示。采用该封装工艺配合驱动电路，通过串并联法制造出实测功率为对8W和17W的新型W-LED平面光源。正常工作时输入电压为220V，8W W-LED平面光源模块的正常工作电流为120mA，17W W-LED的平面光源模块的正常工作电流为240mA，单颗W-LED芯片上的工作电流为20mA。分别对8W和17W的W-LED平面光源进行2000小时的老化测试，采用照度计(TES 1330A)测试其各时间段照度。测试环境为暗室，测试仪器与被测光源相距3m。 <img border="0" alt="" width="400" height="76" src="/uploads/userup/0911/301420152209.gif" /><img border="0" alt="" width="200" height="116" src="/uploads/userup/0911/3014204U400.gif" /> 图2 平面封装W-LED单元结构示意图:：(a). W-LED平面光源模块结构示意图(1.荧光粉 2.铝基板) （b）W-LED平面光源单元结构示意图（1.芯片 2.电极 3.荧光粉 4.绝缘层 4.铝基板 6.金线）#p#副标题#e# <h2 align="left">三、结果与分析</h2> 　　实验中，A、B样品分别由两家不同的封装厂家提供。W-LED颗粒组成阵列型集成模块，将A公司的LED样品制作成1W和2W的阵列型光源集成模块各两组，分别标记为样品A-1(1W) 、样品A-2(1W) 、样品A-3(2W)、样品A-4(2W)，将B公司的LED样品制作成四组1W和两组2W光源集成模块, 分别标记为样品B-1(1W) 、样品B-2(1W) 、样品B-3(2W)、样品B-4(2W)。不同模块的老化衰减图分别如图3与图4所示。从图中可以看出，同一家公司的W-LED样品的一致性较好，但随着老化时间的增加其衰减较大。经计算此种样品在老化2000小时后衰减都达到了40%以上，并且部分W-LED环氧开始变黄。该结果主要是功率型芯片采用了传统W-LED封装形式，由于散热不良引起了芯片结温快速升高，环氧碳化变黄，从而使得W-LED的光衰变大。 　　样品C为8W和17W的平面光源模块，分别将其标记为样品C-1和样品C-2。图5给出了W-LED平面光源模块的老化衰减图。从图中可以看出随着老化时间的增加，照度变化平稳，没有明显的光衰。表1给出了老化2000小时后，各LED样品的衰减情况。从表中可以看出当工作时间为2000小时时，8W W-LED平面光源模块的照度衰减为3.8%，17W的新型W-LED模块照度衰减为5.6%。与传统工艺的W-LED集成光源模块相比，W-LED工作总功率大，单个芯片工作电流大，光衰反而低，说明采用了新型封装方法的LED有效地改善了传统LED的散热问题，这是因为新型W-LED芯片下面与铝基板直接接触，铝基板既起到了固定作用，又起到了散热基板的作用，加速散热，从而减缓了芯片和荧光粉的老化速度，降低了LED的光衰。 <img border="0" alt="样品B传统封装W-LED老化衰减图" width="300" height="254" src="/uploads/userup/0911/301421449491.gif" /><img border="0" alt="" width="304" height="268" src="/uploads/userup/0911/301421595X2.gif" /> 　　样品C为8W和17W的平面光源模块，分别将其标记为样品C-1和样品C-2。图5给出了W-LED平面光源模块的老化衰减图。从图中可以看出随着老化时间的增加，照度变化平稳，没有明显的光衰。表1给出了老化2000小时后，各LED样品的衰减情况。从表中可以看出当工作时间为2000小时时，8W W-LED平面光源模块的照度衰减为3.8%，17W的新型W-LED模块照度衰减为5.6%。与传统工艺的W-LED集成光源模块相比，W-LED工作总功率大，单个芯片工作电流大，光衰反而低，说明采用了新型封装方法的LED有效地改善了传统LED的散热问题，这是因为新型W-LED芯片下面与铝基板直接接触，铝基板既起到了固定作用，又起到了散热基板的作用，加速散热，从而减缓了芯片和荧光粉的老化速度，降低了LED的光衰。 <img border="0" alt="" width="300" src="/uploads/userup/0911/3014221TH3.gif" /><img border="0" alt="" width="300" height="147" src="/uploads/userup/0911/301422264109.gif" /> 　　统封装形式的W-LED集成光源，因封装结构中的散热面积有限，经过2000小时老化工作时间后，光的照度衰减率均在40%以上；而采用平面封装工艺制作出的W-LED，散热良好，经2000小时的老化工作时间后，光的照度衰减率在6%以内。因此要保证W-LED集成光源的使用寿命，采用平面封装工艺改善W-LED散热性能是一种有效的方法。 真空基础刘菁菁华东师范大学纳光电集成与先进装备教育部工程研究中心 2009-11-30 14:14 不同铁磁层厚度的Fe20Ni80/SiO2/Cu的制备与磁性研究 http://www.chvacuum.com/engineering/121665.html 基于磁控溅射技术制备了不同铁磁层厚度的复合结构细丝，并研究了厚度对材料磁性能影响　　结合自旋设备利用磁控溅射制备了Ni80Fe20/SiO2/Cu 复合结构丝，固定Cu 丝直径为60 微米，SiO2厚度为3.75 微米，通过控制溅射时间改变铁磁层厚度。研究了厚度对材料磁阻抗效应等磁性能的影响，结果表明当Ni80Fe20 厚度为 2.55 微米时，复合结构丝对外场灵敏度可达121%/Oe。 <h2>一、引言</h2> 　　巨磁阻抗(GMI)效应是指铁磁材料的交流阻抗在外加直流磁场的作用下会发生显著变化的现象。自1992 年由日本科学家Mohri 等在Co基非晶丝中发现以来，在物理机理上和实际应用上都引起人们极大的关注。由于GMI 效应具有灵敏度高，响应快，饱和磁场低等优点，使得GMI效应在磁传感器上有很好的应用前景。 　　近年来，人们不仅在不同软磁材料组成的匀质丝、条带、薄膜发现较大的GMI 效应外，还在复合结构丝和三明治薄膜中观察到GMI 效应。与匀质材料相比，复合结构材料中的GMI 效应表现出两个主要特点：第一是GMI 效应显著增强；另外就是在比较低的频率下就可以观察到明显的MI 变化，所以这种复合结构材料更有利于实现传感器等敏感器件的微型化和实用性。 　　目前制备复合结构丝方法可分为物理方法和化学方法两种，物理方法有冷拉和磁控溅射，化学方法有电镀和化学镀。磁控溅射方法制备复合丝，需要同时细丝自旋以镀层均匀。 　　本文基于磁控溅射技术制备了不同铁磁层厚度的复合结构细丝，并研究了厚度对材料磁性能影响。 <h2>二、实验</h2> 　　Ni80Fe20/Cu 和 Ni80Fe20/SiO2/Cu 复合结构丝利用磁控溅射室温制得。制备前，60 微米Cu丝先后浸入丙酮和10%稀盐酸中去除附着在铜丝表面的油脂和氧化物，每次均用去离子水清洗干净。溅射过程中，铜丝以每分钟120 周速度自旋，已得到镀层均匀。本底真空为 2×10-4Pa，溅射SiO2 和 Ni80Fe20 过程，压强分别为0.8 Pa 和0.65 Pa，溅射功率分别为70W 和230W ，对应溅射速率为43.75nm/min 和12.5 nm/min。维持绝缘层厚度3.75 微米不变，控制溅射时间得到不同厚度的复合结构丝。 　　样品形貌和厚度利用SEM 测量，利用振动样品磁强计测量了样品的磁滞回线，磁阻抗利用HIOKI3532LCR 阻抗分析仪测试，测量频率从100Hz 到120MHz。外加直流磁场由Helmholtz线圈提供，磁场范围为0～120Oe。为减少地磁场的影响，Helmholtz 线圈的磁场方向应与地磁场垂直。阻抗比的变化定义为： <img alt="" src="/uploads/allimg/091211/1624300.jpg" /> 　　其中，  Z H (ext)为外加磁场为ext H时的阻抗值。 <h2 align="left">三、结果与讨论</h2> 　　图一(a)是Ni80Fe20/Cu 的SEM 照片，其中铁磁层厚度为0.9 微米，可以看出样品表面相当光滑完整，图一(b-d)是Ni80Fe20/SiO2/Cu 复合结构丝的SEM 照片，其中SiO2的厚度为3.75 微米，铁磁层Ni80Fe20 的厚度分别为2.1、2.55 和3微米，图中看出铁磁层表面存在很多晶粒而不平滑，随着厚度增加，晶粒减小，趋于平滑。这主要是由于绝缘层的存在使得晶格类型失配导致，随着溅射时间增加，腔体内温度升高，层间附着力降低，而且“厚层” Ni80Fe20是在“薄层” Ni80Fe20上生长的晶格匹配较好，故而随厚度增加，表面趋于光滑。 <img alt="" width="331" height="289" src="/uploads/allimg/091211/1624301.jpg" /> 图一复合结构丝的SEM 照片 　　图2(a)是Ni80Fe20/SiO2/Cu 复合结构丝的磁滞回线，2(b)是矫顽力和铁磁层厚度的对应关系曲线。图中可以看出当Ni80Fe20 厚度为0.9 和3.9 微米时，铁磁层磁结构趋于轴向，对应的矫顽力较大软磁性能也较差。其它样品磁结构则趋于环向，对应的矫顽力也小，厚度为2.55 微米对应的矫顽力最小，有望获得最佳软磁特性。 <img alt="" width="471" height="205" src="/uploads/allimg/091211/1624302.jpg" /> 　　图3(a)是不同铁磁层厚度Ni80Fe20/SiO2/Cu 复合结构丝的磁阻抗效应曲线，3(b)是曲线上升段对外加磁场的灵敏度。可以看出最大阻抗比和磁场灵敏度随铁磁层厚度增加先增大后减小。最大阻抗比出现在Ni80Fe20  厚度为2.55 微米样品，阻抗比和灵敏度分别高达655.65% 和121%/Oe。这些结果与前面磁滞回线测试结果一直，随着Ni80Fe20 厚度增加，环向磁结构的产生导致环向动态磁导率增加，进而增大阻抗比。另一方面，由于安培定律，厚度增加，使得作用在铁磁层的感应磁场减小，这会减小动态磁化，两方面竞争的结果就是在固定绝缘层厚度时，存在最佳铁磁层厚度。 <img alt="" width="457" height="211" src="/uploads/allimg/091211/1624303.jpg" /> 　　图4(a)是Ni80Fe20/SiO2/Cu复合结构丝的频谱图，图4(b)分别标出了相应的起始频率f0和特征频率fmax 与铁磁层厚度的依赖关系。众所周知，起始频率发生在趋肤深度刚好与铁磁层厚度想当时，对于环向结构细丝来讲，将会在外场与各向异性场想当时。从图中看出f0 和fmax均随铁磁层厚度先减小后增加。最小值发生在厚度为2.55 微米样品。最近报道复合结构丝的巨磁阻抗效应仍起源于趋肤效应。正是铁磁层和导电层之间的相互作用增强了趋肤效应，使得GMI 最大值增大且频率向低端移动。 <img style="WIDTH: 425px; HEIGHT: 191px" alt="" width="500" height="222" src="/uploads/allimg/091211/1624304.jpg" /> 　　图4不同铁磁层厚度样品的磁阻抗频谱图及特征频率与铁磁层厚度关系而针对复合结构丝，至今仍没有趋肤深度的表达式，但我们可以猜测其仍为单质材料趋肤深度的某种函数，可以表达为： <img alt="" src="/uploads/allimg/091211/1624305.jpg" /> 　　式中μΦ 是铁磁层中动态环向磁导率， σ 是电导率，ω 是驱动电流的角频率。　　这样特征频率可以粗略地表示为 <img alt="" src="/uploads/allimg/091211/1624306.jpg" /> 　　其中 d 是复合结构丝直径， μΦS 是饱和场120Oe下的饱和磁导率。 　　图3中我们还可以看出，动态环向磁导率μΦ 和μΦS 随铁磁层厚度先增大后减小。根据公式(2)和(3)可知起始频率和特征频率随厚度有相反趋势，如图4 所示。 <h2 align="left">四、结论</h2> 　　制备了Ni80Fe20/SiO2/Cu 复合结构丝，并利用SEM、VSM、GMI 等测试手段研究了铁磁层厚度与材料形貌结构及磁性能关系，得到了最佳厚度，并得到了灵敏度高达121％/Oe 的敏感元件。 真空基础石凌燕纳光电集成与先进装备教育部工程研究中心 2009-12-11 16:17 不同真空状态下各种真空工艺技术的应用概况 http://www.chvacuum.com/engineering/0986.html 随着气态空间中气体分子密度的减小，气体的物理性质发生了明显的变化，人们就是基于气体性质的这一变化，在不同的真空状态下、应用各种不同的真空工艺、达到为生产及科学研究服务的目的。     随着气态空间中气体分子密度的减小，气体的物理性质发生了明显的变化，人们就是基于气体性质的这一变化，在不同的真空状态下、应用各种不同的真空工艺、达到为生产及科学研究服务的目的。目前，可以说，从每平方厘米表面上有上百个电子元件的超大规模集成电路的制造，到几公里长的大型加速器的运转，从民用装饰品的生产到受控核聚变、人造卫星、航天飞机的问世，都与真空工艺技术密切相关。不同真空状态下所引发出来的各种真空工艺技术的应用概况如表 4 所示。 表 4 不同真空状态下各种真空工艺技术的应用概况 <table border="1" cellspacing="0" bordercolorlight="#ffffff" bordercolordark="#000000" cellpadding="0" width="95%" align="center"> <tbody> <tr> <td style="FONT-SIZE: 11pt" width="96"> 真空状态 </td> <td style="FONT-SIZE: 11pt" width="120"> 气体性质 </td> <td style="FONT-SIZE: 11pt" width="144"> 应用原理 </td> <td style="FONT-SIZE: 11pt" width="300"> 应用概况 </td> </tr> <tr> <td style="FONT-SIZE: 11pt" width="96"> 粗真空 105 ~103（Pa） 760~10（Torr） </td> <td style="FONT-SIZE: 11pt" width="120"> 气体状态与常压相比较只有分子数目由多变少的变化，而无气体分子空间特性的变化．分子相互间碰撞频繁 </td> <td style="FONT-SIZE: 11pt" width="144"> 利用真空与大气的压力差产生的力及感差力均匀的原理实现真空的力学应用 </td> <td style="FONT-SIZE: 11pt" width="300"> 1. 真空吸引和输运固体、液体、胶体和微粒； 2. 真空吸盘起重、真空医疗器械； 3. 真空成型，复制浮雕； 4. 真空过滤； 5. 真空浸渍。 </td> </tr> <tr> <td style="FONT-SIZE: 11pt" width="96"> 低真空 103 ~10-1（Pa） 10~10-3（Torr） </td> <td style="FONT-SIZE: 11pt" width="120"> 气体分子间，分子与器壁间的相互碰撞不相上下，气体分子密度较小 </td> <td style="FONT-SIZE: 11pt" width="144"> 利用气体分子密度降低可实现无氧化加热利用气压降低时气体的热传导及对流逐渐消失的原理实现真空隔热和绝缘 利用压强降低液体沸点也降低的原理实现真空冷冻真空干燥 </td> <td style="FONT-SIZE: 11pt" width="300"> 1. 黑色金属的真空熔炼，脱气、浇铸和热处理 2. 真空热轧、真空表面渗铬； 3. 真空绝缘和真空隔热； 4. 真空蒸馏药物、油类及高分子化合物； 5. 真空冷冻、真空干燥； 6. 真空包装、真空充气包装； 7. 高速空气动力学实验中的低压风洞 </td> </tr> <tr> <td style="FONT-SIZE: 11pt" width="96"> 高真空 10-1 ~10-6（Pa） 10-3~10-8 （ Torr ） </td> <td style="FONT-SIZE: 11pt" width="120"> 分子间相互碰撞极少、分子与器壁间碰撞频繁 气体分子密度小 </td> <td style="FONT-SIZE: 11pt" width="144"> 利用气体分子密度小任何物质与残余气体分子的化学作用徽弱的特点进行真空冶金、真空镀膜及真空器件生产 </td> <td style="FONT-SIZE: 11pt" width="300"> 1. 稀有金属、超纯金属和合金、半导体材料的真空熔炼和精制；常用结构材料的真空还原冶金； 2. 纯金属的真空蒸馏精练；放射性同位素蒸发； 3. 难熔金疆的真空烧结； 4. 半导体材料的真空提纯和晶体制备； 5. 高温金相显微镜及高温材料实验设备的制造； 6. 真空镀膜，离子注入．膜一刻蚀等表面改性； 7. 电真空工业的电光管、离子管、电子源管、电子束管、电子衍射仪，电子显微镜、 x 光显微镜，各种粒了加速器、能谱仪、核辐射谱仪，中子管、气体激光器的制造； 8. 电子束除气、电子束焊接，区域熔炼，电子束加 </td> </tr> <tr> <td style="FONT-SIZE: 11pt" width="96"> 超高真空 10-1 ~10-6（Pa） 10-1~10-8（Torr） </td> <td style="FONT-SIZE: 11pt" width="120"> 气体分子密度摄低与器壁磋撞的次敌极少致使表面形成单分子层的时间增长 气态空间中只有固体本身的原子几乎没有其他原子或分子的存在。 </td> <td style="FONT-SIZE: 11pt" width="144"> 利用气体分子密度极低与表面碰撞极少，表面形成单一分子层时间很长的原理实现表面物理与表面化学的研究 </td> <td style="FONT-SIZE: 11pt" width="300"> 1. 可控热核聚变的研究； 2. 时间基准氢分子镜的制作； 3 ．表面物理表面化学的研究； 4. 宇宙空间环境的模拟； 5. 大型同步质子加速器的运转； 6. 电磁悬浮式高精度陀螺仪的制作。 </td> </tr> </tbody> </table> <h3 style="FONT-SIZE: 11pt" align="left">真空的含义及特点其它相关文档：</h3> <ul> <li> <div style="FONT-SIZE: 11pt" align="left"><a title="真空的含义及特点" href="http://www.chvacuum.com/engineering/0985.html">真空的含义及特点</a></div> </li> <li> <div 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href="http://www.chvacuum.com/seal/static/02677.html">真空封接</a>的工艺组装在了三极型的像素管中。在实际应用中，像素管不仅可以作为单独的发光器件，而且有可能组成阵列作为户外大屏幕显示器。传统的像素管采用的是热灯丝作为阴极电子源，然而热灯丝电子源有较大的功耗，这限制了像素管的广泛应用，用CNT场发射阴极代替热灯丝阴极可以大大降低功耗。在本文中，采用CNT阴极的像素管可以工作在10kV的阳极高压下，在脉冲模式下具有均匀和稳定的发光效果，在50h的测试中，没有观察到明显的电流衰减。 <h2>1、实验</h2> 　　实验首先配制了CNT浆料。CNT 浆料是含有CNT 的复合材料，它的主要成分是：直径为10nm的多壁碳纳米管（5%），InSnO2（ 10%）和有机载体（85%）；其中有机载体的成分有：乙基纤维素（粘结剂5%），松油醇（溶剂90%），邻位苯二甲酸二丁酯（增塑剂5%）。CNT浆料的制备过程大致可以分为以下三步： 　　（1）制备分散性好的CNT溶液。首先将粉末状的CNT 在二氯乙烷中用细胞破碎机分散30 min，大约每2gCNT需要500mL的二氯乙烷。为了使CNT进一步分散，再将CNT 溶液超声分散30min。经过这两步分散，仍有少量CNT颗粒不能溶解，最后过滤掉这些无法分散的CNT 颗粒，就得到了分散均匀的CNT 溶液。 　　（2）制备有机载体。在100℃的油浴及搅拌的条件下，将乙基纤维素溶解到松油醇中，然后加入邻苯二甲酸二丁酯并加热和搅拌持续24h。 　　（3）将CNT溶液与有机载体混合，并加入InSnO2。超声混合30 min，然后用90℃的水浴蒸发二氯乙烷，直至蒸干便得到了CNT 浆料。接下来，在不锈钢基底上制备CNT场发射阴极，制备流程如图1 所示。首先在不锈钢基底上印刷一层银浆料（NT-4734,Noritake Electronics），并用热空气使其固化，银浆料层的厚度约为20 μm。随后在银浆料层上印刷CNT 浆料层。将印刷好的不锈钢基底置于425℃的高温炉中进行烘烤、烧结，并通入氮气保护气氛。烧结之后，用胶带反复粘揭浆料表面，这个过程使得埋在浆料中的CNT露出表面，形成场发射尖端。 　　我们在扫描电子显微镜（SEM）下研究了CNT阴极的表面形貌，并测试了它的场发射特性。最后，CNT阴极通过真空封接的工艺组装在了像素管中。图2 是像素管的结构示意图，它具有三极型的结构。钼网作为栅极使CNT发射电子，并能控制发射电流的大小，栅极与CNT阴极由陶瓷片隔开，它们之间的距离约为300μm。栅极与阴极一起构成了电子枪模块。与电子枪模块相对的是阳极荧光屏，荧光屏包含了一层荧光粉和一层约100nm厚的铝膜，铝膜一方面起到了导电的作用，另一方面也起到了反光层的作用。荧光屏采用了发光为红、绿、蓝三种颜色的高压荧光粉。荧光屏的直径为22mm，电子枪模块距荧光屏的距离为40mm。封装好的像素管内部的真空度约为10-4Pa，通过消气剂的作用进一步提高了真空度。 <img border="0" alt="以不锈钢为基底的CNT 场发射阴极的制备流程" width="300" height="242" src="http://www.chvacuum.com/uploads/userup/0911/26000G4X52.gif" /><img border="0" alt="采用CNT 阴极的像素管的结构示意图" width="300" height="208" src="http://www.chvacuum.com/uploads/userup/0911/26000I13343.gif" /> 图1 以不锈钢为基底的CNT 场发射阴极的制备流程　　图2 采用CNT 阴极的像素管的结构示意图 <h2>2、结果和讨论</h2> 　　图3 是CNT阴极表面形貌的SEM照片。从中可以看到有许多直立于浆料表面的CNT，这些露出表面的CNT构成了场发射尖端。CNT阴极的I-V特性曲线如图4 所示，栅极电位从500 V 变化到1600 V。根据Fowler-Nordheim（F-N）理论，场发射电流I 与材料的逸出功Ф 和发射体表面的局域电场强度F 的关系是：I&prop;（F2/Ф）exp (-BФ3/2/F)，其中B = 6.83×109 eV-3/2·V·m-1。局域电场F 通常表示为F=βE=β V/d ，β 是场增强因子，E是宏观电场强度。场发射I-V特性对应的F-N曲线则表示为ln(I/V2)&prop;(-BФ3/2d/β)V-1，它是一条斜率为负的直线。图4 中的插图是CNT 阴极的I-V曲线对应的F-N曲线，呈现出了完美的直线特征，这表明它是标准的场发射特性。CNT 的逸出功按4.6 eV 计算，根据F- N 直线的斜率可推知场增强因子β 为1228，这个结果与通常的CNT场增强因子是一致的。 <img border="0" alt="CNT 阴极表面形貌的SEM照片" width="300" height="188" src="http://www.chvacuum.com/uploads/userup/0911/26000S02052.gif" /><img border="0" alt="CNT 阴极的I- V 特性，其中的插图是对应的F-N曲线" width="300" height="183" src="http://www.chvacuum.com/uploads/userup/0911/26000TBZ0.gif" /> 图3 CNT阴极表面形貌的SEM照片　　图4 CNT阴极的I-V特性，其中的插图是对应的F-N曲线 　　在实际的像素管应用中，在栅极加上1500V的直流电压，阳极荧光屏加上10kV的直流高压，在电子轰击荧光粉的作用下，得到了非常明亮的发光效果。然而在直流模式下，电子对荧光粉的持续轰击大大缩短了荧光粉的使用寿命，因为荧光粉的寿命是由它接收到的电荷量决定的。另外，直流模式下荧光屏有明显的发热效果，这容易使像素管由于受热不均而损坏。为此，像素管更适合在脉冲模式下工作，阳极荧光屏的电压仍为10kV的直流高压，但栅极电压由脉冲电源驱动，频率为1 kHz，占空比为1%。因此，在脉冲模式下像素管的寿命是直流模式的100倍，而且大大降低了功耗，荧光屏基本没有发热效果。图5 是红、蓝、绿三色像素管在脉冲模式下的发光效果，它们的发光均匀而且稳定，在50h的测试中，没有观察到明显的电流衰减。另外，实验测到的阳极电流与栅极截获的电流基本相等，这说明栅网对电子的透过率约为50%，如果采用透过率更高的栅网则会减小电子在栅网上的损失，进一步提高电子的利用率。 <img style="WIDTH: 293px; HEIGHT: 149px" border="0" alt="在脉冲模式下，红、蓝、绿三色像素管的发光效果" width="425" height="268" src="http://www.chvacuum.com/uploads/userup/0911/26000Z53314.gif" /> 图5 在脉冲模式下，红、蓝、绿三色像素管的发光效果 <h2>3、结论</h2> 　　采用丝网印刷技术在不锈钢基底上成功制备了CNT浆料阴极，在CNT浆料层和不锈钢基底之间加入了银浆料作为过渡层，这增加了CNT浆料与不锈钢基底之间的结合力。经过胶带处理后的CNT阴极表现出了良好的场发射性质。作为实际应用，制备的CNT阴极通过真空封接工艺组装在了三极型像素管中。在脉冲模式下，这些像素管的发光均匀、稳定，有较长的寿命，并且有较低的功耗。这些特点使得它们有可能应用于户外大屏幕显示器。 真空基础，清华-富士康纳米科技研究中心 2009-11-25 23:30 不锈钢生锈的几种情况以及防止方法 http://www.chvacuum.com/engineering/111611.html 不锈钢是靠其表面形成的一层极薄而坚固细密的稳定的富铬氧化膜来防止生锈，一旦这层膜被破坏即发生生锈现象。　　不锈钢在一定的条件下也会生锈的。不锈钢具有抵抗大气氧化的能力－－即不锈性，同时也具有在含酸、碱、盐的介质中耐腐蚀的能力－－即耐蚀性。但其抗腐蚀能力的大小是随其钢质本身化学组成、加互状态、使用条件及环境介质类型而改变的。如304钢管，在干燥清洁的大气中，有绝对优良的抗锈蚀能力，但将它移到海滨地区，在含有大量盐份的海雾中，很快就会生锈了；而316钢管则表现良好。因此，不是任何一种不锈钢，在任何环境下都能耐腐蚀，不生锈的。 　　不锈钢是靠其表面形成的一层极薄而坚固细密的稳定的富铬氧化膜(防护膜)，防止氧原子的继续渗入、继续氧化，而获得抗锈蚀的能力。一旦有某种原因，这种薄膜遭到了不断地破坏，空气或液体中氧原子就会不断渗入或金属中铁原子不断地析离出来，形成疏松的氧化铁，金属表面也就受到不断地锈蚀。 　　这种表面膜受到破坏的形式很多，日常生活中多见的有如下几种： 　　1、在有污染的空气中(如含有大量硫化物、氧化碳、氧化氮的大气)，遇冷凝水，形成硫酸、硝酸、醋酸液点，引起化学腐蚀。 　　2、不锈钢表面粘附有机物汁液(如瓜菜、面汤、痰等)，在有水氧情况下，构成有机酸，长时间则有机酸对金属表面的腐蚀。 　　3、不锈钢表面粘附含有酸、碱、盐类物质(如装修墙壁的碱水、石灰水喷溅)，引起局部腐蚀。 　　4、不锈钢表面存积着含有其他金属元素的粉尘或异类金属颗粒的附着物，在潮湿的空气中，附着物与不锈钢间的冷凝水，将二者连成一个微电池，引发了电化学反应，保护膜受到破坏，称之谓电化学腐蚀。 　　以上情况均可造成不锈钢表面防护膜的破坏引发锈蚀。 　　所以，为确保金属表面永久光亮，不被锈蚀，我们建议： 　　1、市场上有些不锈钢管化学成分不能符合相应国家标准，达不到304材质要求。因此也会引起生锈，这就需要用户认真选择有信誉厂家的产品。 　　2、海滨地区要使用316材质不锈钢，316材质能抵抗海水腐蚀。 　　3、必须经常对装饰不锈钢表面进行清洁擦洗，去除附着物，消除引发修饰的外界因素。 真空基础佚名中国机械专家 2009-11-26 12:01 场发射显示器(FED)用荧光粉及其研究新进展 http://www.chvacuum.com/engineering/121636.html FED潜在的优良特性引起越来越多的关注，FED荧光粉的研究也成为研究的热点。 　　场发射显示器（<a href="http://www.chvacuum.com/engineering/121636.html">FED</a>）是近几年新发展起来的一种平板显示器，属于低电压冷阴极发射，这种特殊的发射特点赋予FED 许多不同于其他平板显示器的优异性能：工作电压低（200～5000V）、功耗小、亮度高、薄、体积小、重量轻、稳定性好、寿命长、响应速度快、全彩显示、无视角限制和对环境的兼容性好等。 　　本文首先简要介绍了FED 的发展历史、研究现状和工作原理，然后针对其特殊的低电压、大电流密度的激特点对其所使用荧光粉提出了一系列性能要求，在此基础上，对FED 用荧光粉的研究现状进行了分析，最后对未来新型高性能FED 用荧光粉的研究提出了一些建议和展望。 <h2>1. 引言</h2> 　　随着高度信息化社会的不断发展，具有传递通讯、视觉信息功能的显示器的用途不断扩大，重要性也越发明显。在这之中作为新型显示器之一的场发射显示器件（FED），由于它具有工作电压低（200～5000V）、功耗小、亮度高、薄、体积小、重量轻、稳定性好、寿命长、响应速度快、全彩显示、无视角限制和对环境的兼容性好等优良性能，所以是极具竞争力的新一代显示器。可以认为FED 是继承CRT 的优点而又顺应新型平板显示发展趋势的最可能方案之一。FED 的研究不仅可以使人们获得一种高质量的显示手段，而且对当今规模庞大的阴极射线显示产业的更新换代有重要的意义[1]。 　　当今平板显示的种类很多，但各有各的应用范围。如：液晶显示（LCD）主要应用于30英寸以下的显示（监视器和电视），等离子体平板显示（PDP）主要应用于40～60 英寸的壁挂电视，将来的FED 显示主要应用在20～40 英寸范围内，发光二极管（LED）显示则主要应用于公众场合的字符显示和超大屏幕图像显示等。显示手段的多样性正好可以适应客观世界的各种需求。 　　FED 这种新发展起来的平板显示器，其工作原理与传统的CRT 相似，即通过电子束轰击显示屏上的荧光粉而成像。但其在结构和材料上与CRT 技术又存在着不同：FED 是通过场发射阴极阵列（FEA）上的大量微阴极发射的电子束直接轰击荧光粉产生发光效应，而CRT 阴极发射的电子必须经过偏转线圈的作用才能在荧光屏上扫描成像，因此，和CRT 的高压热电子束发射不同，FED 属于低电压冷阴极发射。这种特殊的发射特点赋予FED 许多不同于其他平板显示器的上述优异性能，因此，FED 是一种非常有前途的大屏幕显示新技术。 <img style="WIDTH: 387px; HEIGHT: 370px" border="0" alt="场发射显示器件的原理图" width="465" height="399" src="/uploads/userup/0912/021AI02118.gif" /> 　　图1 给出了场发射显示器件的原理图。图示的是一个显示单元，它包括阴极、阳极和隔离柱三部分。由于图中所示的仅仅是一个显示单元，所以未画出隔离柱。自1985 年第一台FED 样机诞生以来，经过近20几年的发展，FED 的研制有了很大的进步。制备优良FED性能的关键，一是FEA 的设计与制备，另一个是高性能荧光粉的开发。近年来，人们发现碳纳米管（CNT）具有电子逸出功低、工作电压低、发射束流大、发射特性稳定、化学性能稳定、使用寿命长、可靠性高等优良的场发射性能，被认为是最理想的冷阴极场发射体，成为国内外FED 阴极研究的热点。CNT-FED 模块的制备工艺相对简单，不需要复杂的半导体工艺，可采用印刷法制备CNT 阴极（纳米碳管材料国内早以实现批量生产），器件沿用真空荧光显示管（VFD）的工艺，投资和生产成本远远降低，因此， CNT-FED 模块是一种理想的大屏幕拼接元器件。在该技术的研究与产业化进程中，日本处于领先地位。2000年日本ISE 电子首次成功开发了亮度超过10000cd/m2的单色像素管。2003 年日本DiaLight开发成功了一款采用纳米碳管的场发射型高亮度背光源，实现了15 万cd/m2 的超高亮度。 　　除可作为电视机和手机的背光源使用外，还可用作特殊光源。日本Futuba 在2005 也成功开发了16×16 纳米碳管单色显示模块，像素的尺寸为6mm×6mm，亮度可以达到1800cd/m2 左右，耗电量为3.8W，并已成功用于大屏幕拼接显示。华东师范大学纳光电集成与先进装备教育部工程中心长期从事纳米碳基场致发射材料与器件的研究开发，05 年与国际同步开发了16×16 阵列的CNT-FED 单色显示模块，性能接近国际先进水平；06 年对CNT-FED 单色模块的批量制备技术开展系统研究并已实现基于CNT-FED 单色模块的40 英寸拼接显示样屏，可以实现动态字符图形显示。要进一步发挥CNT 大屏幕的优势必然要求实现全彩显示。 　　目前实现全彩显示的关键是高性能三基色荧光粉的开发。 <h2>2. FED 用荧光粉的性能要求</h2> 　　由于FED的原理和CRT类似，是通过电子束轰击显示屏上的荧光粉而发光的，所以目前大部分FED用荧光粉是借鉴传统的CRT 用荧光粉类型，并对其加以改进。但是FED 的工作条件和CRT 又有很大的区别， CRT的工作电压高，为15-30kV，而FED的工作电压相对较低，为200V-5kV，所以为了获得其在亮度、视角、响应时间、工作温度范围、能耗等方面的潜在优势，对荧光粉的亮度、发光颜色、发光亮度饱和性、导电性、稳定性、寿命、发光效率和形貌特征等具有一系列要求。 <h3>2.1 发光亮度</h3> 　　发光强度是表征光源（物体）发光能力大小的物理量。光源在某一特定方向上单位立体角内（每球面度）辐射的光通量，称为光源在该方向上的发光强度（又称光通的空间密度）；其符号为I，单位为坎德拉每平方米（cd/m2）。发光强度是评定荧光粉发光性能好坏的一个重要指标，也是影响FED 器件性能的一个重要因素。FED在室内光照条件下使用时，由红、蓝、绿三种荧光材料发出的光混合而成的白光亮度应大雨室内光照白光亮度，即大于～300cd/m2。原则上，在相同激发条件下，荧光材料的发光强度越高越好。 <h3>2.2 发光效率</h3> 　　研究表明，当高压CRT 用荧光粉用于低压FED 器件时，荧光粉发光效率的降低与电子束在荧光粉中穿透深度的降低有关[8]。F. Charles 研究表明，当带电粒子与物质发生作用时，电子穿透深度与作用物质之间存在着如下关系[9]： 　　R = 250(A/ρ)(E / Z1/2 )n 　(1) 　　n =1.2/(1-0.29lg Z) 　(2) 　　其中ρ为荧光粉的密度，R为电子的穿透深度，A为荧光粉的分子重量，Z为分子的电子数，E为电子的能量。该关系式适用于电子能量为1～10keV 的范围。从上述式（1）和（2）可以看出，电子束的穿透深度与电子能量的n（n>1.2）次方成正比，与材料的密度ρ和分子电子数Z 的n/2 次方成反比，因此，电子束的能量越大，材料的密度和电子分子数越小，在荧光粉中的穿透越深，发光越强。在设计低压FED 用荧光粉时，应选择低密度和电子分子数相对较小的化合物。 <h3>2.3 发光亮度饱和性</h3> 　　FED阳极电压很低，为提高荧光粉的亮度，需要增加电子束的束流密度。荧光粉的亮度随束流密度的增加而提高，但当束流密度增加到一定值时，荧光粉的亮度达到饱和，不再提高，这就是荧光粉的束流饱和性，所以用于FED 的荧光材料应有较大的饱和束流。#p#副标题#e# <h3>2.4 荧光粉的导电性</h3> 　　FED 是利用低能电子束激发荧光粉，不像CRT 那样可以在荧光粉表面发射二次电子从而产生电流，所以为了产生电流荧光粉须具有导电性。FED 荧光材料一般为无机粉末，它们的导电性一般较差。当电子束的束流密度很高时容易在荧光粉表面发生电子富集，电子的富集使FED 阴极-荧光粉之间电压降低，入射电子束能量下降，最终导致荧光粉发光性能下降[9]。因而提高荧光粉的导电性有利于提高荧光粉的发光性能。提高荧光粉的导电性能有三种方法：①使用导电性的母体；②掺入导电性的物质（降低高压荧光粉的电阻率以用于FED）或在其表面包裹导电层如：In2O3、SnO、ZnO 等；③掺入高浓度杂质作为施主物质，降低荧光粉的电阻率并缩短荧光余辉时间。 <h3>2.5 荧光粉的稳定性</h3> 　　当荧光粉长时间置于电子束的轰击下，其温度将随着时间的延长而升高，有些荧光粉材料体系如硫化物或氧硫化物易发生分解，放出有毒的硫化物气体，毒化FED 的阴极针尖，降低其使用寿命；同时荧光粉本身的成分发生改变，导致其发光性能降低。因此，在考虑荧光粉发光性能的同时，也要兼顾其电子束激发下的稳定性，尽量选择化学性能稳定的材料体系作为荧光粉的基质材料。 <h3>2.6 荧光粉的颗粒形貌</h3> 　　荧光粉的颗粒形貌主要指粉体的颗粒尺寸、形状和表面状况，这些均对荧光粉的发光性能有很大影响。一般来说，荧光粉的颗粒越大发光效率越高，但颗粒太大容易导致荧光粉涂屏的致密度下降，从而降低了荧光粉的发光效率，同时颗粒太大也会导致FED的分辨率降低，可通过选择合适的原料粒度和焙烧温度及时间、加入助熔剂等对颗粒的大小进行控制。 　　荧光粉的形貌和大小对荧光粉的涂层质量有很大的影响，球形、近球形荧光粉有利于获得涂层薄、密度高的高质量荧光粉涂层，以降低屏的光散射，弥补FED 中低压电子束的激发效率，从而使荧光粉的发光亮度得到提高。 <h3>2.7 荧光粉的色纯度</h3> 　　FED用三基色荧光粉的色纯度高低直接影响全彩FED 的显示性能和色彩逼真度。红、蓝、绿三基色荧光粉的色纯度越高，由三种荧光粉组成的色彩三角区域越大，FED 的显色性越好。 <h2>3. FED 用低压荧光粉的研究现状</h2> <h3>3.1 ZnO:Zn 绿色荧光粉</h3> 　　对于单色FED 显示而言，ZnO:Zn 是一种最长用的发光性能优异的低压阴极射线发光材料，其发光机理为本征缺陷发光。在低压电子束激发下，ZnO:Zn 发出强烈的蓝绿光，峰值波长为505nm，余辉时间为1.5μs，典型粒度为3～5μm。该荧光粉具有阈值电压低（几伏～十几伏），发光效率高（～20lm/W），制作工作成熟等优点。另外，卢有祥等人研究发现，将该荧光粉在还原气氛中热处理或在还原性液体中进行浸泡，可使其发光强度进一步提高。 　　但该荧光粉由于色纯度不高，很难找到性能相似的其它荧光材料与之匹配，不利于全彩显示的实现，限制了其广泛应用。 <h3>3.2 硫化物、氧硫化物荧光粉</h3> 　　在硫化物硫氧化物荧光粉中，用于FED 的主要是ZnS 和CdS，它们的发光是自激活发光，是由本征缺陷所决定的。硫化物、硫氧化物荧光粉的发光亮度高，且具有一定的导电性，适用于低电压下的发光，但是，在电子束的轰击下，容易发生分解，放出气体和产生沉淀，在荧光粉的表面形成惰性层，降低了发光性能，也毒化了FED 阴极针尖，降低FED 的寿命，目前，主要采用表面包裹的方法提高它们的稳定性。 <h3>3.3 硅酸盐体系荧光粉</h3> 　　在硅酸盐体系荧光粉中，最有意义的是硅酸锌，它可作为某些阴极射线发光材料的基质（Mn 激活时），用于这一目的的还有硅酸钙、硅酸镁以及复式硅酸盐（硅酸锌、铍，硅酸镁、钙，硅酸钙、铝等等），Zn2SiO4 吸收边在225 毫微米处，掺Mn 后使它移向长波波段，同时出现Mn 固有的吸收带。它们的优点是：容易获得近紫外-蓝光范围的高效激发，有较高的化学和热稳定性，以及在电子束作用下的稳定性，不着色，彼此之间形成固溶体的范围很宽。 <h3>3.4 ZnGa2O4体系荧光粉</h3> 　　ZnGa2O4是一种很好的低压荧光粉材料，它的光学带隙大约是4.4eV，并且具有很好导电性，掺入Cd、Mn 金属离子时，可以分别发出绿色和红色，即使没有掺杂任何离子也可以发出蓝光，但是由于受低电压电子的激发，容易造成电子在荧光粉的表面积累，影响其发光效率。目前，采用在荧光粉的表面包裹一层导电材料（In2O3, SnO3, WO3, ZnO）来提高它的发光效率，同时由于阻止了电子束的直接轰击和显示屏内部气体的表面污染，也可以使寿命提高。 <h3>3.5 氮化物荧光粉</h3> 　　2007年日本物质材料研究所（NIMS）氮化物研究小组采用高温高压制备工艺（2050℃和10atm 的氮气压力）成功开发了一款应用于FED 的蓝色发光材料：即Si4+、Eu2+共掺杂的AlN 荧光粉[14]。其发射波长位于460nm, 半高宽为51nm，色纯度接近ZnS:Ag,Cl，明显优于Y2SiO5:Ce、ZnGaO2 和Sr2CeO4 等通用的发光材料。该小组与日本双叶（Futaba）电子公司合作，将该荧光粉成功应用于单色的FED器件，研究表明，无论是亮度（增加了14％）、电压电流饱和度、还是使用寿命，AlN:Eu,Si 均优于其市场上常用的Y2SiO5:Ce 材料，特别是使用寿命达到原先的10倍。AlN:Eu,Si 荧光粉如此优越的发光性能为FED 用低压荧光粉的研究提供了另一个新方向，即新型氮化物基低压荧光粉。 <h3>3.6 其它体系荧光粉</h3> 　　除上述体系外常见的还有磷酸盐体系、砷酸盐类体系、锗酸盐体系、硼酸盐体系、钨酸盐体系等。其中，较常用的是磷酸盐体系，它主要是以第Ⅱ族金属复磷酸盐为基质的发光材料，磷酸盐体系的不同发光性能决定于大量多形态的存在以及其相应晶格的松疏程度，也决定于各种激活剂的掺杂，最常用的激活剂有Mn，Ce，Tl；Sn，以及Ti。目前，常用的FED荧光粉性能见表1： <img style="WIDTH: 413px; HEIGHT: 220px" border="0" alt="常用的FED荧光粉性能" width="499" height="270" src="/uploads/userup/0912/021AQ4W17.gif" /> <h2>4. 展望</h2> 　　FED潜在的优良特性引起越来越多的关注，FED荧光粉的研究也成为研究的热点。这方面的研究虽然取得了一些进展，但是目前还没有真正能在低压电子束激发下能够满足显示要求的荧光粉。进一步的研究可以放在以下几个方面： 　　(1)对现有荧光粉进行改良，使其符合FED荧光粉的要求，主要是对荧光粉的表面状况进行改良，以获得导电性和稳定性较好的FED 荧光粉。 　　(2)新型荧光粉的开发，主要包括两大部分： 　　A．本征型缺陷发光材料的研究。如前面所提到的ZnO 发光材料，它是一种本征缺陷发光材料，在低电压下具有较好的发光性能，也具有一定的导电性，但该荧光粉由于色纯度不高，使其在彩色显示器中的应用受到限制。因此，应深入的研究其发光机理，以对本征缺陷发光材料有更为全面的认识，在此基础上寻找新型的本征缺陷发光材料，实现低压下的全彩化。 　　B．研制发光性能和导电性能兼顾的新型发光材料，如氮化物荧光粉等。 真空基础王晓君华东师范大学纳光电集成与先进装备教育部工程研究中心 2009-12-02 16:50 从第十届国际真空展看真空行业发展 http://www.chvacuum.com/engineering/091335.html 根据多次真空展的统计数据，总结出第10 届国际真空展的四大亮点：参展厂商数及参展外商数、展位数均创历史新高；干泵成展会主角；流通、服务业方兴未艾，国内参展厂商高端产品比重增加。 　　2009年5月22日，第十届国际真空展览会在北京国际会议中心胜利召开，历时4天会议获得圆满成功。本届真空展的主题是“传承、创新、奋进”。展会期间，笔者以一个行业成员的身份参观学习、交流访谈、收获颇丰，现粗略归纳于下，就教于真空界的各位同仁。 <h2>1、本届真空展的引人注目之处</h2> <h3>1.1、盛况空前观者如潮</h3> 　　在我国召开的国际真空展始创于1991年，当时参展单位不过69家，其中外商只有1家。历经19年发展，至本届展会，参展厂商达到168家，其中外商34家，租用展位314个，以上3项均创真空展举办以来最高记录。图1中的两条曲线形象地显示了国际真空展发展壮大的情况。 <img border="0" alt="历届国际真空展参展厂商总数及参展外商增长情况" width="469" height="286" src="/uploads/userup/0909/04220142Q37.gif" /> 图1 历届国际真空展参展厂商总数及参展外商增长情况 　　本届展会适逢金融危机肆虐，此情之下西方各大真空厂商将目光投向中国市场实属自然。金融危机既是“危”更是“机（遇）”，国内厂商踊跃参展，真空应用单位的观众纷至沓来，都表明在当前经济情势下，国内真空界同行满怀信心昂扬向上的精神状态。 　　真空展从名不见经传到声名大振，多方青睐，是中国真空学会与我国真空设备行业协会紧密团结、相互支持、长期合作的结果；是吸取国际展会经验、坚持定期、定点举办展会的结果；也是真空行业内外厂商矢志不渝、热诚支持的结果。 　　在为期4天的展览中，开幕日当天最为热烈，在如潮的观众中以业内人士居多是名符其实的“内部观摩”，在以后的几天中真空应用单位特别是<a href="http://www.chvacuum.com/application/film/">真空镀膜</a>设备使用单位的观众陆续涌来渐成参观者的主体, 另外作为展会中唯一的网站：真空技术网也高调参与，这是本届展会有别于往届展会的一大亮点。 <h3>1.2、干泵—本届展会的当红主角</h3> 　　在本届展会的展品中，最突出、最抢眼的当属干泵，据统计，在参展的34家外商中约有1/3的厂商展出了<a href="http://www.chvacuum.com/pumps/jixie/12544.html">干泵</a>样机。欧、美、日等著名真空厂商几乎是家家将干泵做为推介的主导产品。近年,国内厂家在干泵研发上也有长足进展,展会上共有9家厂商推出了6种类型的干泵产品。综观各厂商干泵的特点，可见当今干泵发展的主流方向是： 　　①由单泵向多级组合、机组化、小型化方向发展； 　　②由单纯抽气、排气向全程处理、回收、无害化排放、更环保、更节能的方向发展； 　　③高度机电一体化、智能化运转、高可靠性； 　　④在泵的结构型式上小型泵—涡旋泵略占上风；大型泵—螺杆泵略占上风； 　　各厂普遍采用<a href="http://www.chvacuum.com/pumps/jixie/0831.html">罗茨泵</a>作为吸气级以增大抽速。经过20 余年的发展，干泵已明显分化为两大门类，一类为半导体型，主要用于获得“清洁”“无油”的真空环境如半导体行业，平板显示器行业等。另一类为石化型，以实现泵的“干式运转”为主旨，这一类型的干泵适于抽除含有大量灰尘、或可凝蒸汽、或腐蚀性介质的气体。主要应用于石化、制药、冶金等领域。 <h3>1.3、流通服务产业方兴未艾</h3> 　　我国的GDP已跻身世界前三,号称“世界工厂”的中国，各种真空设备的社会保有量巨大；改革开放以来我国从西方引进各种高端真空设备品种繁多，品牌多样，是名符其实“万国牌”，所有这些都需要售后服务、需要备品备件、消耗材料、需要定期或不定期地升级改造。有需求就有市场，在参加本届展会的168 家厂商中专业从事流通服务、油料供应的内外厂商就有18家之多超过总量的10%。如果将兼营的厂商囊括在内，恐怕还要再加一倍也不止。 <h3>1.4、国内参展厂商产品构成格局未变,高端产品比重增加</h3> 　　鉴于国内产品门类齐全的综合性厂商很少,笔者按各参展厂的主导产品分别归入以下六大门类:<a href="http://www.chvacuum.com/pumps/">真空获得</a>、<a href="http://www.chvacuum.com/application/film/">真空镀膜</a>、<a href="http://www.chvacuum.com/application/">真空应用</a>、<a href="http://www.chvacuum.com/valve/">阀门元件</a>、检测仪表与流通/ 材料，据此原则笔者对历届真空展国内参展厂商进行了分类统计。图2 是本届真空展国内参展厂商的构成。 <img border="0" alt="第十届国际真空展国内参展商主导产品构成" width="402" height="166" src="/uploads/userup/0909/042202021450.gif" /> 图2 第十届国际真空展国内参展商主导产品构成 　　由上图可见真空获得的比例为32.8%,阀门元件为14.9%、检测仪表为11.2%三者合计高达58.9%,虽然比上届的63%有所降低,但多年来真空展的主体是真空设备展览的这种持续多年的特征并未改变。 　　经过30多年的市场考验，国产<a href="http://www.chvacuum.com/pumps/jixie/0812.html">分子泵</a>的真空性能、可靠性及性能价格比均得到了用户的广泛认可，市场不断扩大，追风跟进者日众，一个大规模推广分子泵时代已经到来。从有油、无油的角度看分子泵、<a href="http://www.chvacuum.com/pumps/gas/081284.html">低温泵</a>、干泵同属无油泵，是真空获得设备中的高端产品，近年来我国在这些产品的开发推广上取得了明显进展，其中尤以分子泵最突出。 　　图3 为历届展会以上述三种泵为主导产品的国内参展商与其他真空获得设备参展商的百分比变化情况。 <img border="0" alt="以无油泵为主导产品的参展厂商逐届变化情况" width="467" height="298" src="/uploads/userup/0909/04220220OQ.gif" /> 图3 以无油泵为主导产品的参展厂商逐届变化情况 <h2>2、参观后的思索</h2> <h3>2.1、重新审视有油真空系统</h3> 　　站在节能减排的高度审视传统的有油真空系统是每个真空业者当今必须正视的问题。传统的无油概念仅仅是为了获得清洁的、无碳氢化物污染的真空环境。今天的“无油”除满足工艺要求的清洁的真空环境外，对外排气还要保护环境，杜绝废油废气的污染与排放。#p#分页标题#e# 　　传统的有油真空系统，能源利用率普遍较低，其中尤以<a href="http://baike.baidu.com/view/680919.htm">油增压泵油扩散泵</a>为甚，简直就是“电老虎”，正是在此背景下，分子泵得以大行其道，在Φ400mm以下的区域内大有取代传统扩散泵之势。同为Φ250mm的泵，扩散泵功率比分子泵的大五倍，可见能源浪费之大。长此下去，有油真空系统的市场空间势必越走越窄。 <h3>2.2、紧跟时代主题以创新求发展</h3> 　　以新能源开发为代表的新一轮产业革命正在兴起，当此时刻，我国与西方发达国家站在同一起跑线上。据统计，1MW的风电机组需用一吨的<a href="http://emuch.net/journal/article.php?id=CJFDTotal-KJXX199604007">稀土磁体</a>，在太阳能电池产业及核电产业中，<a href="http://www.chvacuum.com/">真空技术</a>、真空设备都是不可或缺的关键技术与设备，尤其是各种类型的真空镀膜设备。与国外同类真空展不同，在本届展会上，除北京和承德的两家厂商展出了与太阳能制备有关的设备及样品外，少有其他国内厂商展出相关产品，如单晶炉制造、太阳能集热管生产单位等。表明我国的真空行业与西方同行相比在新一轮产业革命的起跑阶段已经慢了不止半拍。目前以引进薄膜太阳能电池设备为主导的一场引进飓风正在从长三角地区吹向全国，西方国家正在利用这一机遇完善设备工艺、开发新技术，然后再来鼓动新一轮的引进潮。30年来半导体芯片生产线引进将国内的真空行业、电真空行业完全屏蔽在外，成了国际几大承包商的天下。在新的世纪里，同样的历史是否还要在太阳能电池领域重演一遍？面对同样的机遇，国内真空界有实力的厂家为何不奋起一搏？ 　　由于历史的原因，我国真空行业内，真空泵厂的比重较大，改革开放以后，产品区域化的现象日趋严重，与此相伴的就是产品同质化，由于知识产权保护不力，技术力量不足以担此重任，搞创新费钱费力，厂家不肯在产品创新、改进上做更大的投入，长此以往，整个地区的同类产品将深陷“技术落后，无利可图”的泥潭而不能自拔。产品同质化同城兄弟血拼价格是不少真空泵厂多年来难以走出的怪圈，新能源开发，为我们调整产品结构，开拓新领域提供了难得机遇，我们应该以自己多年的积淀，大力创新，以创新打开机遇之门。 <h3>2.3、在竞争中提升产品档次，向高端产品进军</h3> 　　改革开放30年来，西方各大真空厂商纷纷进军中国市场，高档产品市场是外商志在必得的市场空间，下一步将是进军中档产品市场。统计表明进口获得设备的价格约为国产同类设备的8~10倍，同样产品转为中国制造后其比价将降至4~5倍。考虑到人民币升值及国内用户产品升级换代，向国际标准靠扰的前景，国产真空获得设备的市场空间势必受到进一步地挤压，有鉴于此，相关业者应该居安思危，向竞争对手学习。立志“造精品、创名牌”，进军高档产品市场。根据自身的主客观条件，科学地确定自己的产品定位与目标市场。 　　在激烈的市场竞争中惯用的价格战有效，然而也有限，只有精品、名牌路线，才是确保企业常胜不衰的上上之策。 <h3>2.4、发展附件———真空系统节能减排的重要手段</h3> 　　附件是对<a href="http://www.chvacuum.com/pumps/">真空泵</a>、真空系统的补充、完善和发展，从节能减排的角度看，没有相应附件的<a href="http://www.chvacuum.com/systemdesign/">真空系统</a>是不完备的。 　　附件的范围很广，包括①进气处理附件如：固气分离的过滤元件，可凝汽体的捕集元件，腐蚀性气体的中和元件。②泵油过滤，再生元件，废油回收及再生处理与循环附件。③在排气无害化处理附件中包括：油气分离附件及泵油回收元件，可用气体回收附件及排气无害化处理元件。我国有油真空系统社会保有量巨大，随着国家节能减排的要求日益严格，既有真空系统的改造、完善必将提上议事日程，并形成一个规模不小的市场需求。 　　似乎为了印证笔者的上述观点，在本届展会上就有4 家专业制造低温<a href="http://www.chvacuum.com/pumps/gas/11481.html">冷阱</a>的厂商参展，他们的低温冷阱温度从-40~-140℃，其中有多个档次以适应不同气体的低温扑集。 　　在当前小型致冷机价格较高，难以广泛应用的情况下，采用不同低温等级的冷阱进行低温冷凝抽气不失为一种经济可行的举措，我国中南部广大地区雨量充沛，温高湿重，每逢雨季都是真空生产的艰时节，采用低温冷凝抽气不仅可以降低系统的返油污染，还可提高对水汽的抽气能力，缩短抽气时间，降低能耗。对某些有害气体也可选择特定的冷凝温度加以回收利用。 <h3>2.5、我国真空行业发展展望</h3> 　　从第十届国际真空展的展出情况看出：目前国内<a href="http://www.chvacuum.com/qiye/">真空设备厂家</a>纷纷推出干泵产品，其产品外观质量与国外产品相差不多，但在技术指标上则相距较大，发展无油系统应集中研究干式真空泵。 　　从国内半导体集成电路、LED、显示器、化工、制药等行业的发展来看，对无油干泵的需求越来越大。当前国内产品在“质”和“量”上远不能满足要求。 　　国家支持节能减排，相应制订发布了一系列鼓励政策，国家十分重视风能、太阳能等新型可再生能源的发展。国内已有近百家企业跻身于光伏产业。 　　按照国家能源发展目标，在未来十年中仅太阳能发电的装机规模将达到几千万千瓦。而太阳能发电的无论是单晶硅、多晶硅还是薄膜太阳能电池的重要、关键生产设备都是由真空设备构成，真空设备具有巨大的应用市场。 　　综合上面几个方面的内容，笔者认为：今后真空设备发展的重点为： 　　(1) 无油系列真空泵；如：分子泵、螺杆泵、爪式泵、涡旋泵等。与此同时也要按照节能减排的要求改进、完善有油泵，不能单一强调无油，有油系统的市场更大，不能忽视。 　　(2) 直排大气的复合真空泵，如：罗茨泵机组、涡旋分子复合泵等。 　　(3) 太阳能利用及太阳能电池的真空设备，如：高效太阳能集热管镀制设备、CVD设备、TCO设备等。 　　以上观点仅供参考。这次国际金融危机给我们带来影响的同时也带来了机遇，企业领导者要高瞻远瞩，运筹帷幄，抓住机遇，促进企业的大发展，为中国真空行业的发展和技术进步，做出更大的贡献。 　　注：本文整理自苏老师在2009年7月27日在青海省西宁市召开的由中国真空学会真空工程专业委员会主办的中国真空学会真空工程学术交流会上的报告。 真空技术真空泵节能减排真空基础沈阳真空技术研究所苏原中国真空学会真空工程学术交流会 2009-09-04 21:47 法兰环缝局部真空电子束焊接技术研究 http://www.chvacuum.com/engineering/121696.html 局部真空电子束焊接技术是一种先进的焊接技术，在国防工业和民用工业有广泛的应用前景。 　　叙述了局部真空电子束焊接的特点及其在国防工业和民用工业的应用前景，叙述了国内外局部真空电子束焊接的发展状况，介绍了自行研制的法兰环缝局部真空电子束焊接装置和它的主要技术指标，以及该设备研制已突破的关键技术。 　　局部真空电子束焊接技术是在大尺寸结构件的焊缝及其附件局部区域建立<a href="http://www.chvacuum.com/">真空</a>环境，并进行电子束焊接的技术。 　　电子束焊接是随着现代科学技术的发展而迅速发展起来的一种熔化焊方法，电子束具有很高的能量密度(10 6-10 9W/cm2)，焊缝深度比高可达20:1，热影响区小，工件变形小，晶粒细密等，被焊金属的厚度从0.05-300mm，不开坡口，一般不添加焊丝，一次焊成且焊缝质量好，这是其他焊接方法无法达到的。但是通常这类焊接机的特点是将被焊工件作为整体放在<a href="http://www.chvacuum.com/qiye/zhenkongpeijian/0916-1380.html">真空室</a>中进行焊接，由此可称为全真空室电子束焊接设备。目前这类焊接的功率可达100Kw以上，真空室容积高达几百立方米甚至上千立方米，由于该设备的造价很高，发展中国家难以承受这样大的经济开支。60年代中期，出现了非真空电子束焊接设备，电子束在穿透大气时的能量损失很大，影响穿透深度，而且X射线的防护是一个严重玩儿问题，难以推广使用。 　　局部真空电子束焊接设备采用较小的真空室将焊接缝区域覆盖起来，使电子束处于焊接缝局部区域的局部真空中，这种方法既保留了真空电子束焊接的特点又避开了庞大的真空室，解决了厚大工件的焊接问题，可大大提高焊接质量并大幅度降低设备的成本。对于导弹和运载火箭，大多焊件为圆柱体、圆锥体、箱体和法兰环缝。形状比较简单和规则，所以对航天工业而言，这种设备具有较大的共用性。 <h2>1、国内真空电子束焊接方法的应用情况</h2> 　　我国从60年代初开始研究电子束焊接技术，目前该技术已处于平稳发展时期，在未来航天运载器上的应用将迅速扩大，特别在厚壁构件的链接中。 　　国内电子束焊接的保有量约百台，焊接应用对象主要是航天和汽车齿轮零件，核工业的燃料包套、高强钢压力容器，航空工业的膜盒、过滤器、功率轴等，航天工业的发动机推力室、头部喷注器、涡轮转子、钛或铝合金压力容器、活门组件、<a href="http://www.chvacuum.com/seal/">密封元件</a>、弹性元件和传感器。 　　目前国内局部真空电子束焊接机的应用较少，只有航天科技集团公司五一0所在“东方红三号”卫星燃料贮箱的研制中使用了一台直线型局部真空电子束焊机。1998年首都航天机械公司从乌克兰巴顿电焊研究所引进了一台焊接火箭筒体φ190mm法兰的局部真空电子束焊机，目前还在进行焊接工艺试验中，没有应用到型号任务的生产中。 <h2>2、局部真空电子束焊接技术发展状况</h2> 　　在60年代中期已有美、德等国原理性研究的专利和报道。70年代中期有较大的发展，特别是法国，研制了十多种类型的直线型和环缝焊机。80年代该技术在法、德等国已进入应用阶段，日本的发展有后来居上之势，前苏联的发展也非常迅速，前苏联将这种技术用于能源”号火箭燃料贮箱铝合金外壳焊接，以提高焊接质量。其纵缝、对接环缝和<a href="http://www.chvacuum.com/biaozhun/061079.html">法兰</a>环缝焊接共使用了7种局部真空电子束焊机。在磁液密封、电子枪旋转馈电、金属蒸气收集、薄壳结构焊接预应力以及高压放电抑制等技术方面进行了深入的研究。 　　法国Clover、Sciaky、Languepin等公司最突出的成就是焊接原子能用锰钢锅炉纵缝及反应堆热交换器的管板焊设备，锅炉的长度约为3cm，壁厚123mm，热交换器管直径为12-40mm，每小时可焊60-80根。为了发展这种技术，法国研制了平焊、立焊和横焊的各种直线型焊接设备。德国也研制了直线型电子束焊接设备，利用逐段移动的办法焊接了长度为20多米的机翼。在焊缝自动跟踪及电子束功率密度分布测试等基础方面也做了大量深入的研究工作。 　　日本起步较晚，但为了提高研究起点，日本采用引进和参与国外研究的办法。曾引进法国:3m缝焊机，用于船体构件和核装置的焊接，并有多个公司分别参与法国Sciaky公司和德国Stelgerwald公司直线型焊机的研究，与此同时，在国内进行不同类型焊机的实用性开发。80年代初期大坂大学与三菱重工合作研制了100kv、120kW核聚变容器环缝对焊装置，工件直径为φ1.4m，壁厚50mm，材料为SA533钢。至90年代三菱重工仍利用类似的装置焊接了更大的核聚变装置。日本还利用这种技术进行了H-1型火箭贮箱共底拼焊，材料为2219锻铝合金，直径为φ2.44m，壁厚为80mm。 　　从国外发展情况看，这项技术在航空、航天、能源、造船等工业部门都发挥着重要的作用。在发展过程中针对稳定性、可靠性及实用性进行了多方面的基础性研究，为局部真空电子束焊接技术的应用奠定了坚实的基础。 　　此项技术在国内的发展已有良好的开端，航天科技集团公司五一0所于1986年研制了行程1.5km、50kV、5kW直线型局部真空电子束焊机，已用于卫星燃料贮箱制造中1mm和16mm钛合金板材拼焊工作。从国内情况看，国内在航空、航天、锅炉制造、造船、原子能等领域都迫切需要这种能用于大型结构焊接的先进焊接技术。 <h2>3、国内外航天工业对局部真空电子束焊接技术的需求分析</h2> 　　由于电子束焊接的显著特点，在箭、船箱体结构的焊接中，可以保证焊件具有很高的几何形状精度和尺寸精度。据介绍，焊接直径在1000-8000mm的筒段时，周长精度可达±0.5-2.5mm，外型轮廓与理论偏差只有1mm。这一特点对薄壁低刚度的箱体结构是十分宝贵。电子束焊接箱体这类大型构件已有许多应用，但大型真空装置成本太高，随着航天技术的发展，构件尺寸还有增大的趋势，为了解决这一矛盾，航天大国发展了局部真空电子束焊接技术，并且在箭、船箱体结构的焊接中得到了应用。 　　前苏联研制并推广应用了两种类型的局部真空电子束焊接装置，一种用于焊接圆筒壳段纵向焊缝和环形焊缝，另一种用于焊接壳段法兰上的圆焊缝，据报道[1,2]，“能源” 号火箭燃料贮箱铝合金外壳焊接，共用了7种局部真空电子束焊机。 　　美国土星V的一级S-IC Y形环也使用了局部真空电子束焊机。#p#分页标题#e# 　　我国在 “东方红三号” 卫星燃料贮箱的研制中使用了一台直线型局部真空电子束焊机。目前我国航天工业中战略、战术导弹和运载火箭燃料贮箱的纵缝、环缝以及法兰环缝的焊接，通常是采用氩弧焊、埋弧焊、二氧化碳自动焊等方法，这些焊接方法在生产中容易出现的问题是：由于焊接热输入量大而引起焊接变形；对于厚壁件开坡口进行多层焊易产生夹渣、气孔、裂纹等焊接缺陷，所以，必须研究新型焊接技术，以取代老一代焊接技术，大幅度提高产品质量和可靠性。 <h2>4、法兰环缝局部真空电子束焊接装置简介</h2> 　　法兰环缝局部真空电子束焊接装置 (见图1)是由电源系统、控制系统、电子枪、局部真空室及真空系统、整体框架结构、机械对中以及二次电子对中与示教系统等组成。局部真空室及真空系统包含有大直径旋转动密封技术，直线移动动密封技术，工件与局部真空室的静密封技术，上、中、下三层真空室的合轴技术以及特殊的<a href="http://www.chvacuum.com/systemdesign/">真空系统</a>设计。控制系统包括真空系统的控制、焊接参数的控制以及焊接参数的实时检测等，在控制方式上采用在上位机控制下的自动和手动两种控制方式以及在PLC控制下的自动和手动两种控制方式。在整体结构的设计中仔细研究了更换焊接工件的方法、高压旋转馈电机构以及X射线的防护等技术。 <img alt="" src="/uploads/allimg/091222/1656090.jpg" /> 　　法兰环缝局部真空电子束焊接装置达到的指标如下： 　　(1) 可焊接火箭外壳铝合金前后底典型结构样件法兰，法兰直径φ100-300mm焊缝质量符合GJB1718-93电子束焊接标准； 　　(2) 加速电压60kV，功率8kW； 　　(3) 局部真空室压力不大于5×10-2Pa ； 　　(4) 可焊铝合金试验件的最大厚度为20mm； 　　(5) 在正常焊接条件下局部真空室的X射线最大泄漏量符合GB4792-84有关规定 　　(6) 焊接装置具有电子枪行走及焊接工艺的微机控制功能。 <h2 align="left">5、法兰环缝局部真空电子束焊接装置已突破的关键技术</h2> 　　(1) 局部真空密封技术：电子枪的移动需解决电子枪支板与旋转板之间、旋转板与局部真空室之间动密封问题、正反面局部真空室与工件静密封的可靠性； 　　(2) 旋转动密封机构：旋转动密封机构在国外类似的结构有空心<a href="http://www.chvacuum.com/biaozhun/03745.html">“O”圈密封</a>、夹层密封及<a href="http://www.chvacuum.com/seal/dynamic/04865.html">磁流体密封</a>多种方案，为了制定正确合理的方案，我们经过理论计算并安排了专项试验，决定采用单层密封圈，顶板旋转定位采用与角接触球轴承类似的特殊轴承，该轴承同时起到减少密封圈摩擦力的作用。整体密封机构示意图见图2。 <img alt="" width="439" height="304" src="/uploads/allimg/091222/1656091.jpg" /> 　　(3) 复杂真空系统设计与实现：针对圆柱型真空室的特点，与真空室连接处采用矩形截面管道，尽可能增大管道截面面积，减少管阻，在离真空室远处通过90。弯管竖直向下，在竖管两侧接两台<a href="http://www.chvacuum.com/valve/">阀门</a>和与之相配的KT-150<a href="http://www.chvacuum.com/pumps/steam/diffusion-pump/">扩散泵</a>，共用一台2X-30<a href="http://www.chvacuum.com/pumps/jixie/rotary-pump/">机械泵</a>。 　　(4)上下真空室及合轴技术：焊接真空室、上下真空室有两大作用，一个作用是通过密封圈压紧在工件的局部，形成真空环境；另一个重要作用是利用上真空室的基准配合面通过对中工具将下真空室、工件与焊接真空室连成整体，最后实现电子束（或枪）的回转中心线与法兰中心线合轴。根据上下真空室的设计思想，对于不同的工件焊接、上下真空室与工件的配合面应与工件一致。我们设计以某型号二级火箭前后底顶盖作为结构样件，该样件最大直径为1400mm，理论内型面为旋转椭球面，材料为铝合金。设备整体框架及活动机构示意图见图3。 <img alt="" src="/uploads/allimg/091222/1656092.jpg" /> 　　(5)电子枪稳定性技术研究。 　　(6)旋转高压馈电机构。 　　(7) 电子枪运动状态下对缝及焊接工艺参数的微机控制技术：局部真空电子束焊接装置的微机自动控制系统中真空控制界面和焊接控制界面见图4。 <img alt="" src="/uploads/allimg/091222/1656093.jpg" /> <h2 align="left">6、结论</h2> 　　(1)局部真空电子束焊接技术是一种先进的焊接技术，在国防工业和民用工业有广泛的应用前景。 　　(2) 法兰环缝局部真空电子束焊接设备的研究，填补了国内空白，为焊接大型运载火箭外壳铝合金前后底法兰作技术储备，有望在我国今后新型火箭研制中推广应用这一先进的技术，以进一步提高我国火箭研制的水平和质量。 　　(3)在法兰环缝局部真空电子束焊接设备研究中，已突破了大直径旋转动密封技术，在国防工业和民用工业有很好的应用前景。 　　(4)焊接装置具有焊接过程、焊接工艺和焊接参数实时检测的微机控制功能，提高了电子束焊机的自动化程度，为精密产品的焊接提供技术保障。 真空基础何成旦中国空间技术研究院兰州物理研究所 2009-12-22 16:41 各种不同的真空泵在真空系统中所起的作用 http://www.chvacuum.com/engineering/0841.html 由于各种真空泵的性能除均能满足对容器进行抽真空的共同点之外，尚具有不同之处。因此在选用时必须明确泵在真空系统中所承担的工作任务是十分重要的，泵在各种不同工作领域中所起的作用归纳起来主要有如下几个方面。 　　由于各种真空泵的性能除均能满足对容器进行抽真空的共同点之外，尚具有不同之处。因此在选用时必须明确泵在真空系统中所承担的工作任务是十分重要的，泵在各种不同工作领域中所起的作用归纳起来主要有如下几个方面。 <h2>　1、在系统中做主泵</h2> 　所谓主泵就是对真空系统被抽容器直接进行抽真空，以获得满足工艺要求所需真空度的真空泵。 <h2>　 2、粗抽泵</h2> 　粗抽泵是指从大气压开始降低真空系统压强达到另一抽气系统可以开始工作的真空泵。 <h2>　3、前级泵</h2> 　前级泵是指用于使另一个泵的前级压强维持在其最高许可的前级压强以下的真空泵。 <h2>　4、维持泵</h2> 　维持泵是指当真空系统抽气很小时，不能有效的利用主要前级泵。为此，在真空系统中另配一种抽气速度较小的辅助前级泵来维持主泵的正常工作或维持已抽空的容器所需的低压的真空泵。 <h2>　5、粗真空泵或低真空泵</h2> 　粗、低真空泵是指从大气开始，降低被抽容器的压强后工作在低真空或粗真空压强范围内的真空泵。 <h2>　6、高真空泵</h2> 　高真空泵是指在高真空范围工作的真空泵。 <h2>　7、超高真空泵</h2> 　超高真空泵是指在超高真空范围工作的真空泵。 <h2>　8、增压泵</h2> 　增压泵通常指工作在低真空泵和高真空泵之间，用以提高抽气系统在中间压强范围的抽气量或降低前级泵抽气速率要求的真空泵。 粗抽泵前级泵维持泵增压泵真空泵真空基础真空技术网真空技术网整理 2008-08-29 18:29 国内外金属化炉概述 http://www.chvacuum.com/engineering/111601.html 主要介绍了国内外用于金属化工艺的两种高温氢气炉,炉子的主要组成、自动控制及安全方面的设计思路。 　　随着电真空技术的不断发展,对<a href="http://www.chvacuum.com/seal/static/111593.html">陶瓷与金属封接件</a>的要求也越来越高,在其制造过程中金属化这道工序是极为关键的,金属化的质量直接会影响到封接件的质量和可靠性。那么<a href="http://www.chvacuum.com/engineering/111601.html">金属化炉</a>便成为影响产品质量的关键设备。近十几年来,我国一些企业从国外引进了一些金属化炉,国内的一些制造厂也生产了大量用于陶瓷金属化的设备,其中有些厂家吸取了国外设备的许多优点并不断改进,再加上近年来国内金属制造业和耐火材料制造业的发展,生产出了比较先进实用的金属化炉,为国内陶瓷金属化的规模生产提供了优良的设备。 　　金属化炉主要分为立式和卧式两种类型。立式炉为间歇式炉,它的特点是温度曲线可随着所烧产品的类型而进行特殊设置,可以烧结尺寸比较大的产品,可以控制干湿氢的转换,耗气量较小,可以灵活地进行生产,其缺点是产量低,温度均匀性不太好,易出现花斑和金属化面发花的现象。卧式炉为连续式炉,适于大批量生产,工艺调整好后能够稳定生产,产品一致性较好,其缺点是温度曲线不宜经常变化,炉内的干湿氢气氛不易控制,耗气量大,不宜频繁升降温,一次性投资较大。下面对两种类型的金属化炉的结构和特点进行以下概要介绍。 <h2>1、卧式炉</h2> 　　以美国进口的BTU炉为例。 <h3>1.1、炉体概述</h3> 　　该炉是一种连续工作的高温推板炉,在可控气氛(通常为氢气或氮氢混合气) 下进行工作,其外形见图1所示。氮氢混合气是由液氨分解制成,生产成本较低,国内卧式氢炉多采用氮氢混合气。主炉体分成三大部分:预热区、高温加热区和冷却区。需进炉的产品先放在主炉体南侧传送带的推板上,由入口推杆、主推杆、出口推杆、返回推杆来完成连续循环工作。产品的推进速度可调节,每个加热区独立进行加热,这样就可满足不同的金属化工艺曲线。如降低推进速度可使预热、保温及降温时间延长。工艺气体的输入和排出由气体控制系统完成。 <img style="WIDTH: 315px; HEIGHT: 247px" border="0" alt="炉子外形图" width="482" height="359" src="http://www.chvacuum.com/uploads/userup/0911/2421501M2Z.gif" /> 图1 　炉子外形图 <h3>1.2、炉子的几个主要组成部分</h3> <h4>1.2.1、传送及驱动系统</h4> 　　驱动系统由四个推杆组成,每个推杆由一个直流马达带动,其中主推杆因需推二十多块推板和产品,马达的功率较大。推板由耐高温的耐火材料制成,缺点是进炉多次后易开裂,容易卡舟,需经常观察,及时更换。推板也可用钼板,使用寿命长,但造价较高。返回传送带由金属框架构成,有底轮和侧轮,可减少推板运动时的摩擦力。 <h4>1.2.2、出入口</h4> 　　出、入口门由钢板制成,由压缩空气控制气动<a href="http://www.chvacuum.com/valve/">阀门</a>完成开关门动作。门口设有天然气常明火和紫外线探测器,一旦火头熄灭,它会立即启动点火器点火,将天然气点燃。在关门时出入口的氢气量较小,开门前自动将气量增大,这时炉子保持正压,可防止空气过多地进入炉内,造成产品出炉时金属化面氧化。两炉门方向均与推进方向成90°。国内有的厂家在炉门处作了一些改进,如出口炉门与推进方向成180°,相当于延长了冷却段,使产品的出炉温度有所降低,开门时还可减少外部空气进入炉内。另外,还缩短了开启炉门的时间,减少了开门时的耗气量。 <h4>1.2.3、主炉体</h4> 　　炉膛的最内层由高温耐火材料构成一个上方为拱形的内腔,使用金属钼带作为加热元件,钼带分布在内腔两侧,热量直接辐射至产品上。其优点是加热子不与耐火材料接触,不会发生炉管或炉丝板烧熔现象。炉膛的底部由若干个炉底板组成,炉底板两侧边缘凸起,使推板在凹槽内前行,可防止推板偏离方向而造成卡舟。卡舟对于卧式氢炉来说是一个不好处理的故障,首先要将炉温降低到一定的程度,再用器具将炉内的产品和推板全部弄出,检查炉丝的受损情况(若受损严重,就必须将炉子降至室温,开盖更换炉丝) ,再将推板依此推入,升温工作,既耽误时间又毁坏了一些推板和钼舟。每个加热区上方安装一个热电偶,其信号传至中央控制器自动控制炉内温度。热偶为铂铑热偶,外套一根致密的刚玉管,防止氢气进入,管内充氮气保护。国内现在主要采用钨铼热偶,其造价低,适于在氢气中使用,但其稳定性较差,易漂移,因此需经常检测。内腔外是几层高温耐火砖,最外层是几层轻质保温砖。 　　在预热区的上方有一个排气口,内置一个瓷质烟囱,从排气口逸出的氢气由天然气常明火点燃,并设有一个紫外线探测器,其作用同出入口的紫外线探测器。从炉内排出的有机物质也会在瓷制烟囱内堆积,因此炉子使用一定时间后,需清理瓷烟囱内的污物,防止其结块后掉入炉内污染产品或因炉内排气不畅而影响金属化质量。在炉顶排气口处还设有炉压调节装置,可根据压力表显示由人工进行炉内压力调节。 　　冷却区后部是一方形钢制通道,外壁安装了几圈铜制水管,内通冷却循环水,使产品在该段能较快地降温。冷却水量由人工控制,可根据出口水温来进行调节。有些厂家将水冷区也分为几段,每段可独立控制水量。 　　炉子的两端还各设有一个观察口,在卡舟和处理时观察炉内情况。 <h4>1.2.4、湿氢装置</h4> 　　由于金属化工艺要求高温段炉内气氛为湿氢,所以必须设置一个湿氢装置。它位于冷却区的旁边,一部分干氢进入湿氢罐后变成湿氢再进入炉内,罐内应用去离子水(因自来水易结垢,会造成管路堵塞) 。湿氢装置还配有加热器和水位计。加热器可自动控制罐内的水温,水位计可自动调节罐内的水位,使之保持恒定。这样才能保证湿氢量的稳定,从而使金属化层很好地烧结于陶瓷表面。 <h3>1.3、自动控制系统</h3> 　　该炉自动化程度较高,技术人员将工艺输入计算机后,炉子将自动完成整个工艺过程。操作人员的任务是装卸产品和处理报警。其还配置了一套专用软件,界面见图2 。功能齐备,界面清晰,便于操作。#p#副标题#e# <img style="WIDTH: 311px; HEIGHT: 223px" border="0" alt="软件界面图" width="476" height="369" src="http://www.chvacuum.com/uploads/userup/0911/242150391W0.gif" /> 图2 　软件界面图 　　软件的主要作用有:执行多重任务;进行工艺编辑;自动工艺排序;数据自动收集和分析;故障诊断;安全接近措施;随时帮助功能。 　　首先,进入该系统需输入正确的密码。进入系统后技术人员按屏幕的提示逐步地输入工艺参数并保存下来(其他人员无法进入工艺参数设置系统)。选定工艺后按运行键即自动运行工艺。这时操作人员可从屏幕上看到炉子的工艺参数和运行状态,如:炉子各区的设定温度、实际温度、输出功率、推杆速度、周期时间等。 　　该系统设置了两种警示:警告和报警。警告是用来提醒操作人某实际值已偏离设定值并接近报警条件, 警告出现时, 程序状态按钮变成黄色“A2L ERT”。报警的作用是提醒操作人某实际值已超过设定值(有关参数是由技术人员事先输入的) 。若出现报警,屏幕会变成红色并闪烁白字“ALARM”,伴有警报声音,操作人可先清除报警声音,再打开报警状态对话框,这时会看到报警的类型,如氢气压力低、缺水、温度偏离等。操作人员根据提示处理报警,完毕后按清除报警键即可,若处理的不对,炉子会再次报警直到操作人正确处理完报警。最后操作人按关闭键返回至炉子监视窗口。 　　紧急停车按钮:在控制柜和传送带的两端共有三个紧急停车按钮,当发生危险事件时可按下它,则加热接触器关闭,驱动停止。 　　数据收集和工艺参数的修改:技术人员可选择主菜单的Data log项设置数据收集的条件,根据条件炉子将自动收集工艺条件,如温度、压力、报警信息等,这些被收集的数据存储在一个数据收集盒内,可以被相关人员观看、分析和打印。 <h2>2、立式炉</h2> 　　以<a href="http://www.sevenstar.com.cn/">七星华创</a>公司生产的立式炉为例。 <h3>2.1、炉子的基本组成</h3> 　　炉子分为机械和电气控制两大部分,其中机械部分由工作室、升降机构、气路系统、供水系统组成。电气控制部分由控制柜、变压器、温度控制系统、加热系统、报警系统组成。 <h3>2.2、工作室</h3> 　　炉壳为圆筒形,内层为不锈钢板,夹层之间通循环水,使炉壁和炉顶得到冷却,<a href="http://www.chvacuum.com/material/pipeline/11363.html">法兰盘</a>为不锈钢。加热采用鼠笼式圆周加热方式,加热元件为钼丝,各组加热器由若干钼丝组成,固定在支架上,加热子分布在炉体四周及底部。此方式可保证工作室内温度的均匀性,从而保证炉内各部位产品金属化温度的一致。保温屏采用全金属反射屏,最里层为高温钼,接着是几层普通钼,然后是几层不锈钢。热偶采用钨铼材料,外套瓷珠。与卧式炉类似,钨铼热偶稳定性较差,需经常监控,及时更换,否则将影响金属化的质量。 <h3>2.3、升降机构</h3> 　　由电机、丝杠、导向机构等部件组成。装产品时炉底盘下降,将产品装入,可根据金属化产品的种类采用裸烧或放在钼舟内,完毕后将炉底盘升起。 <h3>2.4、气路系统</h3> 　　炉内先抽真空,到达一定的真空度后自动向炉内充氮气,达到一定压力后,通氢气并升温。上述过程可自动完成。在炉体旁边设有湿氢装置,内有加热装置,可设定加热温度。湿氢装置的上方设有露点仪。在氢气进炉的管道上也设有加热装置以保证进炉湿氢的露点。这样,只要保持湿氢罐内和管道的加热温度恒定,进入炉内的湿氢气氛就是稳定的,瓷件金属化的质量可控。气路系统的工作也可由手动完成。立式炉的用气量比卧式炉小得多,金属化工艺相对卧式炉来说不太好调节,工艺参数还需通过大量试验来确定。 <h3>2.5、供水系统</h3> 　　循环冷却水通向炉体、炉盖和电极,各路均设有水流继电器,当发生水压不足或断水时,有信号送入控制柜,系统可根据情况作出反应,不会导致炉体局部过热。 <h3>2.6、电气控制系统</h3> 　　用可编程温度控制器对炉内进行温度控制,控制方式为PID闭环控制系统。记录仪可记录炉内的温度和氢气压力。立式炉金属化工艺的编制极为重要,在设定温度、保温时间、升降温速率时还要充分考虑炉子的特点,这样才能缩短试验的周期,使炉子尽早地投入生产。 <h3>2.7、报警系统</h3> 　　当发生下列情况时,炉子会发出声光报警: ①缺氢或氢气压力不足时,自动停止加热并向炉内通氮气; ②却水或水压不足时,自动停止加热直到水压恢复; ③发生超温时,自动停止加热; ④炉内压力超标时,在炉顶设有泄压装置,自动泄压以保证安全。 　　综上所述,用于金属化的卧式炉和立式炉各有其特点,用户可根据自己的实际情况如资金、产量大小、产品种类等情况来选用。目前,国内有些厂家生产的金属化炉已接近国浇注的实验要求。 真空基础刘晓芳北京真空电子技术研究所 2009-11-24 21:39 机械抽真空技术在大型常减压蒸馏装置的应用 http://www.chvacuum.com/engineering/081268.html 机械抽真空技术具有能耗低、结构紧凑、占地少的特点。本文详细介绍了该技术在6.0Mt/a常减压蒸馏装置应用情况。 1、概况 　　中国石化镇海炼油化工股份有限公司(以下简称<a href="http://www.zrcc.com.cn/">镇海炼化公司</a>) Ⅱ套常减压蒸馏装置3.0Mt/a 扩能为6.0Mt/a 的改造中,采用三炉四塔(初馏塔、常压炉、常压塔、一级减压炉、一级减压塔、二级减压炉、二级减压塔) 四级蒸馏新工艺,其中一级减压塔为新增设备,其塔顶<a href="http://www.chvacuum.com/tools/pressure.php">真空度</a>要求不高,设计塔顶真空度为88kPa ,为节能其塔顶抽空系统选用了机械抽真空技术。该装置于2004年11月投产,2005 年8月装置通过考核验收,表明机械抽<a href="http://www.chvacuum.com/">真空技术</a>在大型常减压蒸馏装置应用取得成功。 2、抽真空方案选择 　　<a href="http://www.chvacuum.com/pumps/steam/081253.html">蒸汽喷射器</a>因内部没有运行部件,具有结构简单、工作可靠、寿命长,安装维护方便、<a href="http://www.chvacuum.com/seal/">密封</a>性能好、抽气量大等优点,因此蒸汽喷射器被广泛地应用于大型常减压蒸馏装置。但由于蒸汽喷射器是两股流体(蒸汽与被抽气体) 混合进行能量交换而工作,在混合过程中有较大的能量损失,因此效率低。机械抽真空技术所用设备为液环泵属于体积式泵,在不同压力下吸入的体积数基本一致,即在压力高时吸入的质量多因此在低真空时效率较高。目前国内个别大型常减压蒸馏装置减压塔抽真空系统在改造时采用混合机组,即<a href="http://www.chvacuum.com/pumps/jixie/09179.html">液环真空泵</a>代替最后一级蒸汽喷射器,取得了明显的经济效益。但国内大型常减压蒸馏装置减压塔中还没有单独采用机械抽真空技术的抽真空系统,系统设计与操作缺乏可借鉴经验。 　　改造装置一级减压塔顶抽空系统的设计参数如表1所示。机械抽真空技术与蒸汽抽真空技术比较,前者的设备少(数据见表2) ,且结构紧凑,因此占地面积也较小,能耗不及后者的1/5(数据见表3) 。考虑到节能特别节水的需要,因此决定在一级减压塔的抽真空系统单独采用机械抽真空技术。 表1 　抽真空系统设计参数 <a target="_blank" href="/uploads/userup/0908/132104093194.gif"><img border="0" alt="抽真空系统设计参数" width="445" height="564" src="/uploads/userup/0908/132104093194.gif" /></a>  3、液环真空泵工作原理 　　液环真空泵叶轮偏心地装在泵气缸内。启动前在泵气缸内灌入规定高度的液体(工作液) 。当叶轮旋转时,由于离心力的作用,将液体甩至泵体壁,形成一个旋转的液体环。由于叶轮与气缸中心是偏心配置的,所以液环的内表面与叶轮轮毂之间形成一个月牙形空间,它被叶片分成若干容积不等的小室,每个小室的容积随叶轮转动作周期扩大和缩小,当小室容积逐渐扩大,气体由外界吸入,当小室容积逐渐缩小,使原先吸入的气体被压缩而排出。这样,叶轮每转一周,叶片与叶片间的小室容积改变一次。每两叶片间的液体好像液体活塞一样往复运动,连续不断地抽吸气体,达到抽真空的目的。#p#副标题#e# 4、主要设备及工艺流程介绍 4.1、主要设备 　　预冷却器二台,规格为BJSY800 - 1. 6 - 205 -6/ 19-4REa 。 　　2BW5 303 - 0PD2 液环真空泵成套装置2 套,由配套的液环泵、电机、换热器、气液分离器、液位控制系统、及气、液管路部件等组成。污水罐1 台,为<a href="http://www.keyehf.com/Html/Product_109.html">常压容器</a>,规格为直径3000 mm ×1500 mm ×800 mm ×6 mm。 4.2、工艺流程 　　一级减压塔顶油气及汽提蒸汽经预冷却器冷凝冷却。冷凝液自流至污水罐,气相进液环真空泵压缩后到气液分离器,气体进入加热炉燃烧,气液分离器原工作液及和气相中夹带的油在液环真空泵成套装置循环。液环真空泵的气液分离器工作液液面必须维持在规定范围内,因此气液分离器设有补水线及溢流线,液面不足时自动开控制阀进脱盐水补充,过高则通过溢流线自流进入污水罐。污水罐污水(污油) 经污水泵升压后进入装置二级减压塔顶污水罐,气相与液环真空泵气液分离器气相连通。二台液环真空泵均设有自保联锁系统,当液环真空泵电机失电时该泵入口电磁阀自动关闭,防止空气倒串至减压系统。预冷却器及液环真空泵均为一台运行一备用,可切换运行。 5、开工初期出现的问题及措施 5.1、污水罐瓦斯外泄造成装置区域恶臭 　　装置开工后在装置区域经常出现恶臭,经检查发现为污水罐含硫化氢气体的瓦斯外泄引起。污水罐设有通大气溢流线,作用为防止液环真空泵过载及污水罐受压。当液环真空泵背压过高会引起污水罐污水通过溢流管线压空,这样含硫化氢气体的瓦斯也会通过没有液封的溢流管线外泄到大气。为此装置实施了液环真空泵出口管线增上蒸汽伴热线、出口增设压力指示并引入DCS 操作台完善监控手段等措施。措施实施后没有再发生瓦斯外泄事件。 5. 2 　含硫污水油含量高 　　装置开工后经常出现装置含硫污水油含量高,含硫污水油含量高将影响装置分级控制达标,同时对后续的汽提装置运行造成负面影响。装置含硫污水共有四路,即初馏塔顶污水、常压塔顶污水、二级减压塔顶污水及一级减压塔顶污水。具体流程:一级减压塔顶污水进二级减压塔顶污水罐沉降分离后污水与初馏塔顶污水、常压塔顶污水合并成一路,经泵升压后进旋流分离器进行油水分离,污水出装置去污水汽提装置。含硫污水油含量高的原因分析为一级减压塔顶污水污油经污水泵升压搅动后产生油水乳化物,对一级减压塔顶污水切出含硫污水系统前后进行含硫污水采样分析,发现旋流分离器入口污水含油浓度从切出前的1 000 ppm 下降到切出后的400 ppm ,出口污水含油浓度从400 ppm 下降到200 ppm。考虑到一级减压塔顶水量不高,将其后路由二级减压塔顶污水罐改为装置电脱盐罐。改造后对电脱盐系统未产生影响,外排含硫污水含油浓度全部达到低于300ppm 的分级控制标准。 6、应用效果 　　2004 年11 月3 日8 :40 改造装置进原油开工,5日5 :00 全部产品合格,装置开车一次成功,其中液环真空泵开车顺利,一级减压塔顶真空度按计划5小时内到达86 kPa 。自开工后一年的应用情况来看,液环真空泵运行稳定,运行中未出现设备故障,操作简单,噪声低。一级减压塔顶真空度基本稳定在80 kPa ,虽未达到设计值88 kPa ,但已能满足生产要求。在2005 年8 月装置考核标定中,一级减压塔的柴油和蜡油拔出量分别达到设计值的123 %和118 % ,装置的加工能力、产品收率、能耗等主要指标也均达到了预期效果。 7、结论 　　自2004 年11 月开工后一级减压塔抽真空系统的运行证明,镇海炼化公司6.0Mt/a 常减压蒸馏装置一级减压塔采用机械抽真空技术是成功的,从运行效果看,真空度稳定,能满足生产要求,且能耗较低。 参考文献： 〔1〕樊丽秋,等. 真空设备设计〔M〕. 上海:上海科学技术出版社,1990. 常减压蒸馏装置液环真空泵蒸汽喷射器真空基础陈　建中国石化镇海炼油化工股份有限公司 2009-08-13 20:54 碳纳米管超级电容器研究进展 http://www.chvacuum.com/engineering/121633.html 超级电容器由于具备高比功率、长循环寿命等优势，目前已应用于计算机备用电源、信号灯电源及与燃料电池、镍氢电池等动力电池复合作为电动汽车的动力电源。　　电化学超级<a href="http://www.chvacuum.com/engineering/0964.html">电容器</a>由于其电容量大、使用寿命长、功率密度高、可快速充放电等优点，已经吸引了越来越多的关注，它在微电子、无线通信、移动计算和工业中有着广泛的应用前景。碳纳米管作为一种新型的碳纳米材料，具有良好的导电性、大比表面积和稳定的化学性质等特点，被认为是超级电容器理想的电极材料。因此，对碳纳米管超级电容器的研究有着十分重要的意义。 <h2>1、简介</h2> 　　电化学超级电容器（electrochemical supercapacitors ，ES），也叫做电化学电容器（electrochemical capacitors，EC），或简称超级电容器（supercapacitors or ultracapacitors），是近年来广为关注的新型能源器件。随着世界经济的现代化，如石油、天然气、煤炭等能源危机迫在眉睫。人们开始研究将会使用替代能源，例如太阳能、风能或者燃料电池。但是由于能量来源本身的特性，决定了这些发电的方式往往具有不均匀性，电能输出容易发生变化。随着风力和太阳光强度的变化，这些能源产生的电能输出也会发生相应的变化。这就需要使用一种缓冲器来存储能量。由于这些能源产生的电能输出可能无法满足消费者一方的峰值电能需求，因此可以采用能量缓冲器在短时间内提供所需的峰值电能，直到发电量增大，需求量减少。另外，在能源产生的过程是稳定的而需求是不断变化的情况下，也可以使用能量缓冲器。在使用替代能源技术领域，超级电容器是一种新型的关键部件。 　　由于超级电容器不是通过化学反应来充电的，而是通过在电极表面积累电荷进行充电的，因此它的充电电流可以非常高，且没有充电时间的限制。超级电容器有比常规电容器能量密度大和比充电电池功率密度高的优点，而且可快速充放电，使用寿命长，是一种新型、高效、实用的能量存储装置，有着广泛的应用前景，如便携式仪器设备、数据记忆存储系统、电动汽车电源及应急后备电源等。而且，超级电容器储存电荷的能力比普通电容器高，并具有充放电速度快、效率高、对环境无污染、循环寿命长、使用温度范围宽、安全性高等特点。 　　碳纳米管是由单层或多层石墨烯片卷曲而成的无缝中空管，具有独特的物理和化学性能，在复合材料增强、纳米器件、场发射、催化剂等领域具有潜在的应用价值。它有良好的导电性、大的比表面积、化学性质稳定、适合电解质离子迁移的孔隙（孔径一般大于2 nm），以及交互缠绕可形成纳米尺度的网络结构，因而被认为是超级电容器理想的电极材料。 <h2>2、超级电容器的分类及工作原理</h2> <h3>2.1、双电层电容</h3> 　　当固、液两相（如固体电极和液体电解质）接触时，在其界面的极短距离处将会出现正、负电荷相对排列的双电层（Electric Double Layer）。有关双电层的电荷分布模型经过完善和发展逐步形成了当今的双电层理论。1879 年，亥姆霍兹（Helmholtz）首先提出一个经典的双电层模型（如图1所示），把双电层看作是一个平板式电容器，这就是双电层理论的雏形；1910～1971 年，Gouy和Chapman对Helmholtz双电层模型提出了改进意见，引入扩散层的概念，仍然从静电学理论处理问题；1924 年，Stern 提出了改进型双电层模型，把双电层分为内外层，内层类似Helmholtz紧靠分散相表面，而外层相当于Gouy的扩散层，且内层电位呈现出直线下降，外层电位则呈现出指数式下降；1947年，Grahame发展了Stern双电层理论，将内层再分为两层，即Helmholtz内层和Helmholtz外层，前者由未溶剂化的离子组成（紧靠界面），而后者由一部分溶剂化的离子组成，紧靠界面的吸附层。这些双电层模型学说得到大多数人的认可，也奠定了近代双电层理论的基础。 <h3 align="left">2.2、法拉第准电容</h3> 　　在电容器中，电荷传输导致电活化材料的化学态或氧化状态发生改变，某些情况下会出现等效电容。这时能量的存储是间接的，并且与电池中的能量存储相似。和界面双电层电容形成过程不同的是，反应伴随有电荷的转移，进而实现电荷与能量的储存。为了与双电层电容相区别，称这样得到的电容为法拉第准电容。 <h2 align="left">3、碳纳米管超级电容器的研究进展</h2> <h3 align="left">3.1、碳纳米管直接用作超级电容器电极材料</h3> 3.1.1、多壁碳纳米管 　　马仁志等用高温催化C2H4/H2混合气体制备多壁碳纳米管（MWNTs），采用两种不同的工艺制备碳纳米管固体电极,以质量分数38%的H2SO4为电解液恒流充放电测试其电容性能。在氩气保护下，高温热压纯碳纳米管成型电极的比电容为78.1F/cm3；将碳纳米管与质量分数为20%的酚醛树脂混合压制成型，再炭化后所得固体电极的比电容为70.5 F/cm3，但其ESR小于前者。 　　刘辰光等将有机物催化裂解法制得的管径20 nm～40 nm的CNTs经分散、除杂后，在6MPa压力下于泡沫镍上压制成圆片状电极，用6mol/LKOH作电解液，以10 mA电流进行恒流充放电，测得电极的比电容为60 F/g。 　　我们实验室采用化学气相沉积法在铜镍合金衬底上制备了碳纳米管薄膜，用作双电层电容的电极。经过循环伏安及充放电测试得到，电极可以在-1.5~1.5V的电压范围里稳定工作，且比电容可达到8.1 F/g，循环充放电性能良好。 3.1.2、单壁碳纳米管 　　单壁碳纳米管（SWNTs）具有比多壁碳纳米管更高的理论比表面积，因而可望获得更高的比容量，但SWNTs制备和纯化的难度加大，成本也远高于MWNTs。 　　An等]研究了电弧放电法制备的单壁碳纳米管用作超级电容器电极材料的性能，以及炭化温度、集流体和放电电流密度等因素的影响。取炉壁位置生长的碳纳米管，加入质量分数30 %的聚偏二氯乙烯（PVDC）黏结剂制成片状电极，500℃～1000℃热处理30 min，以镍做集流体，7.5 mol/L KOH为电解液，最大比电容为180 F/g，功率密度和能量密度分别为20 kW/kg和6.5 Wh/kg。随热处理温度升高，电极的比表面增大，孔径分布得到改善，比电容增大。 　　Pico等将电弧法制备的单壁碳纳米管在空气中于300℃～550℃热处理1 h，加入质量分数5%黏结剂聚偏二氯乙烯制成电极，分别以6 mol /L KOH和2mol/L H2SO4为电解液，测试电容性能，探讨了热处理温度和电解液的影响。碳纳米管在空气中适度的氧化处理，除去了其中的无定形炭，同时使表面功能化，并在管壁产生一定的缺陷，其比表面积和比电容增大，350℃氧化的单壁碳纳米管在6mol/L KOH中的比电容达140 F/g，比以2mol/L H2SO4为电解液的电容器的比电容高。 3.1.3、有序碳纳米管阵列 　　Chen等[13]以阳极氧化铝（AAO）为模板，用化学气相沉积法由C2H2制备有序碳纳米管阵列，在末端喷金（作为集流体）后，用硫酸洗去AAO模板和催化剂，TEM观察其管径均一，外径约120 nm，壁厚5 nm，长度约0.26mm。取直径8mm的圆片作工作电极，铂电极和饱和甘汞电极分别作对电极和参比电极，以1mol/L H2SO4为电解液，组成三电极体系，循环伏安测试发现其CV曲线有明显的氧化还原峰，说明其表面有丰富的含氧官能团，在210 mA/g的电流密度下恒流充放电测试其比电容高达365 F/g，电流密度增大到1.05 A/g其比电容仍高达306 F/g，下降仅16 %，说明该电极具有好的功率特性。 　　Yoon等以0.1 mm厚的镍箔为衬底，NH3等离子刻蚀5min使表面粗糙不平，用热丝等离子增强化学气相沉积法生长出了高纯度、定向排列的碳纳米管阵列，厚度约20 nm，石墨化程度很高。以6 mol/L KOH为电解液，聚丙烯膜为隔膜，组装成硬币型电容器，用循环伏安法测试电容性能。在扫速为100 mV/s时有着近似矩形的CV曲线，即使在1000 mV/s的高扫速下依然保持着良好的矩形。这说明直接生长的碳纳米管电极有着非常低的内阻，因此具有高的放电效率和好的功率特性。作者还对生长出的碳纳米管表面进行NH3等离子处理，将比表面积从9.36 m2/g提高到86.52 m2/g，并改善了电极的浸润性，比电容也由38.7 F/g增大到207.3 F/g。#p#副标题#e# <h3 align="left">3.2、碳纳米管复合材料作为超级电容器电极</h3> 3.2.1、碳纳米管与金属氧化物复合 　　RuO2及其水合物是最具代表性的准电容电极材料，无定形RuO2·xH2O的比容量高达768 F/g。马仁志等[6,7]在碳纳米管表面沉积无定形RuO2·xH2O，制备出RuO2·xH2O/CNTs复合电极，其比电容较之于纯CNTs电极有显著提高。当复合电极中RuO2·xH2O的质量分数为75 %时，比电容达到600 F/g。RuO2·xH2O具有高的比容量，但其功率性能差，一定量的碳纳米管的存在改善了其功率特性，从而使基于这种复合电极的电容器同时兼有高比能量和高功率密度的优点。 　　Arabale等将RuCl3·3H2O与浓硝酸氧化处理过的碳纳米管相混合、超声分散、洗涤和110℃干燥后，在碳纳米管上附载上质量分数为1 %的RuO2·xH2O，使得碳纳米管在1mol/LH2SO4中的比电容由30 F/g增大到80 F/g。 　　我们实验室采用超声雾化喷雾法在碳纳米管薄膜上沉积了氧化锌（ZnO）。所制得的电极经过循环伏安测试（如图2所示），沉积时间为5 min的复合电极的电化学性能最好，其比电容可达到126.3 F/g，比纯碳纳米管电极要高。 3.2.2、碳纳米管与导电聚合物复合 　　导电聚合物是超级电容器的另一类重要的电极材料，通过发生快速可逆的p型或n型掺杂或去掺杂的氧化还原反应产生很高的法拉第准电容，具有比容量高、成本低、可以通过分子设计选择不同的聚合物结构等优点，成为近年来研究的热点。将导电聚合物包覆于碳纳米管上，使二者优势互补，复合电极材料具有优于导电聚合物的导电性和循环性能，而比容量较碳纳米管有了大幅提高。 　　Frackowiak等用电沉积法在碳纳米管上均匀地修饰一层约5nm厚的聚吡咯（Polypyrrole）薄膜，这层薄膜兼有好的电子导电性和离子导电性。复合物在1mol/L H2SO4中的循环伏安曲线呈对称的矩形，放电曲线呈直线，说明其储能完全是静电吸引作用，复合物的最大比电容可达172 F/g，远远大于纯CNTs（78 F/g），这说明CNTs和聚吡咯间有很好的协同效应，高的比容量是由于复合物中电荷的三维积累。他们在另外的报道中，700℃裂解的碳纳米管包覆聚吡咯后比电容由65 F/g增大到141 F/g，600℃裂解的碳纳米管包覆聚吡咯后比电容由50 F/g增大到163 F/g。聚吡咯/CN Ts复合电极材料具有长的循环寿命，循环2000次后容量损失小于20%。 　　Zhou等[20]将均匀分散质量分数为8%的单壁碳纳米管的单体苯胺进行化学聚合制备聚苯胺（PANI）/单壁碳纳米管复合物，将复合物、乙炔黑和聚四氟乙烯（PTFE）按质量比80∶15∶5配料压制成片状电极，在1mol/L NaNO3电解液中，用循环伏安、恒流充放电和交流阻抗测试研究其电容性能，结果表明复合物有着比PANI更高的比电容和功率特性，比电容可达190.6 F/g。他们认为单壁碳纳米管是好的电子接受体，而苯胺是好的电子给予体，复合物中的SWNTs与PANI形成电荷转移结合体而紧紧作用在一起，提高了PANI的电导率。 <h2 align="left">4、电解质</h2> <h3 align="left">4.1、液体电解质</h3> 4.1.1、水溶液 　　常用的水溶液电解质如：35 % H2SO4和30 %KOH，其优点是电导率高、成本低廉，但分解电压低（一般不超过1 V），且腐蚀性强、易凝固、易气化等。 4.1.2、有机溶液 　　有机电解液分解电压高（3～5 V），可提高电容器的比能量，研究的难点是提高溶液电导率。有机电介质盐方面,阳离子主要有季铵盐（R4N+），此外锂盐（Li+）和季磷盐（R4P+）也有报道，而阴离子则主要是ClO4-、BF4-、PF6-、AsF6-等；人们研究的有机溶剂有碳酸丙烯酯（PC）、N,N-二甲基甲酰胺( DMF) 、碳酸乙烯酯( EC) 、环丁砜( SL) 、乙腈( AN) 或其他腈类衍生物。根据A.B. Meewen 等人的研究，2 mol/L的EMIPF6在乙腈中得到的电导率为60 mS/cm ，稳定窗口电位可达4 V。 <h3 align="left">4.2、固体电解质</h3> 　　固态电解质由于良好的可靠性、无电解液泄漏、高比能量等优点备受青睐。I. Masashi以烷胺盐作为支持电解质，PEO-PMMA为基体，PC增塑剂，制作出基于固体低聚物的双电层电容器，PEO-PMMA-PC-EtS4NBF4具有较高的电导率我们实验室采用聚乙烯醇-磷钼酸作为固体电解质、碳纳米管作为电极，进行了循环伏安测试和充放电测试，结果表明电极在含30 wt.%磷钼酸的电解质中电化学性能最佳。 <h2 align="left">5、总结</h2> 　　超级电容器由于具备高比功率、长循环寿命等优势，目前已应用于计算机备用电源、信号灯电源及与燃料电池、镍氢电池等动力电池复合作为电动汽车的动力电源。国内外都已开展了超级电容器的研究，主要集中在碳电极电容器（活性炭、碳纳米管等）和贵金属氧化物的替代品。而导电聚合物价格高，技术不成熟，真正的应用品种不多。电化学超级电容器有着比其他类型储能装置更好的性能，现在比能量可达5～6 Wh/kg，比功率可达0.5～2 W/g，将来的预计目标比能量为10～15 Wh/kg，比功率为1～6W/g。市场不但要求更优越的性能，更要求大幅度的降低成本。碳纳米管材料的出现和发展为超级电容器电极材料研究提供了新的发展方向，将给超级电容器性能提高提供广阔的发展思路和空间。 真空基础张燕萍华东师范大学纳光电集成与先进装备教育部工程研究中心 2009-12-01 20:27 离子发动机空心阴极寿命预测 http://www.chvacuum.com/engineering/091344.html 为验证空心阴极的寿命，本文根据空心阴极LaB6发射体的损耗特点, 采用数学建模方法对空心阴极的寿命进行了预测。 　　空心阴极是离子发动机的心脏，其寿命直接决定离子发动机系统的寿命。目前，国际上离子发动机的地面验证寿命已经从10000h扩展到30000h,飞行验证已经达到16000h。针对我国15年寿命的通讯卫星南北位置保持的使命，在考虑备份的情况下, 空心阴极寿命可靠寿命应该达到10000h以上。在实验研究的基础上，进行空心阴极寿命预测,并根据预测结果优化研制方案，可较大幅度降低空心阴极研制成本，提高研制效率。本文结合<a href="http://www.lipcast.cn/">兰州物理研究所</a>3500h空心阴极寿命实验结果,对空心阴极寿命进行了预测研究。 <h2>1、试验装置及方法</h2> <h3>1.1、空心阴极</h3> 　　兰州物理所设计的空心阴极的结构参数在08年投稿在真空技术网中“20cm氙离子发动机空心阴极3000h寿命试验”一文已经详细说明。该空心阴极的发射体采用LaB6材料制成。发射体内径2mm, 长度8mm,外径4mm。LaB6的突出特点是抗中毒能力强，其抗中毒阈值比传统的钡钨阴极高2~3个数量级。LaB6在600℃以下，不会与空气发生反应，可长期在大气环境中储存。基于以上特点，LaB6空心阴极应用于离子发动机可带来两方面益处，其一，可降低对离子发动机工质纯度的要求，其二，可大幅放松离子发动机储存对环境的要求。因此，LaB6空心阴极已经引起国内外的重视。 <h3>1.2、试验条件及程序</h3> 　　寿命试验在兰州物理研究所Ts1000设备的真空室中进行，试验采用三极管结构。三极管结构的详细参数已经详细叙述。试验过程开始前，首先将<a href="http://www.chvacuum.com/systemdesign/081316.html">真空室</a>本底抽至8×10-4Pa；然后，向阴极管中通入Xe气，阴极加热器加电，当发射体被加热到1800K以上时，触持极加800V高压，实现空心阴极点火；点火成功后，开启阳极电源，从空心阴极中引出电流，这时，阴极加热器断电，阴极实现自持放电。 　　试验中，通入到阴极的Xe流率维持在0.1mg/s，此时真空室真空度稳定在2×10-3Pa；阳极采用稳流电源将放电电流（即发射电流）维持在额定电流5.00 A，通过监测阳极电压（即放电电压）随试验时间的变化关系，掌握阴极状态的变化。试验中采用的Xe纯度为99.9996%。 <h2>2、寿命试验结果</h2> 　　3500h寿命试验的情况在上文中已经详细叙述，在3500h寿命试验后，空心阴极性能稳定，仍然可继续正常工作。为进行寿命预测，对空心阴极组件进行了解剖分析。解剖分析表明，在空心阴极各零部件中，发射体变化最明显，出现了可见的损耗，经过测量，发射体内径从2mm 变化到2.30mm,外直径无变化,即整个寿命试验期间，发射体消耗了0.15mm，平均消耗速率为42.85μm/1000h。 <h2>3、寿命预测</h2> <h3>3.1、几点假设</h3> 　　第一，因LaB6发射体尺寸较小，且其热导率很高，故假设整个发射体的表面温度均匀, 各点电流发射密度相同； 　　第二，因本试验中采用的工质气体Xe纯度高达99.9995%，假设工质气体与阴极各零部件不发生化学反应； 　　第三，因空心阴极放电电压在30V以下，产生的Xe离子能量不超过30eV, 不会对发射体产生溅射，因此，假设蒸发是发射体损耗的唯一途径； 　　第四，根据3500h空心阴极寿命试验的结果，发射体是寿命试验中变化最明显的零件，因此，假设发射体寿命是制约空心阴极寿命的首要因素; 　　第五，根据LaB6材料的电子发射原理，LaB6蒸发损耗的过程与发射体表面更新过程完全同步，因此，假设直至发射体损耗殆尽，发射体寿命才终止。 <h3>3.2、寿命模型</h3> 　　根据以上假设，通过计算发射体消耗殆尽所需时间，即可计算发射体寿命。发射体在支取不同电流密度情况下，其蒸发速率有所不同。下面对发射体发射电流密度与蒸发速率之间的关系进行了推导。式(1)是发射体电流密度计算公式。根据真空技术网另文中叙述，对LaB6发射体，发射常数取30A/(cm2K2)，发射体表面逸出功取2.66；空心阴极内肖特基效应引起的逸出功减少量约为0.05eV。 <img border="0" alt="" width="428" height="59" src="/uploads/userup/0909/0600340J316.gif" /> 式中Je———发射电流密度，A/cm2 　　A———发射常数，A（/ cm2.K2） 　　T———发射体表面温度，K 　　φ———发射体表面逸出功，eV 　　φs———肖特基效应引起的逸出功减少量，eV 　　K———波兹曼常数，1.381×10- 23 J·K#p#副标题#e# 　　式（2）是LaB6 发射体蒸发速率公式。式中a, b 均为常数，a 取4×1014 μ/h，b取570×103。 V = a·exp[- b/(RT)] (2) 式中a———常数，μ/h 　　b———常数，J/mol 　　V———蒸发速率，μ/h 　　R———气体常数；8.314[J（/ mol·K）] 　　T———发射体温度，K 　　根据式（1）、式（2），用解析方法求解发射体发射电流密度与蒸发速率之间的关系比较困难，可通过数值计算方法得到发射体表面发射电流与蒸发速率的关系如图1。该曲线的数学表达式如式（3）。 V1 = D·exp(Je/B)+C（3） 其中V1———蒸发速率[μ/(1000 h) ] 　　Je———发射体表面电流密度，[A/cm2] 　　D———常数，38.166 [μ/(1000 h)] 　　B———常数，10.777[cm2/A] 　　C———常数，-6.480[μ/(1000 h)] <img border="0" alt="LaB6发射体蒸发速率与发射电流密度的关系" width="444" height="340" src="/uploads/userup/0909/0600324b455.gif" /> 图1 LaB6 发射体蒸发速率与发射电流密度的关系 　　对空心阴极发射体，其内表面是蒸发损耗的唯一表面，也是电流发射的唯一表面。随着发射体蒸发损耗，发射体内直径逐渐扩大，电流发射面积随之扩大，在发射电流一定的情况下，发射体表面的电流发射密度逐渐减小，即在空心阴极的整个寿命周期内，发射体蒸发速率有较大变化。在发射体寿命计算时，需要考虑上述因素。 <img border="0" alt="空心阴极寿命与发射电流的关系" width="480" height="356" src="/uploads/userup/0909/0600332B525.gif" /> 图2 空心阴极寿命与发射电流的关系 　　兰州物理研究所研制的空心阴极发射体初始尺寸为内径2mm、长度8mm、外径4mm。根据这一边界条件以及式（3）可通过数值积分方法得到该空心阴极的预测寿命与发射电流之间的关系如图2。从图2可见，兰州物理研究所研制的LaB6空心阴极工作在其额定工作点（发射电流5A）,寿命可达到40000h以上。为验证空心阴极寿命预测模型模型的正确性，本文采用该模型计算了寿命试验中发射体内径随试验时间变化的关系，并将计算结果与实验数据进行了比较，比较结果见图3，其中实验值是根据3500 h 寿命试验的结果得到的。从图3可见，实验值与计算值基本吻合。 <img border="0" alt="寿命试验中发射体内径与试验时间的关系" width="444" height="333" src="/uploads/userup/0909/0600334SX9.gif" /> 图3 寿命试验中发射体内径与试验时间的关系 <h2 align="left">4、结论</h2> 　　（1）本文根据空心阴极中LaB6发射体的损耗特点，建立了LaB6空心阴极寿命模型，该模型可用于LaB6空心阴极寿命预测。 　　（2）根据本文建立的空心阴极寿命模型，兰州物理研究所设计的LaB6空心阴极工作在其额定工作点（发射电流5A）, 寿命可达到40000h时以上。 　　（3）兰州物理研究所进行的3500h空心阴极寿命试验结果初步证实了本文所建模型的正确性。 空心阴极寿命离子发动机真空基础郭宁兰州物理研究所真空低温技术与物理国家级重点实验室 2009-09-06 00:17 微热管的灌注抽真空制造技术 http://www.chvacuum.com/engineering/121690.html 通过分析目前微热管制造工艺中常用的抽真空灌注技术，提出灌注抽真空微热管制造技术，结果表明灌注抽真空技术可以很好地满足微热管的制造需求。 　　微热管是高热流密度光电芯片领域广泛应用的高效热传导元件，抽真空和灌注是其性能的重要影响工序。通过分析目前微热管制造工艺中常用的抽真空灌注技术，提出灌注抽真空微热管制造技术；分析该技术的工作原理和二次除气理论，建立工质额外充液量、微热管工作死区、二次除气集气段长度等数学模型；对比分析抽真空灌注与灌注抽真空两种制造技术的特点；搭建微热管性能测试平台，对采用灌注抽真空技术制造的铜—水沟槽式微热管进行性能测试；对比研究引入额外充液量前后，灌注抽真空技术制造的微热管传热性能的差异，发现引入额外充液量后，微热管性能提高了12 倍。试验结果表明灌注抽真空技术可以很好地满足微热管的制造需求。 <h2>0、前言</h2> 　　高性能电子设备的热流密度已超常规空气强制对流换热能力极限。SAUCIUC等研究发现通过采用铜材、增加重量、优化翅片结构和提高风速，空气强制对流散热器的传热极限为0.15℃/W。微热管具有热阻低、体积小、重量轻和无需额外动力驱动等优点，VASILIEV研究发现其已成为未来高集成度电子芯片散热的关键元件，其理论被COTTER于1984年提出之后引起广泛关注。SUMAN回顾了20世纪90年代以来微热管的理论模型、性能试验和制造技术，发现大量文献对其传热理论进行了分析。KANG 等研究发现，不同工质充液量的微热管具有很大的差异，<a href="http://www.chvacuum.com/tools/pressure.php">真空度</a>和充液量是影响微热管性能的重要因素。已有的微热管制造方面的文献主要集中在毛细吸液芯制造、结构设计等方面，对其中的抽真空和工质灌注技术的研究涉及很少，仅有一些试验性研究。 　　PETERSON指出微热管传统抽真空和灌注技术主要有抽真空灌注技术和灌注工质后蒸发除气技术。微热管工作时，SARRAF 等研究发现，空气等不凝性气体将会在冷凝段积聚，该现象是微热管可靠性下降的主要原因。由于完全蒸发除气技术彻底排除不凝性气体困难且真空度难以控制，在微热管制造中已很少使用；目前使用的主要是抽真空灌注技术：将微热管一端封口且壁壳清洁除气后，用高真空泵将其内部抽真空到10–3 Pa，最低也要达到10–1 Pa。由于液体在高真空环境下因饱和蒸气压下降而易蒸发，高<a href="http://www.chvacuum.com/pumps/">真空泵</a>对管道内的液体十分敏感。连续生产时，采用该技术生产的微热管，受到设备管道内残余液体的影响而生产效率受到限制。 　　基于不凝性气体在微热管工作时在冷凝段聚集的现象，以及蒸发除气技术原理，本文提出灌注抽真空微热管制造技术：微热管首先在低真空度环境下预先<a href="http://www.chvacuum.com/fengjie/">封装</a>，然后利用加热使不凝性气体在冷凝段的集气段聚集，最后将集气段去除。采用对比研究的方法，通过原理分析和试验研究，对该技术进行论证。该技术的使用，将大为提高微热管生产效率，降低生产设备投资成本。 <h2>1、微热管抽真空与灌注制造技术</h2> <h3>1.1、微热管的工作死区</h3> 　　微热管是相变传热材料，工作原理如图1。它由相变材料(工质)、壁壳和毛细吸液芯组成。工质在蒸发段加热发生相变，经过绝热段传送到冷凝段释放出热量后重新凝结为液体，最后依靠毛细吸液芯的毛细作用回流到蒸发段，完成一个工作循环。 <img border="0" alt="微热管工作原理" width="399" height="188" src="http://www.chvacuum.com/uploads/userup/0912/1G6062G1B.gif" /> 图1 微热管工作原理 　　工质在微热管工作前主要以液态形式存在，工作时转变为气态。为了使工质在低温下发生相变，需要提高微热管壁壳内的真空度。微热管制造环境温度θ1 通常恒定，此时工质的饱和蒸气压为psau1。封装完后，管内体积为V0 的微热管内的气压为p1，则残余空气分压 pair1 = p1 − psau1 (1) 　　该微热管如在θ2 温度下工作，此时工质的饱和蒸气压为psau2，则微热管内的压力p2 根据混合气体的道尔顿(Dalton)定律为 <img border="0" alt="" width="396" height="60" src="http://www.chvacuum.com/uploads/userup/0912/1G60I54639.gif" /> 　　微热管正常工作时，如冷却充分，混合气体中的不凝性气体(以空气为主)将会动态的与工质蒸气分离。分离出的不凝性气体，由于传热系数远小于工质的相变，可以认为是热传导的死区。该体积称为微热管的工作死区Vdead，假设所有的气体皆为理想气体，则 <img border="0" alt="" width="479" height="65" src="http://www.chvacuum.com/uploads/userup/0912/1G60J33526.gif" /> <h3>1.2、抽真空灌注技术</h3> 　　目前微热管的制造技术普遍采用抽真空灌注技术，即先利用高抽真空设备将壁壳内环境抽离到高真空，然后往内灌注一定量的工质，见图2。为了保持高真空，抽真空后壁壳将不能移动，故高抽真空设备和灌注设备、封口装置必须组合设计。利用针阀等小流量气密性好的<a href="http://www.chvacuum.com/valve/">阀门</a>来准确控制微热管所需的充液量ql，其精度达到0.1 mL，数值的大小与壁壳容积、毛细吸液芯类型和几何参数、使用环境等有关，POPOVA 等提出以毛细吸液芯孔隙体积和壁壳内工质蒸气量之和计算。 <img border="0" alt="热管抽真空灌注系统原理图" width="312" height="376" src="http://www.chvacuum.com/uploads/userup/0912/1G60Qc634.gif" /> 图2 热管抽真空灌注系统原理图 　　抽真空灌注方式制作的微热管，其真空度与真空泵的抽速v 和时间t 有关。灌注工质前，对于管内体积为V0 的微热管，假设气体为理想气体，经过时间t，微热管内的气压将由标准大气压p0 下降到p(t)，经过时间Δt，根据波义耳(Boyle R)定律 <img style="WIDTH: 432px; HEIGHT: 165px" border="0" alt="" width="477" height="202" src="http://www.chvacuum.com/uploads/userup/0912/1G60U0E43.gif" /> 　　该技术制作的微热管性能稳定，不凝性气体少，工作死区可以忽略。然而由于工质灌注和抽真空联动装置的复杂性、高真空设备对液体的敏感性，造成设备价格高、生产效率较低，在实际生产中成本高。 <h3>1.3、灌注抽真空技术</h3> 　　先在微热管壁壳内灌注一定量的液态工质，然后进行抽真空(一次除气，真空度较低)。由于液态工质会随着真空度的提高而发生相变，此时很难达到高真空。为了防止工作死区过大，需要额外引入不依靠真空泵而去除空气的二次除气方法，其装置原理如图3 所示。对工作段有效长度为l1、中径为d1 的微热管，在封口段预留长度为长l2、中径为d2的集气段。低真空泵一次除气后，在集气段顶端预先封口。二次除气时，加热微热管蒸发段到θ3，此时工质的饱和蒸气压为psau3。冷凝集气段，使液态工质发生相变后推动壁壳内不凝性气体向集气段流动。气态工质凝结后依靠毛细和重力作用重新返回蒸发段，而残余空气等不凝性气体则在集气段积聚。一段时间后，不凝性气体在密封壁壳集气段内偏析，达到与气态工质动态的分离。最后，利用封口模将微热管集气段从工作段去除。#p#分页标题#e# <img border="0" alt="" width="367" height="353" src="http://www.chvacuum.com/uploads/userup/0912/1G609212354.gif" /> 图3 微热管二次除气原理图 　　采用灌注抽真空方式制作微热管，为了节省成本，应尽量升高二次除气温度θ3 以提高饱和蒸气压，且使集气段容积与不凝性气体体积相等，由式(3)可得集气段长度 <img border="0" alt="" width="420" height="78" src="http://www.chvacuum.com/uploads/userup/0912/1G6094bc9.gif" /> 　　采用灌注抽真空方法制作微热管，为防止工质在封口之前完全蒸发，通常需要对充液量为ql的微热管增加工质额外充液量Δql，以补充在一次除气过程中，随着空气被抽离的部分。该体积可以通过考察一次除气过程中两个极端情况来确定其范围。 　　(1) 不考虑热量传递。假设微热管由环境吸取的热量能满足液态工质相变所需要的热量，即液态工质能在恒定温度下发生相变，则在工质全部蒸发之前，工质的饱和蒸气压仅与温度有关；同时假设液态工质蒸发速度高于真空泵抽离气态工质的速度。则工质在壁壳内的蒸气分压恒定不变。时间Δt内，蒸发的工质与被真空泵抽离的体积相等。根据理想气体状态方程此时蒸发的液态工质体积 <img border="0" alt="" width="368" height="65" src="http://www.chvacuum.com/uploads/userup/0912/1G6101U522.gif" /> 　　由式(8)和初始条件Δql1(0)=0 可得需要的额外充液量 <img border="0" alt="" width="405" height="79" src="http://www.chvacuum.com/uploads/userup/0912/1G611015501.gif" /> 　　式(8)、(9)中，ρl 为液体工质的密度，M 为摩尔质量，R 为摩尔气体常数。 　　(2) 仅考虑热量传递。蒸发过程中，液体需要吸收热量以补充与气体焓值的不同。微热管在制造过程中，热量主要通过管壁依靠热传导和自然对流得到。其速度往往达不到蒸发的要求，从而导致微热管内部温度降低到工质熔点而停止蒸发。假设通过热传导所获得的热量全部转化为液态工质的汽化潜热，在忽略气体温度变化所引起热量变化的情况下，环境向微热管内部传递的最大热流量为 <img border="0" alt="" width="363" height="94" src="http://www.chvacuum.com/uploads/userup/0912/1G611249326.gif" /> 　　式中，λ 为微热管壁壳材料的导热系数， θ0 为工质的熔点，d 为微热管工作段外径。该部分热流量在时间t 内蒸发的工质 <img border="0" alt="" width="349" height="58" src="http://www.chvacuum.com/uploads/userup/0912/1G6113RL9.gif" /> 　　式中，γ 为工质汽化潜热。由于式(9)、(11)考虑的是两种极限情况，为额外充液量的两个极值。综合考虑，需要的额外充液量 <img border="0" alt="" width="430" height="43" src="http://www.chvacuum.com/uploads/userup/0912/1G611554403.gif" /> 　　在微热管制造过程中，额外充液量还和毛细吸液芯的性能、气体的扩散速度、集气段尺寸、工质物理性质等多种因素有关，需要在公式前乘以修正系数k ，见式(13)。该数值要比式(12)要小，具体取值有待今后进一步研究。 <img border="0" alt="" width="405" height="40" src="http://www.chvacuum.com/uploads/userup/0912/1G612145193.gif" /> <h3>1.4、两种制造技术对比分析</h3> 　　抽真空灌注技术需要高抽真空设备，如图4，一般包括低真空部分和高真空部分。低真空部分采用<a href="http://www.chvacuum.com/pumps/jixie/rotary-pump/">机械泵</a>作为预抽泵对微热管进行粗抽；高真空部分采用机械泵作前级泵的<a href="http://www.chvacuum.com/pumps/jixie/turbo-molecular-pump/">分子泵</a>或者<a href="http://www.chvacuum.com/pumps/steam/diffusion-pump/">扩散泵</a>进行精抽。为了加快抽真空速率，在其中预留主抽室和预抽室，该方法的真空度达到10–5～10–3 Pa。但由于高真空泵对液体的高度敏感性，在内部需要安装干燥器、冷阱等液体去除装置。由于设备有着较长的过度管道，灌注工质时会在其中存在该温度下饱和蒸气压的液体，在设备下一工作循环时吸入真空泵，严重影响着设备的性能，故设备运行一段时间后，需要充入干燥空气，以去除管道中残留的液体。 <img border="0" alt="微热管抽真空设备原理图" width="446" height="385" src="http://www.chvacuum.com/uploads/userup/0912/1G61244KM.gif" /> 图4 微热管抽真空设备原理图 　　灌注抽真空技术，一次除气对真空度要求较低，一般为制造环境温度下工质饱和蒸气压之上50～200 Pa。此时液体蒸发较少，故抽真空设备结构相对简单，仅需图4 低真空部分，对液体的敏感性小。 　　目前，高抽真空设备的价格一般为低抽真空备的10 倍，高真空计为低<a href="http://www.chvacuum.com/vacuum-measure/">真空计</a>价格的5 倍左右，且高真空设备的<a href="http://www.chvacuum.com/pumps/gas/cryogenic-vessel/">冷阱</a>工作时需要消耗大量的电能或干燥剂。故抽真空灌注设备的综合成本一般3 倍左右于灌注抽真空设备，而维护成本则2 倍左右于灌注抽真空设备。但是，由于集气段的存在，灌注抽真空设备的材料成本则相较抽真空灌注设备要增加5%～10%，且二次除气的存在，其生产工序比抽真空灌注有一定的延长，人力成本有所增加。为此，微热管制造工序的选择可以根据当时的能源和材料价格进行确定。 <h2>2、试验测试与分析</h2> <h3>2.1、微热管制造</h3> 　　利用灌注抽真空方式制造外径为6 mm 的沟槽式铜—水微热管，利用JSM-5910 扫描电子显微镜观察毛细吸液芯微沟槽截面，如图5 所示。图5 中，h 为齿槽深，b 为齿槽宽度，δ 为壁壳厚度，具体寸参数如表1 所示。壁壳材料为纯铜TP2，λ 为383.8W/(m·K)，工质为去离子水。制造时，环境温度控制在20 ℃。表2 为水在不同温度下的饱和蒸气压，表3 为制造参数。采用抽真空灌注方式，由表1 计算需要的工质灌注量为0.47 mL，其性能可以达到30 W 以上。 <img border="0" alt="微热管沟槽截面SEM 图" width="300" height="237" src="http://www.chvacuum.com/uploads/userup/0912/1G6132B5V.gif" /><img border="0" alt="" width="300" height="265" src="http://www.chvacuum.com/uploads/userup/0912/1G613409E6.gif" /> 图5 微热管沟槽截面SEM 图 ×90#p#副标题#e# 　　将上述各项参数代入式(1)～(13)，可得表4 结果。根据图4 低真空部分，采用德国TRIVAC 机械真空泵D8C 搭建一次除气系统；根据图3 原理搭建二次除气系统。通过p1 值控制一次除气时间，试验表明该时间比单纯利用式(6)理论计算的时间跨度要长，一般在0.5 s。这主要是由于气体的扩散速度小于真空泵的抽速所引起，为此有必要引入修正系数k 。制作的微热管集气段和成品如图6 所示。 <img border="0" alt="微热管集气段长度和额外灌注量" width="300" height="265" src="http://www.chvacuum.com/uploads/userup/0912/1G61415T61.gif" /><img border="0" alt="灌注抽真空法制作的热管" width="300" height="145" src="http://www.chvacuum.com/uploads/userup/0912/1G614312144.gif" /> 表4 微热管集气段长度和额外灌注量　　图6 灌注抽真空法制作的热管 <h3>2.2、微热管性能测试平台</h3> 　　如图7，测试系统主要由三部分组成：加热部分，在微热管蒸发段缠绕电阻丝加热的方法模拟芯片发热，该段长度为50 mm，通过调整TPR-12003D数字显示直流稳压电源参数来实现热流量变化，其大小利用WM-02 瓦特计测量；冷却部分利用THYD-0506 数控低温恒温槽产生低温恒温循环水实现微热管冷却，水温为23 ℃±0.05 ℃，该段长度为80 mm；温度测量部分利用OMEGA-K 型热电偶测量，安捷伦数据采集仪34970A 采集数据到个人PC，然后进行相应的处理。为了保证数据的稳定与准确性，每改变一个热流量，测试时间为3～5 min，直到数据稳定后才记录相关热流量。图7 中， θc 为冷凝段温度， θe 为蒸发段温度。 <img border="0" alt=" 微热管传热性能测试系统" width="415" height="317" src="http://www.chvacuum.com/uploads/userup/0912/1G6151E525.gif" /> 图7 微热管传热性能测试系统 <h3>2.3、微热管性能分析</h3> 　　通常情况下，根据微热管的等温特性和热阻来评判热管的传热功率是否在允许范围之内，CHRISTINE 等认为如果微热管蒸发段和冷凝段两段的温差超过5 ℃，则该微热管失效。SAUCIUC等认为如果系统的热阻超过传统空气强制对流的极限(0.15 ℃/W)时，则需要微热管进行热传导。采用灌注抽真空技术，图8 显示充液量为0.47 mL时微热管的性能。试验发现，输入热流量为5 W 时，微热管蒸发段和冷凝段之间的温差小于0.5 ℃。当输入热流量增加到10 W 时，微热管的加热段和冷凝段的温差迅速扩大到2 ℃以上，热阻超过0.2 ℃/W，且出现很大的波动，温差随着时间的推移不停的扩大，无法达到一个稳定的状态，热管失效。 <img border="0" alt="充液量0.47 mL 时灌注抽真空技术制造的微热管性能" width="300" height="205" src="http://www.chvacuum.com/uploads/userup/0912/1G615314016.gif" /><img border="0" alt="充液量为1 mL 时灌注抽真空技术制造的微热管性能" width="300" height="203" src="/uploads/userup/0912/1G61552V39.gif" /> 图8 充液量0.47 mL 时灌注抽真空技术制造的微热管性能　　图9 充液量为1 mL 时灌注抽真空技术制造的微热管性能 　　图9 为工质灌注量增加到1.0 mL 时的微热管性能，可以看出其最大热流量达到65 W。对比图8 和图9，可以看出，增加额外充液量0.53 mL 后，微热管的性能提高了12 倍。这主要是由于充液量为0.47 mL 时，采用灌注抽真空工艺，大量的工质被抽离，微热管工作时因工质不足而出现了干涸。 　　上述试验结果表明，采用灌注抽真空技术制作微热管时，需要考虑额外灌注量，此时制造的微热管与抽真空灌注技术性能相当，从而证实了采用灌注抽真空方式制作微热管的可行性。 <h2>3、结论</h2> 　　(1) 采用灌注抽真空技术制造微热管，需要预先在壁壳尾端预留集气段。为了防止工质完全被抽离，一次抽真空时的压强为该温度下工质饱和蒸气压之上50～200 Pa。在一次除气后引入二次除气，加热蒸发段，充分冷却冷凝段，经过一段时间，利用封口装置将集气段从微热管工作段去除。利用该方法制作的微热管性能可以满足微热管制造技术的需求。 　　(2) 灌注抽真空技术制造微热管使用的设备抽真空灌注技术相比，仅需要低真空部分，设备结构简单，制造速度快，然而原材料成本有一定程度的增加。 　　(3) 灌注抽真空技术制造微热管，工质相比抽真空灌注技术需要引入额外充液量，其数值的大小主要与真空泵抽速、制造环境温度、微热管尺寸、工质的物理性质等有关。 　　(4) 采用灌注抽真空技术，引入额外充液量制造的铜—水沟槽式微热管性能相比未引入额外充液量的提高了12倍。 真空基础陆龙生华南理工大学机械与汽车工程学院 2009-12-17 15:53 钨涂层面对等离子体材料出气性能的研究 http://www.chvacuum.com/engineering/121679.html 钨涂层在用作核聚变面对等离子体材料时，真空烘烤、放电清洗等壁处理手段仍是必要的。 　　<a href="http://baike.baidu.com/view/37912.htm">钨</a>由于高熔点、低溅射率等优点而被广泛的认为是最有希望的核聚变装置面对等离子体材料。然而考虑到等离子体约束和边界气体再循环，钨涂层面对等离子体材料在真空中的出气性能的研究是十分重要的。研究结果显示钨涂层主要出气种类为H2，H2O，O2，CO/N2和CO2。在300℃、经过4小时的烘烤，涂层出气率有明显的降低，特别是H2O 和CO/N2；继续烘烤对涂层出气率改善效果不显著，因此真空等离子体喷涂钨涂层在用作面对等离子体材料时，仍需要烘烤、放电清洗等壁处理手段。 　　等离子体喷涂技术虽然解决了钨铜两者由于膨胀系数和杨氏模量的巨大差异所引起的连接困难，但是等离子体喷涂钨涂层（PS-W）多孔性的特点使其作为核聚变面对等离子体材料（PFM）成为一个问题：气孔不仅降低了涂层间粒子的结合强度、影响整体部件的传热能力，而且使得核聚变燃料气体的滞留量以及再循环行为增大。因此钨涂层在承受高热负荷过程中的出气特性如何直接关系到该种材料的真空性能，所以钨涂层在高热负荷条件下的出气研究是非常重要的，但是国内外文献对钨涂层面对等离子体材料的真空性能的报道却很少，特别是针对纯钨涂层的研究。为了消除基体材料对出气性能的影响，作者把<a href="http://www.chvacuum.com/">真空</a>等离子体喷涂钨涂层从铜合金基材上剥离并对其进行了真空特性的研究。 <h2>1、实验设置</h2> 　　3 块钨涂层大小均为30×30×1 mm3，实验前对样品的处理分别是：第一块样品只进行超声波清洗；第二块样品超声波清洗后，在300℃温度下烘烤4h；最后的样品则首先超声波清洗，然后在300℃烘烤7h。 　　采用电子束热负荷实验平台对其进行出气分析。实验过程中温度变化通过热电偶测量，测量范围从室温到1000℃，出气种类和出气量通过<a href="http://www.chvacuum.com/vacuum-measure/mass-spectrum/11455.html">四极质谱仪</a>（QMS）检测。 <h2>2、钨涂层出气性能</h2> 　　图1 是抽真空后本底真空情况。从图中可以发现：本底主要气体成份为水蒸气（H2O），扣除本底气体即检测量减去本底量质谱图如图1（b）所示，H2O 出现了负值，这主要是由于质谱检测到的H2O 量远低于本底，所以出现了负值，其他气体含量基本达到可以忽略的水平，因此通过对本底真空的分析可以判断：通过扣除本底气体等方法可以消除实验装置对钨涂层真空性能所带来的影响。图2为真空等离子体喷涂钨涂层的真空出气性能。 <img style="WIDTH: 500px; HEIGHT: 193px" border="0" alt="实验装置本底真空情况" width="517" height="206" src="http://www.chvacuum.com/uploads/userup/0912/1423135DN7.gif" /> (a) 本底质谱曲线(b) 扣除本底后质谱曲线 图1 实验装置本底真空情况 <img style="WIDTH: 369px; HEIGHT: 292px" border="0" alt="" width="527" height="369" src="http://www.chvacuum.com/uploads/userup/0912/1423141111S.gif" /> (a)W 涂层原样质谱曲线，(b)300℃、烘烤4 h 后W 涂层质谱曲线，(c）300℃、烘烤7h 后W 涂层质谱曲线 图2 VPS-W 涂层真空出气性能 　　W 涂层样品主要出气气体为H2、H2O、O2、CO/N2、CO2，特别是H2。在整个升温区间（20~1000℃），H2 表现出最大的出气量，然后是H2O，由于真空制备环境和空气中氧含量较少，所以涂层对O2 和CO2 吸附量也较小，故整个解吸实验中表现出较小的出气率。从峰值出现的温度范围可以看出，H2 主要出气峰值在400~500℃，而CO/N2 的峰值在1000℃，其他气体的出气率随着温度的增加而增大，没明显峰值，这些结果与Hirohata 等人研究结果相一致。在300℃、经过4 h烘烤后，涂层出气率有明显的降低，特别是H2O 和CO/N2，然而，H2 在400~500℃仍然出现了较高的出气峰值。进一步分析发现，延长烘烤时间（7 h）水的出气率有所降低，但是对其他气体出气率的影响不是很明显，这可能与气体在涂层中的吸附机理有关。 <h2>3、钨涂层出气性能讨论</h2> 　　对于物理吸附（0.3eV 结合能），可以通过真空烘烤让其解吸，但对于化学吸附（3 eV 结合能）的原子或分子只有从外部入射粒子中得到较大能量时才能释放出来。由于入射粒子的解析机制是动量转换，入射电子或光子引起的解吸率要比入射粒子引起的解吸率低2~3 个数量级。一般而言，在等离子体放电过程中要周期性的进行壁处理，壁处理的方法有：烘烤，主要是去除装置内壁的水分；放电清洗（辉光放电、泰勒放电清洗与射频放电清洗），主要去除装置内壁的碳、氧等轻杂质；镀膜技术（硼膜、碳膜、锂膜、硅膜等），控制氧杂质和工作气体的再循环。同样，对于钨涂层面对等离子体材料，烘烤仍然是壁处理的第一步。通过前面的研究判断：在300℃，经过4 h 的烘烤能有效的去除涂层内的吸附气体。然而，针对碳氧以及氢气体，单纯的烘烤效果不是太明显，同时在放电过程中，不断有气体吸附到涂层表面，所以VPS-W 涂层周期性的进行放电清洗等处理手段也是必需的。虽然，从壁处理过程工艺考虑，钨涂层比石墨PFM没有表现出优越性，但是氢及其同位素或其他杂质在钨涂层材料中的滞留量很小，所以钨涂层面对等离子体材料壁处理工作（壁处理时间和工作量）相比石墨面对等离子体材料而言要简单很多。 <h2>4、结束语</h2> 　　面对等离子体材料的真空性能直接关系到核聚变等离子体约束和边缘等离子体气体再循环。钨涂层出气种类主要有H2、H2O、CO/N2、O2 和CO2。在300℃、经过4h烘烤后涂层出气率有显著降低，特别是H2O 和CO/N2，然而H2 在400- 500℃仍然有较高的出气峰，且继续烘烤效果不明显。钨涂层在用作核聚变面对等离子体材料时，真空烘烤、放电清洗等壁处理手段仍是必要的。 真空基础种法力徐州工程学院数理学院 2009-12-14 22:51 新型ZnO纳米棒/聚合物混合型太阳电池 http://www.chvacuum.com/engineering/121703.html 作为一种新型太阳电池结构，目前无机/有机混合型太阳电池相关理论机理和制备技术有待逐步发展和成熟，能量转换效率和稳定性同已经发展了半个多世纪的晶体硅太阳电池相比仍还具有一定差距，但是有机/无机太阳电池自身潜在的优异性以及随着各种提高效率的新材料、新结构的 　　有机/无机混合型太阳电池是一种综合利用了有机材料和无机材料各自优点的新型太阳电池。本文在介绍有机太阳电池工作原理及研究进展的基础上，综述了ZnO 纳米棒/聚合物混合型太阳电池的制备方法，详细讨论了ZnO电极处理、溶剂的选择、退火、有机功能材料的选择等因素对器件性能的优化机制，并就提高器件性能的途径提出作者的见解。 <h2>1. 引言</h2> 　　有机太阳电池是继硅基太阳电池和化合物半导体薄膜太阳电池之后的一种新型的太阳电池。有机太阳电池质量轻、制备工艺简单、价格低廉、污染小，并且可以实现全固态、卷对卷的大面积柔性器件制备，目前在国际上兴起了广泛的研究，各种新材料、新器件结构不断提出，效率也在不断提高，其中PCBM:P3HT 体异质结结构的太阳电池效率已接近5%。 　　有机/无机混合型太阳电池是Green 等人提出的第三代太阳电池中的一种，它综合了有机材料和无机材料两者的优点：有机材料具有很高的光吸收系数，无机材料则是很好的载流子传输层；在无机材料中引入有机材料进行敏化，可以增强弱吸收材料的光吸收或者是形成中间带隙实现多光子吸收。 　　本文叙述了有机太阳电池的基本原理及研究进展，在此基础上介绍ZnO纳米棒/聚合物混合型太阳电池的制备方法，详细地对提高器件性能的工艺、条件进行了讨论。 <h2>2. 有机太阳电池基本原理</h2> 　　太阳电池从基本原理上可以分为两大类：半导体<a href="http://phylab.fudan.edu.cn/doku.php?id=exp:common:pnj">p-n结</a>太阳电池和激子太阳电池。在p-n 结太阳电池中，光激发将会产生自由电子和空穴，两者在p-n 结区内建电场的加速下向两极输运，p-n 结之间的光电压即为p、n 极之间准费米能级差。硅系列太阳电池以及化合物半导体太阳电池属于这一类型。 　　激子太阳电池中，光激发产生瞬间的局域激发态，或称激子——一般为较高的激子束缚能的Frenkel 激子，难以在热波动下（～kT）分离为自由电子和空穴。激子可以视为由导带底（在有机分子或者纳米团簇中为最低未占有分子轨道（LUMO）能级）的电子和价带顶（在有机分子或者纳米团簇中为最高占有分子轨道（HOMO）能级）的空穴组成的中性粒子。当半导体（分子，晶体或者纳米团簇）和其他导带底（或者LUMO）能级更低的材料键合在一起，激子将会在界面上分离成为自由电子和空穴，这就是激子类太阳电池的基本原理。有机太阳电池、染料敏化太阳电池以及量子点太阳电池便属于这一类太阳电池。 <img alt="" src="/uploads/allimg/091224/0105050.jpg" /> 图1 有机太阳电池能带结构和光吸收过程 Φ:功函数，χ: 电子亲和势，IP: 离化能，Eg: 禁带宽度 　　有机太阳电池的典型结构是将有机材料夹在两个电极之间，形成“三明治”结构的平面异质结（planar heterojunction），其工作原理和有机发光器件（OLEDs）的相反。在OLEDs 中，电子从低功函数电极（阴极）注入器件后，与从高功函数电极注入的空穴相遇而复合发光，同时实现电平衡。而在太阳电池中，光照条件下有机材料的分子被激发，电子从HOMO 能级跃迁到LUMO 能级而形成激子，激子扩散到界面分离成电子和空穴后分别向两个电极输运，最终实现光伏转换（图1）。界面由于费米能级差异而产生界面势垒，有机材料中激子的分离都是发生在界面上，如有机材料和电极的界面、不同有机材料的界面、以及材料中的缺陷、杂质等界面。 　　施主（donor）和受主（acceptor）材料先后生长形成单一界面的平面异质结太阳电池，由于激子大多是在远离界面（大于Lex，如P3HT的Lex大约为10 nm）的地方产生，扩散过程中复合几率大，光电转换效率比较低。把施主和受主材料混合形成“体异质结”（BHJ: bulk-heterojunction）的结构大大改善了这一缺点。首先，BHJ结构中，激子到界面进行分离所需扩散的距离减小；其次，BHJ结构还增加了施主/受主的接触界面。高效的有机太阳电池既需要大面积的界面实现光激发以及激子的分离，还需要载流子向电极高效率传输的良好路径，BHJ结构的优点就是在这两者之间找到了一个平衡点。BHJ结构的一个严重缺点就是两种有机材料混合之后，随着时间的推移，由于分子运动而容易发生相分离（phase segregation）导致器件失效。 　　混合型太阳电池是综合了有机材料和无机材料的优点以获得高性能的新结构。TiO2和ZnO是目前研究得比较广泛的无机材料，两者禁带宽度基本相同（3.20 eV），但ZnO相对于TiO2而言电导率较高，生长条件也简单，容易生长成纳米棒阵列结构或者纳米颗粒薄膜。P3HT是一种p型有机半导体材料，目前被广泛用于有机太阳电池中。 <h2>3. ZnO纳米棒/聚合物太阳电池制备</h2> 　　常见的ZnO 纳米棒/聚合物电池的结构如图2 所示。相比于ZnO 纳米晶粒薄膜，ZnO 纳米棒阵列有几个显著的优点有望使器件效率得到提高：首先，阵列结构有利于聚合物的填充，同时增加了激子分离所需的界面；其次，阵列结构能够为分离后的电子提供一个直接而快速的通道，避免了电子与空穴的复合；此外，聚合物在无机材料有序孔洞中的整齐排列可以提高其载流子迁移率以及有效避免聚合物的团聚。 <img alt="" src="/uploads/allimg/091224/0105051.jpg" /> 图2 混合型太阳电池结构示意图（ITO/ZnO(rods)/P3HT/Au） 　　ZnO纳米棒阵列可通过水热法生长。直接在基板上水热生长ZnO 得到的将是纳米花的结构（图3），为了得到规则整齐的纳米棒阵列，首先在ITO 或者FTO 基底上用乙二醇甲醚溶解的二水合醋酸锌（Zn(CH3COO)2·2H2O）和乙醇胺凝胶旋涂一层数十纳米的“种子层”，“种子层”的厚度可由旋涂的次数以及凝胶的浓度来控制，粒径的大小则主要由热处理的温度和时间决定：热处理温度越高，时间越长，晶粒尺寸越大。纳米棒阵列的生长在以一定量配比的Zn(NO3)2、HMTA 和PEI 溶液中进行，反应需在95 ℃水浴中进行数小时。PEI 是一种阳离子的高分子电解质，可以阻止ZnO 的横向生长，提高阵列的取向性以及纳米棒的长度。 　　P3HT等聚合物通过四氢呋喃、氯仿、氯苯、二甲苯等溶剂溶解后旋涂于半导体电极上，浓度一般为10~30mg/ml。P3HT的玻璃化温度Tg为50 ℃，平衡熔化温度Tm为175 ℃，也有研究发现200 ℃退火之后可提高P3HT的结晶性能和在纳米棒阵列中的填充率。为了获得良好的薄膜质量，上述步骤都应在手套箱中完成。#p#分页标题#e# 　　顶电极一般使用真空蒸发的方法蒸镀厚度约为100 nm的Au或Ag电极。为了降低器件内阻和修饰界面，可在聚合物和金属电极间蒸镀一层数纳米的LiF。最后对整个器件再进行120 ℃热处理。 <h2>4. 影响器件性能的因素</h2> 　　无机/聚合物电池的工作涉及多个界面，每个界面对器件的性能都有重要影响，选择合适的材料、结构和工艺对器件性能改善有重大意义。 <h3>4.1 ZnO电极处理</h3> 　　不同的处理方法对ZnO电极的电导率、界面性质有不同的影响。D. C. Olson等研究了热处理（大气中150 ℃加热，N2保护气氛下冷却）和紫外-臭氧处理各20 min两种方法对ZnO纳米颗粒/聚合物以及ZnO纳米棒/聚合物两种结构的器件性能的影响。结果表明，臭氧处理后的ZnO表面与水的接触角几乎为零，表明ZnO表面的有机沾污已被有效清除。对比阵列结构和薄膜结构器件的性能：在同样处理条件下，阵列结构器件要比纳米颗粒薄膜的双层器件效率高。而且，同样的器件结构，热处理更有助于器件性能的提高——器件经热处理后的开路电压比经紫外-臭氧处理的高230 mV，究其最终原因是两种处理方法对ZnO功函数有不同影响。开尔文探针测试表明，经过紫外-臭氧处理之后，ZnO的功函数增大。理论上施主受主体系电池中开路电压theooc V 主要由受主的LUMO能级和施主的HOMO能级差决定： 　　qVoc the = (LUMO)A -(HOMO)D 　　考虑到各个界面能带弯曲的影响，引入ΔVb进行修正：q(Voc theo +ΔVb) = (LUMO)A - (HOMO)D在ZnO/聚合物体系中，(LUMO)A即为ZnO的导带底Ec，因此其他条件不变的情况下，ZnO功函数的增大将导致Voc theo降低。 　　增大ZnO电极和有机材料之间的能级差故而也是提高开路电压的方法。D. C. Olson等研究发现，用一定比例的Mg元素替代ZnO中的Zn之后，形成的Zn1–xMgxO结构能够有效调节能带宽度、降低电子亲和势，进而增大电极和有机材料之间的能级差以增加开路电压。同时研究还发现，掺入Mg之后激子复合的位置将会发生改变，通过控制Mg的含量可把激子复合控制在界面上，这将大大提高量子效率。 　　ZnO和TiO2虽然能带结构相似，但是两者的表面物理、化学性质相差很大，TiO2界面更容易与大分子染料或者聚合物相结合形成良好的接触界面。在ZnO阵列表面生长一层很薄的TiO2既可以利用ZnO的高电子迁移率，也可以利用TiO2优良的表面性质改善器件性能。Lori E. Greene等在水热法生长的ZnO阵列上用ALD的方法长了厚度为4~10 nm的TiO2薄膜，器件的开路电压和填充因子都得到了提高。但是该器件效率还是比较低，主要原因是ZnO阵列密度太高，再在其上生长TiO2之后，阵列间隙更小，不利于聚合物的填充，导致了有机/无机界面面积降低，这是一对矛盾：一方面，聚合物中激子寿命短，扩散长度也短，因此阵列间隙过宽将导致聚合物中产生的激子在扩散到界面之前就被复合；但如若阵列密度过高，将又会出现填充率过低的问题。 <h3>4.2 溶剂的选择</h3> 　　P3HT等聚合物常用四氢呋喃、氯仿、氯苯、二甲苯等溶剂溶解后进行旋涂。各种溶剂对器件性能的影响已有大量的研究，聚合物薄膜的表面形貌和界面特性对其光电特性有重要的影响，通过选择合适的溶剂可以控制聚合物链的凝聚状态，进而控制薄膜的电学和光学特性；此外，聚合物的凝聚状态还可通过调整旋涂的参数进行调节，如调整旋涂溶液浓度或旋涂的转速等。 　　从材料热力学的角度分析，在恒温、恒压下，聚合物和溶剂相互混合过程能够自发进行的必要条件是体系的Gibbs自由能Gm降低，也即： 　　 ΔGm = ΔHm-TΔSm< 0 　　其中，ΔHm为体系的焓变；T是溶解时的热力学温度；ΔSm为体系的混合熵。一般而言， ΔSm>0，ΔGm的正负就取决于ΔHm的正负和大小。而ΔHm主要由A，B两组元材料混合时候的内能变化ΔEm来决定： <img alt="" src="/uploads/allimg/091224/0105052.jpg" /> 　　其中，εA-A，εB-B，εA-B分别为A-A，B-B，A-B分子之间的相互作用能。一般地，ΔHm和ΔEm的数值在两组元材料结构相似（如烷烃/烷烃体系）的时候很小，而当两组元材料结构差异比较大时（如芳香族/烷烃体系）也较大。 　　因此，溶剂的选择须考虑聚合物的结构，例如，带有苯环的聚合物一般选择芳香族溶剂。 　　PPHT分子结构中含有一个苯环和一个五元环，比较使用不同溶剂制备的PPHT：ZnO纳米颗粒结构的电池效率，发现芳香族溶剂确实有利于器件性能的提高，因为芳香族溶剂更容易让苯环骨架溶剂化，从而形成长链，分子轨道重叠亦随之增大，有利于载流子的链间和链内输运。通过荧光光谱也可看出，使用芳香族溶剂制备的PPHT薄膜荧光猝灭更强——激子能够有效的分离而不是复合后发出荧光。 　　薄膜的粗糙程度对溶剂的饱和蒸汽压有很强的依赖关系。聚合物薄膜的形成需要一定的时间使溶液对基底表面进行浸润和平坦化，如果溶剂挥发过快，在溶液充分浸润之前溶剂就可能已经挥发完，这将导致薄膜表面粗糙；此外，易挥发溶剂的不均匀流动，还将导致薄膜的厚度不均一。因此控制溶剂的挥发速率来控制薄膜的形貌，提高薄膜质量，改善薄膜性能以提高器件性能也是一个重要途径。 <h3>4.3 退火工艺的影响</h3> 　　退火对材料、器件的性能改善有很大作用，4.1中已经提到退火对ZnO表面性质的影响，实际上退火对聚合物的影响更为明显。首先，退火能够改善聚合物的填充以及结晶晶态，形成良好的载流子输运网络；此外，退火能降低界面接触电阻——退火后聚合物的链排列整齐，有利于电子或者空穴的传输；退火对聚合物薄膜的吸收光谱也有影响。荧光光谱结果表明，退火对无机物的吸收影响不大，其峰位也没有发生变化，但是聚合物在退火之后其吸收性能明显增强，并且出现了吸收谱的红移。由聚合物晶体生长理论可知，随着温度的升高，聚合物的晶粒将会变大，从而导致了红移现象的产生。 <h3>4.4 多元材料的选择</h3> 　　为了充分利用太阳光能量，高效率的光伏器件光吸收层的吸收光谱应与太阳光谱有最大的重叠。同时，还需保证光激发产生的电子空穴对能实现高效的分离和输运。ZnO和P3HT的禁带宽度分别为3.2 eV和2.0 eV，两者组合后仍然有很多波段的光能不能够被吸收。如果将不同能带宽度的施主-受主染料对引入宽带隙无机半导体材料，则可以构成多带隙电池，实现多光子吸收，增加光谱响应。#p#分页标题#e# <img alt="" src="/uploads/allimg/091224/0105053.jpg" /> 图3 ITO/TiO2/CuPc/P3HT/Au器件结构（a）和能带结构示意图（b） 　　CuPc是一种有机小分子，禁带宽度为1.6 eV，并且光吸收系数高，吸收谱也较宽，可以作为太阳电池中吸收层的辅助材料（图3）。CuPc可通过真空蒸镀，厚度为20 nm。从能带结构中可以看出，CuPc吸收光能后产生的电子可以输运到TiO2电极上，同时空穴可以注入到P3HT的LUMO能级，而P3HT中产生的电子可以注入CuPc的LUMO能级或者直接注入半导体电极的导带，在这一结构中，P3HT和CuPc的协同作用提高了光吸收效率。 　　P. Ravirajan 等[21]制备研究了ITO/ZnO/Z907:P3HT/PEDOT:PSS/Au 结构的全固态有机太阳电池（图4）。Z907是一种两性材料，充当桥梁作用改善了P3HT 和ZnO 的界面特性：其一端的两个羧基具有亲水性，容易吸附在ZnO表面；另一端的疏水基团容易与P3HT 相结合。结果表明Z907 处理之后的ZnO 纳米棒阵列界面复合率大大降低。Z907的引入形成了多带隙结构增加了光谱响应，同时从能带相对位置可见，Z907 能向半导体电极注入电子以及接纳P3HT注入的电子，同时还能阻挡P3HT 中的空穴向半导体电极输运，起到了空穴阻挡层的作用，提高了器件的效率。 <img alt="" src="/uploads/allimg/091224/0105054.jpg" /> 图4 Z907 分子结构图（a）及ITO/ZnO/Z907:P3HT/PEDOT:PSS/Au 器件能带结构图（b） 　　PDI材料在P3HT：ZnO纳米颗粒薄膜混合体异质结结构中也有研究报道，其作用原理和Z907类似。荧光光谱出现了明显的猝灭，表明PDI的加入能够提高激子的分离效率，同时从吸收谱中可知，吸收谱线的宽度和强度都有所增大。 　　有机太阳电池的效率受到光吸收材料的光谱响应，以及光生载流子的产生和输运两个因素的制约。要制备高效率器件必须优化器件结构和材料选择、改善工艺条件，减弱上述两个因素的制约。 （1）增强光谱响应 　　常用的无机半导体ZnO和TiO2能带比较宽，只能吸收较短波段的光谱，其余光谱的能量须通过添加的有机层来吸收。因此，制备高吸收系数、窄能带的有机半导体是提高器件光谱响应的主要措施。采用能带结构匹配的多组分材料形成多带隙结构来提高太阳光的利用率是行之有效的途径。同时各种处理工艺也应进行优化以提高薄膜的光学、电学特性。 （2）增强激子的分离和输运 　　激子分离大部分发生在材料界面上，采用纳米棒阵列和体异质结结构都能增大界面面积以便激子的分离。同时，多组分材料的选择时要注意能级的匹配，以提供激子分离的内在驱动力。有机半导体中激子扩散长度短、迁移率低，因此有机薄膜不宜太厚，否则将会增大内阻，不利于载流子输运。此外，半导体电极和有机薄膜的形貌、导电性、杂质、缺陷率等需严格控制以减少载流子的复合。低缺陷率、高迁移率的无机半导体电极和有机半导体材料将极大改善载流子输运效率。改进器件结构也可在一定程度上增加材料的载流子迁移率。 <h2>5.总结</h2> 　　有机薄膜具有质量轻、光吸收系数高、禁带宽度容易调节、可制备柔性器件、成本低廉和环境污染小等诸多优点，在光电器件中的运用日益广泛。作为一种新型太阳电池结构，目前无机/有机混合型太阳电池相关理论机理和制备技术有待逐步发展和成熟，能量转换效率和稳定性同已经发展了半个多世纪的晶体硅太阳电池相比仍还具有一定差距，但是有机/无机太阳电池自身潜在的优异性以及随着各种提高效率的新材料、新结构的研究不断取得新进展，其应用前景将是非常广阔的。 真空基础陈冠雨复旦大学材料科学系 2009-12-24 00:54 抑制行波管多级降压收集极二次电子发射的工艺研究 http://www.chvacuum.com/engineering/121701.html 利用自行设计的专用离子束表面改性设备,进行了降低收集极二次电子发射系数的工艺研究。 　　利用自行设计制造的一台抑制行波管多级降压收集极(MDC) 二次电子发射的专用设备,分别对无氧铜片样品与无氧铜MDC 进行了离子束表面改性的工艺研究。结果表明,表面改性后无氧铜表面二次电子发射系数可以得到大幅度的降低,有效提高空间行波管MDC 的效率及整管效率。 　　行波管广泛用于雷达、电子战、卫星通信和精确制导等武器装备。近年来,对于行波管需求量增加,同时提出了更高要求,其中包括更高的整管效率。更高的整管效率不仅意味着降低行波管的功耗、减小电源的重量和体积,而且意味着提供改善器件可靠性和寿命的空间。这对于机载和空间行波管来说尤为重要,因为这类装备的行波管不可避免的受到功耗和重量的限制。据报道,星载行波管整管效率提高一个百分点,经济效益高达三千万美元。国外报导的空间行波管最高效率已达到70%以上,国内空间行波管放大器的研制水平与国外有很大差距,目前我国Ka 及更高的毫米波段新型卫星通信系统的研究刚刚起步,发展空间行波管势在必行。 　　国内多从多级降压收集极(MDC) 的电、热结构出发进行仿真设计,改进结构确实能挖掘出效率提高的潜力。但由于入口条件等的限制,还不能十分准确的模拟出真实情况。降低收集极材料的二次电子发射,与仿真计算相结合,也能起到相辅相成的效果。实际上,离开互作用区的电子能量存在一定方式的分布,不同于阶梯分布,并不可能都被MDC 有效收集。另外,MDC 的作用始终受限于收集极材料的二次电子发射。常用的收集极材料为导热率和导电率优异的无氧铜,但无氧铜的二次电子发射系数高达1.3 ,而且在极宽的一次电子能量范围内都呈现出较高的二次电子发射系数。而收集极必须加上足够高的电压,以防电子回流进入互作用区。所以,一次电子到达收集极时不可避免地产生大量二次电子,以及一定量的弹性散射的一次电子。这些带能电子出现在各级收集极附近,它们再次打到收集极上时则造成可观的能量损耗,从而降低行波管收集极的效率,同时使管体温度上升,进一步降低行波管的效率;大量低能二次电子的存在,还可能造成回流,增加热耗散功率并形成噪声。所以,抑制二次电子发射至关重要。根据国外报道,采用石墨或碳涂层的无氧铜四级降压收集极的整管效率可提高4.6 % ,而经过表面改性处理的四级降压收集极的整管效率可提高4.9%。由此看出抑制二次电子发射的重要性。 　　二次电子的发射系数δ一方面取决于材料的性质,另一方面与材料表面的形貌密切相关。当一次电子打到毛刺侧面或底部时,产生的二次电子大部分被附近的毛刺所截获,从而降低多级降压收集极的δ。由于无氧铜在金属材料中具有优异的导热率、导电率以及可加工和焊接性能,常被用做理想的收集极材料,不足的是它的二次电子发射系数较高。降低或抑制其二次电子发射的一个方法是从无氧铜的表面形貌改性入手,从而避免在无氧铜上涂覆异质材料(如石墨等) 。本文利用自行设计的离子束表面改性设备,对无氧铜样品及无氧铜MDC 样品进行了工艺试验,得到了初步实验结果。 <h2>1、实验设备</h2> 　　根据对国外离子束轰击表面改性相关文献的调研,再结合已有的试验装置进行实验,首先进行了无氧铜MDC 离子束轰击表面改性设备的总体方案设计,然后通过工艺试验调整和优化离子源、钼靶和样品之间的距离,同时进行样品台、加热器、钼靶及模具的计算与设计,在国内首次研制出无氧铜MDC离子束表面改性的专用设备,如图1所示。 <img border="0" alt="离子束表面改性专用设备外型图" width="332" height="286" src="/uploads/userup/0912/23000013R22.gif" /> 图1 　离子束表面改性专用设备外型图 <h2>2、实验结果与讨论</h2> 　　为了二次电子发射系数测试与优化工艺参数的方便,在实验中首先采用1 cm2 的无氧铜片作为测试样品,然后在MDC上进行试验。下面分别介绍无氧铜样片与MDC 的试验结果。 <h3>2.1、无氧铜样片</h3> 2.1.1、表面SEM 形貌 　　图2 展示了无氧铜样品表面的扫描电子显微镜照片,它显示的是一个没有处理过的高导无氧铜表面1000 倍的照片,放大后的照片说明表面并不十分光滑,是研究中包含的其他样品基底未做离子处理前的模样。图3 显示了离子表面改性后织构的形貌,毛刺的高度在3～15μm 范围内,密度大于等于5 ×107 / cm2 。图4 显示了低温150 ℃时,正常工艺参数下收集极表面几乎未能形成毛刺。因此,样品温度在毛刺的形成过程中起到重要的作用,过低的样品温度不能形成所需要的毛刺织构。 <img border="0" alt="未处理过的无氧铜" width="200" height="155" src="/uploads/userup/0912/2300003110W.gif" /><img border="0" alt="表面改性过的无氧铜" width="200" height="167" src="/uploads/userup/0912/2300004K005.gif" /><img border="0" alt="低温样品表面形态" width="200" height="163" src="/uploads/userup/0912/230001052R0.gif" /> 图2 　未处理过的无氧铜　　图3 　表面改性过的无氧铜　　图4 　低温样品表面形态#p#副标题#e# 2.1.2、二次电子发射系数δ 　　表征次级电子发射现象通常利用次级发射系数δ。δ是离开物体表面的次级电子数与同一时间内落到同一表面上的原初电子数的比,即δ= ns/np=is/ip ,式中ns,np分别为次级和原初电子数; is,ip分别为次级和原初电子流。图5 曲线1 是无氧铜样片,δm 为1135 ;曲线2 是标准工艺下得到的δm 为0.65 。使用标准工艺参数,得到的δm 相差很小。如果离子流密度不够高或者工艺处理时间不够长,即单位面积的离子轰击数量不够,那么得到的δ会变大。 <img border="0" alt="δ测试曲线图" width="300" height="203" src="/uploads/userup/0912/23000124K18.gif" /><img border="0" alt="400 倍带有车刀台阶的收集极" width="300" height="229" src="/uploads/userup/0912/23000140WJ.gif" /> 图5 　δ测试曲线图　　图6 　400 倍带有车刀台阶的收集极 <h3>2.2、实际MDC样品</h3> 2.2.1、表面SEM形貌 　　从图6 能看出向右上方倾斜的明暗相间的有规律条纹是带有车刀痕迹的照片。实际收集极由于加工工艺,放大观察表面会发现每隔几十微米会出现车刀的刀痕,形成台阶。在图7 中,明显看到台阶下面的毛刺较尖,而与台阶垂直的面上几乎没有生尖锥。因此希望收集极表面的粗糙度要小,非常平滑。图8 是无氧铜样品的表面特征。离子轰击表面1h,束压约1200V , 束流30mA , 样品底部温度400℃。这种表面的致密阵列,毛刺顶部不尖,中心似乎呈空心状,特征高度高于5 μm ,间隔很小。处理后MDC 样品看起来比未处理的OFHC 铜表面暗得多,如图9 所示,左下方零件为表面处理前的无氧铜收集极,可以清晰看到无氧铜的颜色。右下方零件为表面改性处理过的收集极样品,目视为黑色,其微观形态为图8 所示。 <img border="0" alt="2000 倍带有车刀台阶的收集极" width="300" height="230" src="/uploads/userup/0912/230001591130.gif" /><img border="0" alt="表面改性后的收集极" width="300" height="240" src="/uploads/userup/0912/230002151S4.gif" /> 图7 　2000 倍带有车刀台阶的收集极　　图8 　表面改性后的收集极 <img border="0" alt="收集极改性前后的照片" width="300" height="231" src="/uploads/userup/0912/230002361451.gif" /><img border="0" alt="收集极样品的δ测试曲线" width="300" height="183" src="/uploads/userup/0912/230002513414.gif" /> 图9 　收集极改性前后的照片　　图10 　收集极样品的δ测试曲线 2.2.2、二次电子发射系数δ 　　图10 是对实际的收集极样品进行测试的曲线。实际的收集极结构是三个收集极,C1 的δm 是0.76 ,C2 的δm 是0.66 ,C3 的δm 是1 。不同的收集极结构上有差异,导致二次电子发射系数不同。可以看出,它们中最高δ的C3 ,与无氧铜样品的δm =1.3 相比仍小0.3 ,充分说明表面改性对于减小δ有良好的效果。 2.2.3、收集极效率 　　无氧铜MDC 离子束表面改性技术的成功实施,明显提高了MDC 的效率和空间行波管的整管效率。空间行波管某课题表面改性后样管,与改性前相同结构的效率最高的样管比较,整管效率至少提高3.2%。 <h2>3、结论</h2> 　　利用自行设计的专用离子束表面改性设备,进行了降低收集极二次电子发射系数的工艺研究,从未处理的无氧铜片的δm 为1.35 降到MDC 上δm 为0.66 。与MDC 改性前相同结构的最高效率的管子相比,收集极效率和整管效率均得到明显提高。 　　致谢:本文得到了国家科技支撑计划空间行波管课题的资助,北京真空电子技术研究所阴极室进行了二次电子发射系数的测试。 真空基础白国栋北京真空电子技术研究所大功率微波电真空器件技术国防 2009-12-22 23:48 阴极平板二极管测试状态分析 http://www.chvacuum.com/engineering/121707.html 在阴极测试工作中,常常选择水冷阳极的近距二极管结构进行测试,但是在实际测试过程中有较多的测试结果与理论推导是有出入的。 　　在阴极测试工作中,常常选择水冷阳极的近距二极管结构进行测试,但是在实际测试过程中有较多的测试结果与理论推导是有出入的。尤其是导流系数的在空间电荷区的变化,本文就可能的原因进行讨论和分析,并通过一些计算模拟对测试结果进行解释。 　　阴极作为大功率真空器件的核心,为满足各类器件的要求而不断更新发展,从最早的纯金属阴极到目前广泛应用的各类扩散阴极。为评估性能,阴极必须安装在一定的测试载体中,目前广泛采用的测试载体通常有两种,一种是专用电子枪,需要较复杂的测试系统,测试成本较高,实施起来有一定难度;另一种常用的测试载体即常说的水冷阳极二级管,结构简单,测试系统容易搭建,较容易实现;但是因为其结构的不一致性等问题,多数人对这种测试结果持保留态度。由于水冷阳极二级管结构简单,测试容易,在实际研究工作依然得到了广泛应用。二极管的伏安特性是评估阴极性能常用方法,通过二极管的伏安特性曲线可以给出阴极的最大发射电流密度。但是在绘制伏安特性曲线时发现,空间电荷区斜率小于理论计算值1.5 ,即不符合二分之三次方定律。下面就这个问题进行分析和讨论。 <h2>1、二极管结构及测试系统</h2> <h3>1.1、二极管结构</h3> 　　测试二极管采用的水冷阳极结构,如图1 所示。外壳为玻璃结构,阳极为无氧铜,可以承受较大的功率, 最大可至200W;发射体为平面,阴极与阳极面组成平板二极管结构。 <img border="0" alt="标准水冷阳极二极管" width="300" height="263" src="/uploads/userup/0912/25191412MN.gif" /><img border="0" alt="二极管测试原理图" width="300" height="247" src="/uploads/userup/0912/251914261I8.gif" /> 图1 　标准水冷阳极二极管　　图2 　二极管测试原理图 <h3>1.2、测试系统</h3> 　　测试系统由三部分组成:测试二极管,测试电源,电压电流及温度采样。测试电源分为两种,一是直流电源,产生直流高压,支取的电流也是直流。另一种电源为脉冲式,产生脉冲高压,支取脉冲电流。电流电压采样在直流测试时使用一般电表就可以完成。在脉冲测试时采用可以读数或测量的示波器采集数据,温度一般采用亮度高温计测量。图2 为二极管测试原理图。 <h3>1.3、典型的测试结果</h3> 　　图3为实际测试所得的典型的阴极伏安特性曲线,该阴极为覆锇(Os) 膜的铝酸盐阴极,阴极直径为3mm ,阴极工作温度(亮度温度) 为1050 ℃,采用脉冲方式测试,脉冲宽度为5μs ,重复频率500 Hz 。通过观察其伏安特性曲线可以发现,其拐点电流密度为29.33 A/cm2 ,可以说其发射能力相当可观,但是其在空间电荷区的斜率仅为1.34 ,也是说在空间电荷区内,其导流系数一直在变化,即逐渐变小。到底是什么原因造成导流系数一直在变小呢? <img border="0" alt="典型的二极管伏安特性曲线" width="300" height="209" src="/uploads/userup/0912/25191444E55.gif" /><img border="0" alt="不同极间距的电场计算模拟" width="300" height="152" src="/uploads/userup/0912/251915013V6.gif" /> 图3 　典型的二极管伏安特性曲线　　图4 　不同极间距的电场计算模拟 <h2>2、可能的原因分析</h2> <h3>2.1、极间距的影响</h3> 　　首先水冷阳极近距二极管为玻璃结构,装架过程采用人工控制,其距离和平行与否都是通过人眼观察,这就造成极间距,及阴阳极的平行度等都存在较大的变数。多数文献在介绍平板二极管结构时都指出,当阴、阳极间距与阴极直径之比小于011 时,极间电场分布可以近似为理想的无限大平板二极管。我们目前的实验阴极直径为标准的3 mm ,为满足理想的平板二极管的要求,阴、阳极间距应小于0.3mm ;但在实际工作中,由于在装配时完全凭经验来保证阴极热膨胀后的极间距离,即使水冷阳极的支撑结构件采用了标准尺寸,但极间距离的大小仍是变数。大部分情况下,阴、阳极间距是大于0.3mm的。 　　本文通过CAD进行的一系列的电场、电子轨迹模拟计算,计算分为加阴极护环与不加阴极护环两种,其电位分布及电力线分布如图4 所示,说明一定范围下极间距离变化对电场分布的影响不是很大,而且加不加阴极护环在满足阴极发射性能比对上是基本不受影响的。纯粹从极间距上考虑,极间距的不一致并不能影响空间电荷区的斜率,也不能影响拐点电流密度,但是极间距过大,使得必须加更高的电压才能测试到拐点,使阳极耗散功率过大,使阳极放气,甚至烧毁阳极。 <h3>2.2、极间平行度的影响</h3> 　　进行二极管测试装架,因为应用的平板二极管结构,极间平行度是必须考虑的问题。但是在实际工作中绝对平行是不可能达到的,因此就应考虑不能达到绝对平行,对测试结果的影响。极间不平行,造成极间各点的距离不一致,使得极间电场不一致。根据二分之三定律,阳极上接受到的电流与极间距有关,但是通过叠加计算,即对极间距进行细分,计算每一个极间距上阳极收集到的电流;为了使计算简单,把极间距分为10 个部分,每部分极间距相等,计算各部分阳极电流,得出阳极总电流。根据计算结果发现:在空间电荷区,任何平行度都不影响测试斜率,即无论是否平行测试斜率都是1.5 ,但是会影响空间电荷区与温度限制区的过渡,如使过渡区变长。 <img border="0" alt="" width="551" height="130" src="http://www.chvacuum.com/uploads/userup/0912/251921493Z3.gif" /> 　　式(2) 中, ( a X + b) 表示极间距,是X 的函数; x1 , x2是阳极接受区的宽度;L 是阳极接受区的长度,d x ×L 即收集微区的面积, 面积归一化处理后, L = 1 。式(2) 变为: <img border="0" alt="" width="508" height="59" src="http://www.chvacuum.com/uploads/userup/0912/251921591626.gif" /> 　　可以看出,在空间电荷区,斜率依然为3/2 ,与平行度无关。 <h3>2.3、热胀冷缩效应</h3> 　　在二极管测试过程中,尤其是在连续波测试大电流密度时,电子冷却效应就不能忽略。电子冷却效应造成热胀冷缩结果,在测试过程中,阴极与阳极之间的距离发生变化,造成导流系数变化,从而使空间电荷区的斜率下降。其模拟计算结果见图5 。但是这个结果可以解释为什么连续波(直流) 测试时斜率更低,因为在连续波测试时,支取的电流越大,其电子冷却效应就越明显,即阴极温度越低,这就造成极间距变大,从而造成导流系数变化,使得空间电荷区的斜率小于理论值。但这并不能解释脉冲测试,尤其是小工作比时空间电荷区斜率偏低的原因,因为这时电子冷却效应基本可以忽略。#p#分页标题#e# <img border="0" alt="极间距变化对测试斜率的影响" width="300" height="209" src="/uploads/userup/0912/251915244256.gif" /><img border="0" alt="覆膜阴极MIRAM 曲线和PWFD 曲线" width="300" height="182" src="/uploads/userup/0912/2519153MX5.gif" /> 图5 　极间距变化对测试斜率的影响　　图6 　覆膜阴极MIRAM 曲线和PWFD 曲线 <h3>2.4、阴极表面发射不均匀</h3> 　　阴极表面的电子发射是面发射,但是并不均匀,面各处的发射能力是有差别的。目前的浸渍扩散阴极采用的是多孔钨基上浸盐工艺而制成。因此,整个阴极发射面从宏观上看,就可以分成两个最基本的部分,一是孔,即由铝酸盐,另一部分为基底,即金属钨。目前的阴极发射理论有多种,但是每一种理论都不能完美解释阴极电子发射机理。电子动态发射中心理论认为,电子在发射表面并不是均匀、全面地发射出来的,而是少数发射中心在发射。发射中心不是孤立的原子或分子,而是一个互相配合的原子集团。这些集团是动态产生、动态消失的。宏观上看,电子发射中心不是固定不变的,而且电子发射中心的数量也会受到材料、温度等方面的限制。因此阴极发射存在一个有效发射面积,电子是由有效发射面发射出来的,电压越高,有效发射面就有可能越小,因此在计算发射电流密度时就偏小,其导流系数也就发生了改变,而不符合二分之三次方定律。从功函数分布上也能说明这一点。目前大家一般认为阴极表面的逸出功在一定范围内分布,因此发射曲线向饱和曲线过渡时存在一个过渡段。阴极表面功函数分布大致呈正态分布,存在一个中心值。但是也存在一些功函数非常大的区域,这些区域在测试时,电压很低的时候就饱和,使得测试结果不符合二分之三次定律。根据实际功函数分布( PWFD)(见图6)  ,可以大致的认为,覆膜阴极功函数可能延伸到2.1eV ,一般认为覆膜阴极的中心值大约为1.8eV。根据式(4) 计算, 　　功函数等于2.1 eV 时, 1000 ℃, 饱和电流密度为0.951 A ,而功函数等于1.8 eV 时,饱和电流密度可达14.637 A ,差别达一个多数量级。因此在伏安测试过程中电流增长方式有两种:功函数等于2.1 eV的,电压2电流符合肖特基定律,lg ( J ) ～0.191 U1/ 2 ;功函数等于1.8 eV 的符合二分之三次方定律,斜率为1.5 ;两部分叠加所得斜率一定小于1.5 。其计算模拟结果见图7 。 　　根据上面的分析,可以认为伏安特性测试的中空间电荷区的斜率在一定程度上反映了阴极发射面的均匀性,如果与理论值差别过大,就有可能无法使用,拐点的出现并不因为极间距、平行度、均匀性的不一而不同,可以认为拐点也是比较客观的反映了阴极的发射能力。 <img border="0" alt="发射表面不均匀对斜率的影响" width="300" height="198" src="/uploads/userup/0912/251915544a0.gif" /><img border="0" alt="标准电子枪伏安特性曲线" width="300" height="184" src="/uploads/userup/0912/251916113152.gif" /> 图7 　发射表面不均匀对斜率的影响　　图8 　标准电子枪伏安特性曲线 　　在实际测试分析中,电子的热初速也是影响导流系数的重要因素之一,今后应该详细分析。另外,在标准电子枪测试中也发现了与近距平板二极管相类似的问题。即导流系数随着阳极电压的升高而变小,见图8。测试的是安装了覆膜阴极的标准电子枪,该电子枪的设计导流系数为2.0 μP ,测试的脉冲宽度为1μs ,重复频率为200 Hz ,阴极工作温度约1060 ℃,其最大电流密度达94 A/ cm2 (阴极直径3.6 mm ,有效发射面积0.1 cm2 ) ,这个电流密度目前所测到最大电流密度之一,但是其空间电荷区的导流系数也仅为1.32 ,与平板二极管的测试结果相当。这说明在实际管型中,也同样存在导流系数随电压升高而下降的问题。 <h2>3、结论</h2> 　　通过对影响测试结果可能的原因分别考虑和分析,可以看到,极间距不影响伏安特性的斜率和拐点;但是如果在测试过程中因为某些原因使得极间距发生变化,就会影响空间电荷区斜率,并且距离越近,影响就可能越大。因此在二极管装架过程中应考虑尽量保证在测试过程中使极间距不发生变化,并且在测试时,应选择有利于保证极间距不发生变化的测试方法进行测试。 　　采用的二极管结构测试,一般不能保证平行度通过模拟计算说明,平行度并不影响测试斜率,但是会影响拐点位置,影响过渡区的形状使得过渡区变长,进而影响计算的功函数分布,因而使得计算的阴极功函数分布不能真正反映阴极的功函数分布。还有阴极发射不均匀对测试斜率的影响是不可忽略的,本文的模拟计算比较粗略,但是也清楚的显示了这方面的趋势。阴极发射面上,特别是高功函数地方的存在,会严重影响测试斜率。还有热初速对空间电荷区斜率的影响也有待分析。 　　近距离平板二极管虽然存在一些结构上缺陷,但测试结果是可以作为阴极发射能力的参考值的,在工程应用方面是简便可行的比测手段;当然更精确的测试结果还应采用标准电子枪结构进行。 真空基础于志强北京真空电子技术研究所 2009-12-25 19:05 用稳态卡计法对热控材料半球发射率的测试研究 http://www.chvacuum.com/engineering/111626.html 　　利用稳态卡计法设计了一种测试材料半球发射率的试验装置，并对其进行了不确定度分析。使用该装置对二次表面镜（OSR）的室温半球发射率进行了测试，测试结果不确定度小于2.00％。同时，使用该装置测试了OSR与一种新型相变材料在190～350K间的半球发射率。 <h2>1、引言</h2> 　　半球发射率是固体材料的一个重要物理性能参数，它体现了材料在特定温度下相对黑体的辐射能力。材料半球发射率的测试方法包括卡计法和光学方法。其中卡计法又包括瞬态卡计法和稳态卡计法。瞬态卡计法能在较短的时间内连续测量样品在不同温度条件下的发射率，但在测试中要求样品的导热性好，以保证在冷却过程中样品内部没有温度梯度。因而，用其测试低热导率材料的半球发射率较为困难。此外，采用瞬态卡计法需获取材料在不同温度下的比热容，然而许多新型的卫星热控材料的热力学参数非常缺乏，这也限制了瞬态卡计法的应用。而稳态卡计法克服了测试过程对材料导热系数与比热容的苛刻要求，测试精度较高，测试温区宽，应用较为广泛。为了测试材料在不同温度条件下尤其是在低温下的半球发射率，作者介绍了一台基于稳态卡计法的半球发射率测试装置。利用该测试装置的测试结果，可方便地计算出材料的半球发射率，测试与计算较简单。作者使用该装置完成了对二次表面镜（OSR）及一种新型相变热控材料的半球发射率的测试。 <h2>2、测试原理</h2> 　　采用稳态卡计法测量材料半球发射率。假设样品的半球发射率εh等于半球吸收率，当样品温度达到热平衡时，有如下关系式 <img border="0" alt="" width="600" height="39" src="http://www.chvacuum.com/uploads/userup/0911/2921402T594.gif" /> 　　式中σ为斯蒂芬－波尔兹曼常数；As为样品的表面积；Ts和Tw分别为样品与测试室内壁的温度；Q为加热器的加热功率；Qw为样品通过引线的热损；Qg为测试室内由残余气体引起的热损；Qr为样品与测试室内壁多次反射样品吸收的能量。 　　在测试过程中，测试室内维持高<a href="http://www.chvacuum.com/">真空</a>，且测试室内表面积远大于样品表面积，因而，Qg与Qr可以忽略不计；由于采用的加热丝及引线直径都较细，故可忽略引线的热损Qw。通过测量加热器的加热功率Q、样品温度Ts 与测试室内壁温度Tw以及样品的表面积As，采用公式（2）计算材料的半球发射率εh <img border="0" alt="" width="600" height="65" src="http://www.chvacuum.com/uploads/userup/0911/292140529411.gif" /> <h2>3、试验装置</h2> 　　测试系统简图如图1所示。该系统主要由内部装有测试室的绝热容器、<a href="http://www.chvacuum.com/systemdesign/">真空系统</a>、直流稳压电源、数字电压表、样品单元等组成。测试室内壁尺寸为Φ250 mm×280mm，表面涂有一层亚光黑漆（εh≈0.90）。测试时在绝热容器中添加制冷工质。真空系统由<a href="http://www.chvacuum.com/pumps/jixie/rotary-pump/">旋片机械泵</a>及<a href="http://www.chvacuum.com/pumps/steam/diffusion-pump/">油扩散泵</a>组成，真空度维持在1×10-3Pa。样品单元如图2 所示，由两片相同的样品（40.0mm×40.0mm×0.5mm）和一个加热片（40.0mm×40.0mm×0.2mm）组成。采用铜-康铜热电偶测量样品温度，热电偶与加热丝的直径均为0.16 mm。采用长春电器仪表厂的WYJ 型直流稳压电源提供加热电流。采用7071 型数字电压表测量热电偶热电势。 <img style="WIDTH: 412px; HEIGHT: 241px" border="0" alt="试验装置示意图" width="503" height="306" src="http://www.chvacuum.com/uploads/userup/0911/292142433V9.gif" /> 1.绝热容器；2.测试室；3.样品单元；4.稳压电源；5.数字电压表；6.真空机组 图1 试验装置示意图 <img style="WIDTH: 261px; HEIGHT: 339px" border="0" alt="样品单元示意图" width="375" height="438" src="http://www.chvacuum.com/uploads/userup/0911/29214300Z34.gif" /> 1.加热丝；2.热电偶；3.样品；4.加热器 图2 样品单元示意图 <h2>4、试验</h2> 　　使用该测试装置测试了铈玻璃二次表面反射镜（OSR）和一种相变材料在不同温度下的半球发射率。测试前先测量样品的表面积并将热电偶固定在样品表面，然后将样品单元装入<a href="http://www.chvacuum.com/qiye/zhenkongpeijian/0916-1380.html">真空室</a>，开启真空机组，当真空度达到1×10-3Pa 时，向绝热容器中注入液氮。待内腔体温度稳定时，开始测量并记录数据。由公式（2）计算半球发射率，并将所计算数据与文献值进行比对。 <h2>5、结果与讨论</h2> 　　该测试装置的不确定度主要来源于样品尺寸测量、样品温度测量、真空环境温度测量及加热功率测量、引线热损五方面。样品采用不确定度为0.01 mm 的数显卡尺测量，其不确定度小于0.05%；热电偶的不确定度小于0.20%；引线热损引起的不确定度小于1.00%；功率测量引起的不确定度小于1.00%。因而，总的测量不确定度小于2.50%。 　　该测试装置所测量OSR 的室温半球发射率与真空技术网上另文提供的值的比较如表1 所列。可以看出，该装置的室温测试值与文献值间的误差小于2.00%，该装置能够较为准确的测量出材料的半球发射率。 表1 OSR的室温测试值比较 <img border="0" alt="OSR的室温测试值比较" width="620" height="71" src="http://www.chvacuum.com/uploads/userup/0911/2921434ER6.gif" /> 　　表2 是使用该装置对不同温度下OSR 及一种相变材料的半球发射率测试值。由表2 可以看出，OSR 的发射率随温度升高逐渐减小，且在190～350 K 间变化较小，降幅为0.08；而相变材料的发射率随温度升高逐渐增加，且变化较为明显，尤其是在230～270K间，增幅达到0.17，在整个测试温区内，半球发射率增幅超过60％。这主要是因为该材料在低温下处于金属相，表现出金属的热辐射特性，具有较低的发射率值，可减少热辐射，保存热量；温度较高时，该材料表现出绝缘体的热辐射特性，具有较高的发射率值，可增强辐射换热，散失多余热量。 表2 不同温度下OSR与相变材料的半球发射率 <img border="0" alt="不同温度下OSR与相变材料的半球发射率" width="620" height="73" src="http://www.chvacuum.com/uploads/userup/0911/2921440G0T.gif" /> <h2>6、结论</h2> 　　作者设计了一种测试材料半球发射率的试验装置，并对该装置的测试不确定度进行了分析。测试结果表明，该装置能够较准确地测试材料室温下的半球发射率，测试不确定度小于2.00％。同时，利用该装置也测试了OSR 及一种相变材料在190～350K间的半球发射率。OSR 的半球发射率随温度升高呈减小趋势，且减小缓慢，为0.08；相变材料的半球发射率随温度升高而增大，在230～273 K 间增加明显，且在整个测试温区内，其增幅超过60%，是一种较好的热控材料。 真空基础王毅兰州物理研究所真空低温技术与物理国家级重点实验室 2009-11-29 21:30 真空技术在粮食行业中的应用 http://www.chvacuum.com/engineering/0816.html 随着科学技术的发展，真空技术(vacuum technology)在粮食行业的运用越来越广。真空技术被称为21世纪的朝阳产业，作为一门综合性交叉学科，在输送、环保、干燥、储藏、加工等领域有着广泛的应用. <h2>1、概述 </h2> 　　随着科学技术的发展，真空技术(vacuum technology)在粮食行业的运用越来越广。真空技术被称为21世纪的朝阳产业，作为一门综合性交叉学科，在输送、环保、干燥、储藏、加工等领域有着广泛的应用，各种与真空技术密切相关的新工艺、新方法、新技术、新设备都显示了其独特的优势和特色。 　　“真空”这一术语译自拉丁文vacuo，其意义是虚无。其实真空应理解为气体较稀薄的空间。在指定的空间内，低于一个大气压力的气体状态统称为真空。真空状态下气体稀薄程度称为真空度(degreeofvacuum)，通常用压力值表示。 　　根据我国所制订的国标GB3163的规定，真空区域大致划分如下： 　　低真空区域105~102Pa(760~1torr) 　　中真空区域102~10-1Pa(1~10-3torr) 　　高真空区域10-1~10-5Pa(10-3~10-7torr) 　　超高真空区域<10-5Pa(<10-7torr) 　　目前，真空技术在粮食行业的运用主要集中在中、低真空区域内。体现在粮食产后的清粮、干燥、储藏、输送和加工等一系列生产活动中，有利于增加粮食有效产出，改善或保护粮食品质，提高系统处理功效。 <h2>2、真空输送(vacuum handling) </h2> 　　利用真空与大气空间存在压力差所产生的力来做功的。由于这种机械能存在着压强处处均匀的特点，这些真空设备在粮食、面粉、饲料行业运用较多。利用安装在输送系统终点的真空泵(vacuumpumps)抽吸系统内的空气，使输送管内形成低于大气压的负压气流，物料同大气一起从起点吸嘴进入管道，随着气流输送到终点分离器内，物料颗粒受到重力或离心力作用从气流中分离出来，气体除尘后经真空泵或离心风机排入大气，绿色环保。 　　真空输送设备在粮食行业主要用于谷物装卸，它可置于港口、码头、筒仓或散装物料存放点，将物料抽吸上来，并送至料仓等受料点，对装运散装物料的船舶、车辆等无需特殊改装，是粮食等粉粒料系统输送散装物料的理想设备。可实现远距离垂直输送，操作方便。整机性能可靠，无尘作业，装卸传送物料损耗小，工作效率高。并且体积小、重量轻、结构简单紧凑、安装容易、低噪音、无震动、维护方便。采用负压输送方式来处理和搬运，可以改善各种粮食设施的工作环境、减少因粉尘对设备的磨损、保护操作人员免受粉尘对身体损害、防止粉尘爆炸的发生，还可减少对周围环境的粉尘污染。具有巨大的社会效益和环境效益。 　　早在1958年，上海港口和长沙等地开始试用真空吸粮机从船舶上缷粮。以食品工业部门为例，我国有1000多个面粉厂采用真空输送，其中港口采用的真空输送已达到200吨/时的输送能力。真空输送作为一项新的运送技术，在其可以适应的领域预计将得到进一步的发展。 　　真空输送具有以下特点：①设备构造简单，制造、加工、安装都比较方便，控制费用少，建设时间短。真空输送系统的主要构成部分均为型钢板材的焊接结构，由管、罐形状的构件所组成，各构件间各相对运动、维修操作都比较容易，如果加装一些控制设备，很容易实现自动化操作。②输送效率高，设备无回程运输。其他运输工具均有运输手段均有空程返回的缺点，而真空输送的运输介质是空气，只需在终端排入大气，输送过程中，进料口可连续加料，实现连续输送。③劳动卫生条件好，真空输送时物料在管内运行，管内处于负压，粉尘不会外泄飞扬，物料不会飞散和污损环境。在输送过程中，还可以进行分选、干燥等中间处理。如物料在负压下输送，因为在负压下水分易于蒸发，所以，即使不采用其它干燥手段，水分较高的物料在输送过程中，也会得到一定的干燥作用，利用物料颗粒重量的不同，设计适当的缷料口可以对物料分选。④此外，真空输送的输送管道，便于因地制宜地设置管网，布置简便灵活，可以充分利用场地面积，易于适应作业环境。 　　真空输送的主要问题是动力消耗大，输送距离受到一定的限制。对于吸送物料的体积、形状、物理性质有一定要求，不宜于输送凝聚性和粘着性的物料，忌输入带电粉体，整个系统要气密性好，而完全做到这一点又比较困难。是否宜于采用真空输送，需综合考虑经济效益决定。 #p#副标题#e# <h2>3、真空除尘(vacuum cleaning) </h2> 　　在我国粮食进出仓、倒仓作业以及生产加工过程中，特别是在粮食中转过程中，产生的粉尘大、作业环境恶劣，更为严重的是，大量的粉尘极有可能产生粉爆，给人民生命和国家财产安全带来严重的隐患。在粮食工业现代化的生产领域中，对粉尘的要求越来越高。生产环境的洁净不仅是确保某些产品高质量的必要前提，而且对改善生产环境、保护个人身体健康、避免二次污染均有重要意义。 　　采用真空除尘方式绿色环保，不仅改善各种粮食设施的工作环境、保护个人身体健康、防止粉尘外泄飞扬以及粉尘爆炸的发生，而且减少对周围环境的粉尘污染。真空除尘具有布置灵活、使用方便、收集率高、有效收集范围广、运行可靠性强等特点，在减少二次污染的同时还能大大降低工人的劳动强度和粉尘对身体的危害。 <h2>4、真空包装(vacuum packaging) </h2> 　　真空包装是将物品装入气密性容器后，在容器封口之前抽真空，使密封后的容器内基本没有空气的一种包装方法。真空包装法也称减压包装法或排气包装法。这种包装可阻挡外界的水汽进入包装容器内，也可防止在密闭着的防潮包装内部存有潮湿空气，在气温下降时结露。采用真空包装法，要注意避免过高的真空度。 　　一般的原粮以及粮食加工过的商品都可以采用真空包装，真空包装不但可以避免或降低粮食的氧化、变色、变味，而且抑制了某些霉菌和细菌的生长。 　　目前粮食、油料等加工保鲜都还基本处于低级、粗放的状态，而且我国的冷藏条件也不能与美国、日本等发达国家相比，这样造成农产品大量损耗和资源浪费。而真空包装能维持粮食农产品的品质和营养成分，倍受粮食行业的重视。 　　真空包装除控制外界温度和无菌以外，更重要的是控制粮食合适的气体环境，达到预期的保鲜目的。其主要方法有机械挤压式、吸管脱气式等方法。无论何种方式，都是要把包装袋内的空气抽出，然后热封。其主要特点是：降低袋内含氧量，抑制霉菌、细菌生长发育，控制粮食变质，达到保鲜、保质的目的。另外，真空包装后，还可抗机械压力，减轻振荡，既利于远途运输，又利于销售。 #p#副标题#e# <h2>5、真空储藏(vacuum storage) </h2> 　　真空储藏新技术也称低压储藏、减压储藏。真空储藏是利用抽气减压的方法，用抽气装置将密封良好的粮堆中的空气抽出，降低粮堆中的氧气浓度甚至使其接近绝氧状态，并长时间地保持，以达到储藏粮食的保鲜和杀虫、防虫的目的。与气调贮藏不同的是，减压贮藏只改变贮藏环境中空气的总含量和密度，不改变空气成分和组合比例。真空储藏实质上是一种压控储藏方法。有利于抑制酶、细菌、病、虫的发生与扩散。 　　真空储藏是将粮食置于密闭库房(容器)内，在降温的过程中将贮藏库(容器)内的空气抽出，进行减压降氧，随着压力的不断降低，一些对贮物有害的气体也随之减少或基本消失，为粮食的长期贮藏保鲜创造了有利的条件。减压库在正常运行中可同时和连续完成真空预冷、减压冷藏过程，减少了贮藏工艺环节；由于库内所贮粮食无需气密包装，应用领域广泛，成为粮食科研工作者研究的热点。 <h2>6、真空爆壳(vacuum bursting) </h2> 　　将坚壳类农产品(如板栗、葵花子等)经漂洗及挑选工序(主要是挑去发霉及生虫的原料)后装入真空爆壳机中，在真空条件下，将具有相当水分的湿物料加热到一定温度，在真空泵的抽气作用下，物料吸热使其外壳的水分不断蒸发而被移除，其韧性和强度降低，脆性大大增加。真空作用又能使壳外压力降低，壳内将相对处于较高压力状态。在外壳将被加热干燥产生应力发生应变的同时，果仁也被加热并使其内部的水分汽化，果仁因失水而收缩，使其与内皮、外壳自行分离；由于果仁的水分汽化后无法从外壳逸出，使壳内的压力进一步升高，达到一定数值时，就会使外壳和内皮爆裂。 　　真空爆壳加工技术不仅效率高，而且卫生，不仅适应大规模生产，而且能够保持果仁的原形、原色、原味，同碾、轧、挤等加工工艺相比较，大大降低了果仁破碎及损失，爆壳率达90%以上，提高了产品质量，具有广阔的应用价值。 #p#副标题#e# <h2>7、真空干燥(vacuum drying) </h2> 　　真空干燥过程就是将被干燥物料置放在密闭的干燥室内，用真空系统抽真空的同时对被干燥物料不断加热，使物料内部的水分通过压力差或浓度差扩散到表面，水分子在物料表面获得足够的动能，在克服分子间的相互吸引力后，逃逸到真空室的低压空间，从而被真空泵抽走的过程。真空干燥能够方便地回收有用和有害的物质，而且能做到密封性良好。从环境保护的意义上讲，有人称真空干燥为“绿色干燥”。 　　在真空状态下，物料湿气的沸点降低、汽化过程加速，因此就特别适合于对温度敏感而且易分解的物料。真空干燥主要在低真空区域内进行。粮食水分在汽化过程中，其沸腾蒸发温度与环境压力成正比，把高水分粮食放置在密闭的干燥筒内，使干燥筒形成并维持一定的真空度，同时对干燥筒内的粮食不断加热，使粮食内部的水分通过压力差扩散到表面，汽化后被真空泵抽走，实现真空低温状态下连续对高水分粮食进行脱水干燥。真空干燥使水分的沸腾蒸发温度从100℃降低到40℃以下，由于蒸发温度低于淀粉的糊化温度，不会对粮食籽粒产生损伤。避免了粮食籽粒的膨胀和爆腰，能够保证粮食干燥后的产品质量。保证了物料烘后原有色、香、味、营养成份、品质基本不变，是真正意义上的低温干燥，与一般的热风低温干燥完全不同。 　　真空冷冻干燥(vacuum freezedrying)技术是使物料首先冻结，然后在真空条件下升温，使冰升华达到最后干燥的目的。采用的加热方式有红外线加热、微波加热等，所提供的热量既要快速使冰升华，又不能使产品表面受到损伤。真空冷冻干燥技术能够保持产品原有的色、香、味、形以及营养成分，特别对热敏性物料的干燥，是生产绿色食品有前途的一种干燥方法。 <h2>8、结束语 </h2> 　　我国粮食输送、干燥、加工等产业市场潜力巨大，如何将真空技术科学、合理、有效地运用在粮食行业当中，真空工作者应发挥自己的专业优势以及新理论的研究，大力开发新型实用的新技术、新工艺、新设备，为我国的粮食事业做出应有的贡献。 真空技术,真空包装,真空输运,真空包装,真空干燥真空基础真空技术网真空技术网整理 2008-08-26 10:06 真空开关管管壳制釉中釉的配方设计及烧釉工艺的制定要点 http://www.chvacuum.com/engineering/111600.html 用硅酸盐的基本理论结合生产实践中遇到的一得些问题,对真空开关管管壳釉面的配方设计,烧釉工艺以及如何改善釉面外观几个方面进行了分析和阐述。 　　釉是覆盖在陶瓷表面的一层近似玻璃态的物质,它具有与玻璃相似的某些物理性质,化学性质,例如各向同性,没明显的熔点,具有光泽,硬度大,能抗酸和碱的侵蚀(氢氟酸与热碱除外) 。但釉不是玻璃,釉与玻璃的不同点在于釉不单纯是硅酸盐,有时还会有硼酸盐,磷酸盐。釉由于与坯体有化学反应和成分扩散,所以没有固定的化学组成,釉是由玻璃相、气相和晶体(新生的矿物晶相和未反应的石英晶相) 组成的一个混合体。釉通常是由酸性氧化物(如SiO2 ,B2O3 , P2O5 等网络组织氧化物) ,碱性氧化物(Na2O ,K2O,CaO ,MgO 等,其本身并不玻化,而是融入玻璃相中起到改变玻璃性质的作用,又称变性氧化物) , 中性氧化物( Al2O3,ZnO,PbO,Cr2O3,Fe2O3,具有介于两者之间的功能中间性质氧化物) 三种氧化物组成。 　　釉的功能: ①由于釉的存在使陶瓷坯体对液体和气体更具有不透过性; ②覆盖于坯体的表面给人们一种美的感觉; ③防止坯体被污染,即便玷污也很容易用洗涤剂等洗涮干净; ④由于釉的热膨胀系数不同,能改善陶瓷坯体的机械强度以及物理化学与介电性能。 <h2>1、开关管管壳对釉面的要求</h2> 　　由于釉面是用于覆盖在开关管管壳表面作为防护瓷体表面不受污染所用,而且一般均与金属化层一起在氢炉中烧结而成,所以釉的成熟温度与烧成气氛必须要适应金属化烧结工艺,所以设计釉的配方时首先要明确以下工艺参数:釉的成熟温度要与金属化烧结最高温度一致;在氢炉中最终成釉;釉表面平整不含气泡,无裂纹,无针孔,无色,光亮美观。 <h2>2、不含气泡-乳浊釉的散光机理</h2> 　　由于釉中含有气泡,会影响美观,有人就提出乳浊釉的概念。因乳浊釉中的气泡看不见,但乳浊釉颜色发暗,不漂亮。于是有人提出了半乳浊釉的概念。用乳浊剂使气泡发生散光,使人们看不到釉内的气泡,但乳浊度又不十分高又具有透明釉的光亮感。这种半乳釉的方式已得到广泛应用。釉的乳浊机理是光线通过釉面,当光线的通道受阻而产生扩散时,玻璃相遂发生乳浊。而在釉中要使光线通道受阻,就必须要有粒子悬浮于釉内部阻碍光线的顺利通行。而这个粒子必须在高温时不能溶解于釉液中,而且要均匀地悬浮于釉体中间。当光线入射到釉内悬浮粒子表面时,由于粒子与玻璃相两者的折射率不同,入射波的反射率减弱,光向四面散射造成釉的乳浊。这种乳浊效果与悬浮粒子的个数成正比,悬浮粒子的个数越多,乳浊的效果就越好,也就是说在相同质量的悬浮粒子的条件下悬浮颗粒越细,悬浮颗粒数就越多,乳浊效果就越好,当悬浮粒子小到与可见光波长(0.39～0.75μm) 相近时可见光散射大大增强,乳浊效果最好;当悬浮粒子直径小于可见光波长时,光线绕过粒子不发生反射现象,此时乳浊效果消失。因此悬浮粒子直径为1μm 左右为好。但由于悬浮粒子表面在釉液处于高温使颗粒表面多少会被溶解掉一部分,所以说悬浮粒子的直径在3～5μm 为宜。目前根据釉的制造工艺,这种悬浮粒子一般采用所用坯体的粉体,锆英石粉,氧化锆细粉。 　　由于坯体瓷粉不易被粉碎到3～5μm ,一般很少被采用。锆英石来源不多,而且杂质较多,易使釉着色,一般也较少采用。氧化锆细粉惰性大,熔点高(2700℃) ,在1400～1500℃的氢炉中不易溶解于釉中,而且氧化锆本身不易被着色,为此常采用氧化锆细粉作为乳浊剂。 　　经试验验证,采用添加3%～5%氧化锆细粉作为乳浊剂已能达到全方位的遮盖作用,基本上看不到釉层底层所存在的气泡。由于加入量不大,所以釉表面仍具有较强的光亮感。若将氧化锆的加入量增加到8%～10% ,这时釉面将呈现较强的乳浊感,釉面的光亮感消失,与厨房的墙面砖具有相同的色调。 <h2>3、崩釉与釉面开裂的产生机理与解决办法</h2> 　　一般来讲,釉与坯体的热膨胀系数不可能完一致。当釉熔制完成后,冷却过程中,由于釉与瓷体的膨胀系数不一致釉面将产生应力。当瓷体的收缩大于釉时,釉面受到压应力,当压应力大于釉的抗压强度时则釉将产生剥离而崩落;如果釉的收缩大于瓷体,则釉将产生张力,当张力大于釉的抗张强度时釉将产生龟裂。但上述因素并不是唯一的,崩落和龟裂还与中间层的厚度及釉料中原料的颗粒度有关。通常釉中氧化钙的多少与釉坯中间层厚度和结合牢固度有密切关系。氧化硅是釉料中不可缺少的酸性氧化物,它的颗粒度将直接关系到釉中剩余石英的多少和大小,为此一般希望氧化硅的颗粒较细,这样它在釉熔融时尽可能全部溶于釉体中间,剩余的石英颗粒越少越好。所以氧化硅颗粒越细,它在釉凝固后,因釉温度下降,由氧化硅引起的体积变化就越小,这样局部因体积变化而产生的应力就越小。另一因素是石英晶粒的晶型转变,石英晶粒的晶型转变有一级变体和二级变体两大类。一级变体间的转变发生在1000℃时,由α2石英转化成α2磷石英,体积变化最大,约16%。但由于它的转变速度慢,时间长,对体积效应的矛盾就不突出,影响不大。而二级变体中β2石英转变成α2石英产生于573℃,此时的体积变化约0.82% ,虽然不大,但由于转变速度快,产生的体积变化的实效却十分大,在短时间内产生巨大的内应力。降温中,稍控制不当极易产生釉的开裂,所以釉的降温速度也是一个关键因素。 <h2>4、釉面针孔的产生原因与克服办法</h2> 　　针孔是釉料溶解时釉中气泡外出时留下的小坑,由于保温时间不够,釉面还未流平,此时整个坯体已开始降温,留下高温时的釉面状态。这个小坑在0.1mm 左右,在一般日光下,用肉眼或借助5 倍放大镜可以发现。这针孔的缺点是影响美观和光亮度,在潮湿气氛下尤其是海边的气雾易被吸附于针孔中,从而影响釉面的绝缘性能。 解决办法: 　　(1) 在釉料配制时尽可能少采用含有大量有机质的生粘土,硫酸盐,碳酸盐以及有机类粘合剂。 　　(2) 在釉料素烧时使釉料中带入的有机质,结晶水以及各类气体(二氧化碳,二氧化硫) 在釉面玻化前会蒸发掉,即烧釉时在有机质分解时尽量放慢速度,增加保温时间。 　　(3) 在设计釉料配方时尽可能多得采用表面张力系数较大的物种,即要使釉面平滑如镜需达到以下两个条件 :釉液粘度为200Pa ·s (高温粘度) ,表面张力要尽量大些。 <h2>5、釉面光亮度的改进</h2> 　　釉之所以能呈现很漂亮的表面光泽主要是因为光的反射程度折射率大小不同,折射率越大光泽越好,色调越美。釉料中碱土氧化物和碱金属氧化物的分子量越大,折射率就越大,则釉面就越光亮。根据以上原则,采用分子量较大的碱土金属氧化物,例如用分子量较大的氧化钡(分子量是153) 以克分子数代替氧化钙则釉面光亮度就会提高。另一方面选择较好的氧化铝氧化硅的比值,可以较好的控制釉面光泽,一般较好的比例是氧化铝/ 氧化硅比为1∶5～1∶10 。若比例达到1∶4～1∶5 则釉将无光亮感,而达到1 ∶3～1 ∶4 则釉面将变为无光釉。还有氧化钙的加入量不能太多,因为氧化钙能使釉面产生微晶,而微晶使釉面无光。这主要是釉冷却时降温太慢,加上釉表面产生微晶粒促使晶粒生长的缘故。为了得到漂亮的釉面,光感强,必须使釉面尽可能保持高温时的液面状态。加快冷却过程是一个十分理想的措施。例如KCC 就是利用以上原则在釉中加入了少量的氧化钡,同时使氧化铝/ 氧化硅比为1/6～1/7 ,釉面的光亮感较好。 　　以上讲的是配方设计的部分单号的配方,没有与之配合的生产工艺同样不能得到较好的釉面。 <h2>6、结束语</h2> 　　为了得到平滑如镜,光亮度很好的釉面,需要从以下及各方面考虑。 　　(1) 合理的选定原料的种类和细度,使其高温粘度和表面张力以及热膨胀系数等在比较合适的范围内。 　　(2) 制定合理的半釉烧结烧结工艺曲线,尽量使原料的放气反应能够进行得比较彻底。 　　(3) 选定适当的乳浊剂,使釉内气泡比较完全的被遮盖掉同时又不影响釉面的光亮度。 真空基础王立君北京京东方真空电器有限责任公司 2009-11-24 20:54 一些常见的主要油封式真空泵 http://www.chvacuum.com/pumps/jixie/0811.html 油封式真空泵按其结构特点分为旋片式真空泵，滑阀式真空泵，定片式真空泵，余摆线式真空泵，多室旋片式真空泵。 　油封式真空泵：它是利用油类密封各运动部件之间的间隙，减少有害空间的一种旋转变容真空泵。这种泵通常带有<a href="http://www.chvacuum.com/pumps/jixie/09109.html">气镇</a>装置，故又称气镇式真空泵。按其结构特点分为如下五种型式。 1、<a href="http://www.chvacuum.com/pumps/jixie/rotary-pump/">旋片式真空泵</a>： 　　转子以一定的偏心距装在泵壳内并与泵壳内表面的固定面靠近，在转子槽内装有两个（或两个以上）旋片，当转子旋转时旋片能沿其径向槽往复滑动且与泵壳内壁始终接触，此旋片随转子一起旋转，可将泵腔分成几个可变容积。旋片式真空泵属于低真空泵。它可以单独使用，也可以作为其他高真空泵或超高真空泵的<a href="http://www.chvacuum.com/systemdesign/10263.html">前级泵</a>。旋片泵多为中小型泵，产品已经系列化。旋片泵有单级和双级两种，一般多做成双级的，以获得较高的真空度。旋片泵绝大多数是单工作腔结构，常用两个径向滑片，也有用三个斜置滑片的。贯穿滑片真空泵也有应用。 2、滑阀式真空泵： 　　在偏心转子外部装有一个滑阀，转子旋转带动滑阀沿泵壳内壁滑动和滚动，滑阀上部的滑阀杆能在可摆动的滑阀导轨中滑动，而把泵腔分成两个可变容积。<a href="http://www.chvacuum.com/pumps/jixie/09115.html">滑阀式真空泵</a>的抽气原理与旋片泵相似，但两者结构不同。滑阀式真空泵是利用滑阀机构来改变吸气腔容积的，故称滑阀泵。 3、定片式真空泵： 　　在泵壳内装有一个与泵内表面靠近的偏心转子，泵壳上装有一个始终与转子表面接触的径向滑片，当转子旋转时，滑片能上、下滑动将泵腔分成两个可变容积。定片式真空泵抽速较小，有单级、双级之分，双级泵的极限真空可达10-1 Pa。泵的结构简单、使用寿命较长和检修容易，但由于其工作性能不如旋片泵，所以目前已经很少生产和应用。 4、<a href="http://www.chvacuum.com/pumps/jixie/09116.html">余摆线式真空泵</a>： 　　在泵腔内偏心装有一个型线为余摆线的转子，它沿泵腔内壁转动并将泵腔分成两个可变容积。泵的动平衡性好，所以泵运转较平稳、振动亦小，转速可以提高，可以做到尺寸小、抽速大，适合发展为大抽速的机械真空泵。由于吸气管路短而粗，有利于提高低压力下的抽速。因此，在低压范围内（1～100Pa）余摆线泵的抽速特性曲线优于滑阀泵。余摆线泵的转子和泵体是一对共轭齿形副的啮合运动，所以对被抽气体中含有一定量的粉尘及小颗粒等不太敏感。余摆线泵适应较高温度的工作环境，可以通过温控装置使泵腔保持较高温度（即成为余摆线热泵），用来抽除大量的可凝性水蒸汽。 5、多室旋片式真空泵： 　　在一个泵壳内并联装有由同一个电动机驱动的多个独立工作室的旋片真空泵。 旋片式真空泵滑阀式真空泵定片式真空泵余摆线式真空泵多室旋机械真空泵真空技术网真空技术网整理 2008-08-15 15:30 SZ型水环泵轴向间隙的调整的方法 http://www.chvacuum.com/pumps/jixie/0814.html 现在我以SZ型水环泵为例，来给你说明这种泵轴向间隙的调整的方法，具体如下：1、将叶轮装在泵轴上，然后装上前后侧盖，即可进行轴向间隙的调整。2、将泵倒立起来，放在支架上，要求泵轴悬空，使某一侧 　　现在我以SZ型水环泵为例，来给你说明这种泵轴向间隙的调整的方法，具体如下： 　　1、将叶轮装在泵轴上，然后装上前后侧盖，即可进行轴向间隙的调整。 　　2、将泵倒立起来，放在支架上，要求泵轴悬空，使某一侧盖被支撑在支架上，泵的重力使叶轮紧贴在被支撑的那一侧盖上，此时叶轮与另一侧盖之间的轴向间隙，显然就是该泵两侧轴向间隙之和，这个总间隙可通过下述方法测量。 　　3、将千分表表座放在侧盖上，指针与泵轴顶端接触，并调至零，再用撬杆撬泵轴末端（即朝下的那一段泵轴），一直撬到叶轮完全与上面的那一侧盖接触，这时千分表指示的数字即为总轴向间隙。如果总轴向间隙超过规定值，可用适当的方法来调整。每种垫片的厚度都有规定，增减垫片的数量可事先通过计算得知。 <img border="0" alt="SZ型水环泵轴向间隙的调整的方法" width="300" height="250" src="http://www.chvacuum.com/uploads/litimg/080816/1140251J13.jpg" /> <a title="SZ型水环泵轴向间隙的调整的方法" href="http://www.chvacuum.com/uploads/litimg/080816/1140251J13.jpg">SZ型水环泵轴向间隙的调整的方法</a> 　　4、总轴向间隙合格后，待泵各部件全部装配完毕，再通过拧轴套螺母，推动叶轮在轴上移动来平均分配两端的轴向间隙，然后推动叶轮，以叶轮和侧盖没有摩擦声为宜。当然，这种调整方法并不能保证两端的轴向间隙恰好相等。 轴向间隙,真空泵,水环泵机械真空泵 2008-08-16 11:36 从旋片泵的结构来分析噪声成因和降低措施 http://www.chvacuum.com/pumps/jixie/0823.html 旋片泵的噪声，通常指泵在温度稳定时，在极限真空下测得的噪声级。它包括泵本身的噪声和电机噪声对用户来说，还关心泵温未稳定时的起动阶段的噪声和不同入口压强下运转的噪声，还有开气镇工作时的噪声。因此。要考虑多种影响因素。      真空泵是利用转子和可在转子槽内滑动的旋片的旋转运动以获得真空的一种变容<a href="http://www.chvacuum.com/pumps/jixie/">机械真空泵</a>。当采用工作液来进行润滑并填充泵腔死隙，分隔排气阀和大气时，即为通常所称的油封旋片真空泵。无工作液时，即为干式旋片真空泵。        在油封旋片真空泵中，国内习惯上称皮带传动的为旋片真空泵，而把泵与电机直接连接或用联轴器连接的称为直联旋片真空泵。在每种泵中，又有单级和双级之分。在单级泵中，由于选用的结构形式和参数不同，泵的极限压力和用途也不同。        它们的共同特点是结构较简单，使用方便，能从大气压力下起动，可直接排人大气，偏心质量较小，维护简便，双级泵的极限压力为6×10-2～l×10-2Pa，一种单级泵可达4Pa左右，另一种单级泵为50～200Pa左右。         自1909年盖德(W．Gaede)发明旋片泵并取得德国专利，1936年又发明气镇泵，1941年取得专利以来，旋片真空泵得到广泛应用和不断完善。60年代末，国际上出现了提高转速，直联的小型化趋势，70年代初出现了直联系列产品，到80年代初，又推出了改进的系列产品，有多种可供用户选配的附件，可以保护泵，或保护环境，泵本身结构也有改进而使可靠性提高。          在泵的结构方面，为了能在停泵时防止返油，有的设有能自动切断油路的止回阀，有的设有进气通道截止阀，有的为了能在泵开气镇运转突然停电时自动切断气路来保持泵口处于真空状态而设有油泵和控制结构。在附件方面，有消雾器、气味过滤器、阻挡碎玻璃等杂物用的人口过滤器、灰尘过滤器、蒸汽凝结阱、化学阱，有控制泵温以提高水蒸气抽除率和保护泵的温控水量调节阀。到了80年代末，90年代初，又推出了油过滤器、能监视油温、油压、油质等的电子显示器，甚至可以与计算机联结，进行自动控制，采用强制润滑和风冷，使泵的连续工作入口压力达10kPa，甚至更高，同一台泵的适用范围因而更大。      双级旋片真空泵，可以广泛用于冰箱、空调机、灯泡、日光灯、瓶胆生产和电子、冶金、医药、化工、滤油机、印刷机械、包装机等工业，可作为扩散泵、罗茨泵、分子泵等的前级泵，供电子仪器、医疗仪器等配套和实验研究应用。由于直联泵没有皮带摩擦的粉尘的污染，体积小、重量轻、材料节约、功能日趋完善，更被广泛推广应用。 噪声成因和降低措施      旋片泵的噪声，通常指泵在温度稳定时，在极限真空下测得的噪声级。它包括泵本身的噪声和电机噪声对用户来说，还关心泵温未稳定时的起动阶段的噪声和不同入口压强下运转的噪声，还有开气镇工作时的噪声。因此。要考虑多种影响因素。 就发声的部位来分，泵的噪声有下列几个可能方面： (1)旋片对缸体的撞击，泵残余容积和排气死隙中的压力油的发声； (2)排气阀片对阀座和支持件的撞击； (3)箱体内的回声和气泡破裂声； (4)轴承噪声； (5)大量气、油冲击挡油板等引起的噪声； (6)其他。如传动引起的噪声，风冷泵的风扇噪声等。 (7)电机噪声，这是至关重要的因素。 #p#副标题#e# 分述如下： 1)旋片对缸壁的撞击。如果设计、制造或用料不当，引起旋片滑动不畅，或者由于存在排气死隙，不可压缩的油引起旋片头部不能始终紧贴缸壁运转，就会引起旋片对缸壁的撞击发声。因此，宜采用园弧面分隔进排气口的结构。用排气导流槽消除死隙。在采用线分隔结构时，应尽量缩短排气终点到切点的距离，对于70L/s以下的旋片泵，考虑旋片的实际厚度，建议取7～lOmm，大泵取大值。过近时，由于转子旋片槽的存在和旋片头部只有一条狭带接触，旋片转到切点位置时密封效果一旦不好，就会影响泵的抽速甚至极限压力。可见这种结构不能完全消除排气死隙,限制了降噪水平。 需要指出的是，旋片与槽的间隙过大会降低性能。因此，要保证合理的公差配合和形位公差值，注意旋片的热膨胀，避免旋片与槽拉毛，注意油的冷油粘度，设计足够的旋片弹簧力，在采用园弧面分隔时，转子中心的附加偏心值不宜过大。不然，旋片经过两个园弧，会在交点处产生脱离缸壁趋势，反而引起撞击噪声。一般小泵为0.20～0.25mm即可,大泵可适当加大。 排气死隙中的压力油和残余容积中的压力油的发声。泵到极限压力时，两处压力油会在与真空腔室接通时高速射向真空腔室，与转子、缸壁撞击发声。两处容积的大小、位置与噪声有关。 2)阀片对阀座和支持件的撞击噪声 吸入的气体量大，泵的循环油量多，阀片噪声就越大，阀跳高，阀的面积大，阀片噪声也大，阀片材料也有一定影响。橡胶阀片的噪声应比钢片或层压板为好。为此，要节制进油量，阀片关闭要及时，要严密。注意阀的选材与结构。 3)箱体内的回声和气泡破裂声气量增大时，此项噪声将增大。因此，开气镇时或通大气时此项噪声会明显增大。如果气镇量可调，则可合理调节气镇量。 4)大量气体和油排出时冲击挡油板等零部件时发出的噪声。如果零件刚性不足，或未紧固，产生振动与碰撞，会使此项噪声增大。因此挡油板不仅应有足够刚度并紧固，而且，在需与其他零件(如油箱)接触时，利用夹橡胶的方法可避免振动引起的碰撞噪声，并改善挡油效果。 旋片泵油封噪声气镇机械真空泵真空技术网真空技术网整理 2008-08-26 14:35 食品真空干燥的特点与新老装置的发展 http://www.chvacuum.com/application/vacuumdrying/0821.html 真空干燥在食品工业中有广泛的重要的应用，进几年来，真空技术与微波加热技术和其它干燥技术相结合，出现了一些新的真空干燥装置类型，提出了我国应加快研制开发真空微波干燥装置的新观点。 <h2 align="left">摘要</h2> <div align="left"></div> <div align="left">　真空干燥在食品工业中有广泛的重要的应用，进几年来，真空技术与微波加热技术和其它干燥技术相结合，出现了一些新的真空干燥装置类型，提出了我国应加快研制开发真空微波干燥装置的新观点。</div> <div align="left"></div> <h2 align="left">0.前言</h2> <div align="left">　当前，食品加工技术的一个重要发展趋势是最大限度地保持食品的营养和色香味，而干燥工艺和设备的选择对食品产品的营养、色香味有很大影响。食品干燥有很多与“食品”相联系的特点，它不同于化工产品的干燥，前者需要考虑食品卫生、营养损失、色香味变化等等，对干燥温度和时间有严格限制；食品干燥又不同于医药产品的干燥，因为食品往往是低附加值产品，而药品一般是高附加值产品，前者必须考虑干燥过程的经济性。围绕着“质量和经济”，近年来食品干燥技术和设备还是取得了不少进步，而其中真空与其它干燥方法或加热技术相结合，赋予了真空干燥装置新的内涵和生命力。</div> <div align="left"></div> <h3 align="left">1．食品真空干燥的特点</h3> <div align="left"></div> <div align="left"></div> <div align="left">　真空干燥是基于这样一基本原理：水的饱和蒸气压与温度紧密相关，在真空状态下，水的沸点降低，即在真空下操作也就是在低温下操作，可避免在高温下营养成分维生素等的破坏，同时提高了干燥速度。此外在真空系统中，单位体积内空气的含量低于大气中的含量，在这相对缺氧的环境下进行食品干燥可以减轻甚至避免食品中脂肪的氧化机会，色素褐变或其它氧化变质等，所以采用真空干燥获得较好的食品质量。</div> <div align="left"></div> <div align="left"></div> <h3 align="left">2．传统的真空干燥装置</h3> <div align="left"></div> <div align="left"></div> <div align="left">　真空干燥在食品、制药、化工等行业有广泛的应用，国内也开发和引进了各种真空干燥设备，其结构形式多种多样。在食品工业中常用的形式主要有箱式、双锥式真空干燥器，带式真空干燥器等。这些传统的真空干燥装置主要采用热风，蒸汽或电等加热，利用热传导，对流或辐射原理将热量从外部传到物料内部。</div> <div align="left"></div> <div align="left"></div> <h4 align="left">2．1箱式真空干燥器</h4> <div align="left"></div> <div align="left"></div> <div align="left">　箱式真空干燥是历史最悠久，也是最简单的一种真空干燥器，在真空干燥箱内有多块中空加热板，加热板里面一般通蒸气加热，也可用电加热或其它辐射加热。物料放在金属盘里置于加热板上，热量通过热传导到达物料内部，使水份加热蒸发。箱式真空干燥器目前在实际中使用仍很普遍，适用于液体、浆体、粉体和散粒食品物料的干燥。</div> <div align="left"></div> <div align="left"></div> <h4 align="left">2．2双锥真空干燥器</h4> <div align="left"></div> <div align="left"></div> <div align="left">　双锥真空干燥器是使有对称夹套的圆锥形容器回转，借内部圆锥体本身的倾斜度使物料不断被搅拌，通过回转接头由回转轴的一侧送入蒸汽或加热载体，并借助于设另一端轴中心的带过滤网的排气管排气。双锥真空干燥器能达到较高真空度，内部结构简单，清理容易，物料能全部排出。</div> <div align="left"></div> <div align="left"></div> <h4 align="left">2．3真空带式干燥器</h4> <div align="left"></div> <div align="left"></div> <div align="left">　真空带式干燥器是由一连续的不锈钢带组成的，钢带绕过加热滚筒和冷却滚筒，结构呈多层式，构成干燥器主体，然后纳入密闭的真空室内。物料簿簿地平铺在带式加热板上随之运动，由于在真空条件下，物料在加热板上呈沸腾状发泡，故成品具有多孔性；全系统为密闭操作，卫生条件好，实际操作真空度100~10Kpa之间，加热温度为150℃左右，其运条件(干燥温度和时间)介于冷冻干燥和喷雾干燥之间，成品质量与冷冻干燥很接近，但冷冻干燥是间隙操作而真空带式干燥机是连续作业，特别适合于热敏性和极易氧化的食品的干燥，液态或浆状物料匀可使用，食品中常用此干燥橙汁、蕃茄汁、速溶茶等。</div> <div align="left"></div> <div align="left"></div> <h4 align="left">2．4真空滚筒干燥机</h4> <div align="left"></div> <div align="left"></div> <div align="left">　真空滚筒干燥机将滚筒密闭在真空室内，在真空滚筒干燥机中，进料、卸料和刮料等都必须从干燥室外进行控制，因此干燥成本很高，故只能用于非常热敏性食品的干燥，如果汁、酵母、婴儿食品等。</div> <div align="left"></div> <div align="left"></div> <h3 align="left">3．真空干燥装置的新进展</h3> <div align="left"></div> <div align="left"></div> <div align="left">　传统的真空干燥装置大多采用热传导、对流或热辐射的方式加热，加热速度慢且不够均匀，近几年来，研究者将真空技术与微波加热技术及其它干燥技术相结合，出现了一些新的真空干燥装置类型。</div> <div align="left"></div> <div align="left"></div> <h4 align="left">3．1<a href="http://www.chvacuum.com/application/vacuumdrying/">真空冷冻干燥</a></h4> <div align="left"></div> <div align="left"></div> <div align="left">　水有三种聚集状态，即液态、固态和汽态。随着压力的不断降低，冰点的变化不大，而沸点侧越来越低，越来越靠近冰点。当压力下降到某一值时，沸点即与冰点相结合，固态冰可以不经过液态而直接转化为汽态。水的三相点压力为610.5Pa，三相点温度为0.0098℃，在压力低于三相点压力时，固态冰可以吸收热量直接转化为汽态的水蒸汽，冷冻干燥的原理就在于此。真空冷冻干燥时，产品放在真空室内，处在两加热板之间，利用低温激发远红外加热，保证干燥均匀，加热板的温度是按干燥过程的加热曲线精确控制的。真空度的选择要能保证整个干燥过程中所有水份都以冰的形式而不溶融，对于大多数蔬菜和肉类来说，选择0.5~1Pa,相应于25℃左右的升华温度为适。</div> <div align="left"></div> <div align="left"></div> <div align="left">　由于真空冷冻干燥食品是在很低的温度下脱水，食品的营养成分风味物质损失少，可以最大限度地保留原有的营养和风味，复水性极好，可在数秒至数分钟内完成复原，其色、味、形与新鲜品基本完全相同。真空冷冻干燥产品很多：有咖啡、速溶茶、果汁、草药等，蔬菜类有葱、大蒜、姜、磨茹、肉类、鲜贝等。真空冷冻干燥一次性投资很大，令很多食品厂家望而却步，如丹麦的ATLAS的RAY50型冻干设备(冻干面积45m2 )报价高达105万美元，国产冻干机刚刚起步，质量方面与国外产品还有很大的差距，此外真空冷冻干燥的生产费用也较高，这是因为需要维持较高的真空和(-25℃)的低温，干燥时间长，能耗较高，这些因素使冷冻干燥在食品工业中使用带来很大的阻力。</div> <div align="left"></div> <div align="left"></div> <h4 align="left">3．2喷射式连续真空干燥器又称（Filtermat喷雾干燥器)</h4> <div align="left"></div> <div align="left"></div> <div align="left">　喷射式连续真空干燥器又称Filtermat喷雾干燥器，相当于是带式真空干燥器与喷雾干燥器的组合。Niro Hudson公司研制的该种干燥器成功地解决了粘性食品----如含糖量高、含脂肪量高或酸含量高的食品物料的干燥问题，粘性大的物料用传统的喷雾干燥器会发生粘壁现象，干燥困难。干燥过程中物料通过压力喷嘴垂直向下喷向喷雾干燥室，热空气也向下喷，半干的粉末物料聚集在移动的网带上，尾气也由风机排出，干燥好的物料在网带上进一步移动、冷却、收集。由于喷雾塔内维持中等的真空度，热风温度只需100℃左右，而一般的喷雾干燥热风温度150℃左右，因而热敏性物料损失少，同时降低了喷雾塔内的高度。</div> <div align="left"></div> <div align="left"></div> <h4 align="left">3．4微波真空干燥</h4> <div align="left"></div> <div align="left"></div> <div align="left">　微波是波长1.0~0.001m，频率为300~300000MHz，具有穿透性的电磁辐射波，微波干燥原理是：微波发生器将微波辐射到干燥物料上，当微波射入物料内部时，透使水等极性分子随微波的频率作同步旋转，例如干燥蔬菜类制品采用915MHz的微波，则蔬菜内的极性水分子等每秒转动9.15亿次，水等极性分子作如此高速旋转的结果使物料瞬时产生摩擦热，导致物料表面和内部同时升温，使大量的水分子从物料逸出，达到物料干燥的效果。传统的加热方法如蒸汽、热风、电等加热是利用热传导、对流、辐射的原理将热量从外部传物料内部，由表及里需要一定的时间，物料的热传导性能越差所需的时间就越长，因此加热速度慢且受热不均匀，能耗较高。微波加热是使被加热物体本身成为发热体，故称之为内部加热方法，微波从四面八方穿过食品，食品内外同时加热，既不需要传热介质，也不利用对流，食品内外温度同时上升，加热速度快而均匀，仅需传统加热方法的几分之一或几十分之一，并能较好保留食品中维生素及食品原有的色香味。有实验表明，晒干的鲜菜其叶绿素、维生素等营养成分仅剩3%，阴干则可保留17%，热风快速干燥可保留40%，微波干燥可保留60%~90%，真空冷冻干燥可保留97%{2}。</div> <div align="left"></div> <div align="left"></div> <div align="left">　微波真空干燥是将微波技术和真空技术有机地结合，充分发挥微波加热快和均匀，真空条件下水汽化点低的特点，是一项很有前途的干燥技术。微波真空干燥技术在法国、日本、美国近年来已由实验室推向工业化生产，这种技术很适合于热敏性食品的深加工。</div> <div align="left"> </div> <div align="left"></div> <div align="left">　近年来国内外对高档脱水蔬菜的需求量很大，而脱水蔬菜的生产，其干燥工艺是决定产品质量的关键，采用真空冷冻干燥制备脱水蔬菜虽然质量好，但真空冷冻干燥设备价格昂贵，生产成本高；80年代以来国外已有采用真空微波——热风（45%~55%）生产脱水蔬菜，在质量上与冷冻干燥工艺生产的产品相当，而一次性投资少，总成本有较大幅度下降。</div> <div align="left"></div> <div align="left"></div> <h2 align="left">4．结束语</h2> <div align="left"></div> <div align="left"></div> <div align="left">（1）真空干燥具有干燥温度低，干燥室内相对缺氧，可避免脂肪氧化，色素褐变等一系列优点，适合于热敏感性食品物料的干燥，此外设备成本、干燥费用也相对较低，真空干燥在食品干燥中点有重要的地位。</div> <div align="left"></div> <div align="left"></div> <div align="left">（2）真空干燥与微波加热技术或其它干燥方法相结合，出现了不少新型的真空干燥装置，赋予了真空干燥新的内涵及生命力。</div> <div align="left"></div> <div align="left"></div> <div align="left">（3）真空微波干燥吸收了微波加热和真空干燥两者的优点，是一种很有前途的干燥技术，建议我国加快研制、开发真空微波干燥装置。</div> <div align="left"></div>  美国加州大学与某公司合作，使用微波真空干燥无籽葡萄干，保持了葡萄原有的形状和颜色，避免了过去传统工艺(65℃热空气烘24小时)产品颜色、形状、风味和营养成分变化的缺点，产品质量大大提高。法国国际微波公司制造的微波真空干燥机(2450MHz，48Kw)微波真空干燥室直径为1.5m，长度12m，加工速溶桔粉，产品不仅保持原有的色香味，其维生素的保留远远高于喷雾干燥。 真空干燥食品干燥微波加热真空微波干燥冷冻干燥真空冷冻真空技术网真空技术网整理 2008-08-26 14:10 食用油“充氮”保鲜抗氧化 http://www.chvacuum.com/application/vacuumpackaging/0815.html 充氮保鲜技术运用于食用油，其优势在于没有添加任何人工化学合成成分，是食用油保鲜领域最为健康和有效的技术。添加TBHQ（化学名:特丁基对苯二酚）抗氧化剂和维生素E的保鲜技术被业内广为采用，并相对成熟。 　　食用油“充氮”保鲜，专家认为说得玄——— 　　<a href="http://www.chvacuum.com/application/vacuumize/200808/15.html">充氮保鲜技术</a>运用于食用油，厂家称其优势在于没有添加任何人工化学合成成分，是食用油保鲜领域最为健康和有效的技术。添加TBHQ（化学名:特丁基对苯二酚）抗氧化剂和维生素E的保鲜技术被业内广为采用，并相对成熟。那么，充氮保鲜技术是否足够优秀，而带来食用油保鲜技术的升级换代呢？ 　　保鲜等于保质 　　食用油主要成分是甘油和脂肪酸，极易被氧化而产生酸败现象，影响口感、破坏营养价值，产生对人体有害成分。 　　全国食品质量与安全专业教学指导委员会的专家农绍庄指出，食用油氧化会致使酸脂过高，酸败的油脂可致使人体肝脏肿大和生长发育障碍，加速衰老；过氧化值严重超标，还可引起腹泻等肠胃不良反应，也可能诱发心血管、肿瘤等疾患。 　　中粮学会油脂专业分会西安油脂科学研究设计院质检中心孟主任告诉记者，不新鲜的食用油会令人体内的游离基上升，导致细胞脂肪酸氧化，增加患上糖尿病及冠心病等慢性疾病的风险。 　　因此，食用油也需要保鲜，而保鲜的关键就是抗氧化。  　　三种方式保鲜  　　食用油的酸价和过氧化值是衡量食用油是否变质的两个重要指标。这两个指标会随着油的储存、日照、高温、接触空气等条件而变高，从而影响食用油的品质。食用油的保质期一般为1年或18个月，一般来说保质期大于1年的都需要做抗氧化处理。 　　记者了解到，目前业内抗氧化的技术主要有三种，一是添加TB－HQ抗氧化剂，二是添加维生素E，包括天然含有维生素E，添加天然维生素E，添加人工合成维生素E，三是采用<a href="http://www.chvacuum.com/application/vacuumize/200808/15.html">充氮保鲜技术</a>。 　　添加TBHQ抗氧化剂TBHQ抗氧化剂的抗氧化效果非常好，具有良好的抗细菌、霉菌和酵母菌的作用，可增强高油水食品的防腐保鲜效果。例如在花生油中添加可显著延长货架期，在油炸食品及方便面中添加可显著延长货架期、防止哈变。 　　根据《食品添加剂使用卫生标准》的规定，TBHQ被允许添加到食用油中，最大使用量为0.2g/Kg。一般建议使用量为油脂总量的0.01％～0.02％。孟主任指出，添加TBHQ的特殊点在于，不存在过量添加的情况，因为加多了反而会起反作用，有促氧化的作用。  　　使用品牌：金龙鱼食用调和油。 　　金龙鱼四川分公司生产部吴经理告诉记者，金龙鱼食用调和油添加了TBHQ抗氧化剂，涉及到生产保密技术，不便多谈。 　　添加维生素E维生素有抗氧化的作用，虽然效果比TBHQ差一些，但由于其是天然的抗氧化剂，能消除消费者对人工合成添加剂的不安心理。 　　孟主任提到，食用油本身的品质好，比如玉米油、橄榄油等富含天然维生素E，其抗氧化性和稳定性很好，可以不用添加抗氧化剂。添加的维生素E实际上也分天然和合成两种，天然维生素E是从天然植物油中提炼而成，合成维生素E则是由石油化工的副产物化学合成的。天然维生素E在生物活性、生物吸收度和安全性方面具有合成维生素E所不具备的明显优势。 　　使用品牌：金龙鱼菜籽油。 　　鲁花四川分公司江经理表示，鲁花花生油富含天然维生素E，不需添加抗氧化剂；金龙鱼菜籽油添加了维生素E。但记者发现，金龙鱼菜籽油在外包装上并未明示其添加的维生素E是天然还是合成。 　　充氮保鲜技术充氮保鲜技术实际上是利用氮气是惰性气体，不易挥发和能隔离空气的原理来达到保鲜效果的。充氮保鲜技术在食用油领域使用还是新技术，在其他领域使用，比如用于茶叶的保鲜则很常见。 　　孟主任指出，充氮保鲜是物理保鲜的方法，实际上相当于抽真空。西安油脂科学研究设计院曾做过充氮保鲜技术的研究，其优势在于不添加化学合成添加剂，更加健康。但充氮保鲜的效果如何则要受许多条件的制约。比如目前食用油采用PVC塑料瓶，其透气性可能会影响保鲜效果，此外食用油开盖后氮气会挥发，其保鲜效果就比不上添加抗氧化剂了。  　　使用品牌：多力葵花油、多力橄榄油等。 　　<a href="http://www.chvacuum.com/application/vacuumize/">充氮保鲜技术</a>是上海佳格食品股份有限公司颇为得意的卖点，但对于其保鲜效果，尤其是开盖后的保鲜效果，该公司未作出任何答复。记者拨打其团购热线询问，一工作人员表示，充氮保鲜技术在欧美被广为采用，国际标准中规定食用油中不得添加任何人工合成添加剂，而充氮保鲜技术运用于食用油的优势在于没有添加任何人工化学合成成分。氮气开盖后会挥发是事实，但由于其惰性并不会马上挥发完，在一定时间内仍能发挥作用。 　　专家观点 　　避免氧化开封后尽快食用 　　本期专家中国粮食学会油脂分会西安油脂科学研究设计院质检中心孟主任 　　无论哪种抗氧化技术，均是为了保鲜，最终使产品既安全又合理的目的。宣称充氮技术安全健康，可能仅仅是厂家抓住消费者合成不如天然好的心理，制造产品卖点的做法。即使是添加人工合成抗氧化剂，在标准允许范围内都是健康的。 　　食用油的氧化在前期很缓慢，但其氧化达到一定值后，油品变质会很快。食用油的保质期通常为18个月，这个保质期限是以包装容器的瓶口或桶口处于封闭严实不泄漏为前提的，即通常所说的货架期。 　　食用油开封后受光照、湿度、氧化等储藏条件的影响，即使添加了抗氧化剂，氧化过程无可避免地也在进行。开封后尽快食用，尽量在1-2个月内用完，应该作为生活经验被消费者所熟知。 　　从以往对充氮保鲜技术的研究来看，开盖后氮气挥发是不争的事实。即使货架期很短，开盖后氮气挥发，保鲜作用逐渐消失，油品在保质期内变质的情况很可能发生，这对厂家实际是一个挑战，也是需要技术突破的地方。食用油的整个市场趋势朝着绿色健康发展，成熟、健康的技术的运用，才能真正让消费者获益。 食品保鲜,充氮保鲜,氧化,食品包装真空包装鬼马真空技术网整理 2008-08-26 09:54 旋片式真空泵工作原理 http://www.chvacuum.com/pumps/jixie/0824.html 旋片式真空泵（简称旋片泵）是一种油封式机械真空泵。其工作压强范围为101325~1.33×10-2（Pa）属于低真空泵。它可以单独使用，也可以作为其它高真空泵或超高真空泵的前级泵。      旋片式真空泵（简称旋片泵）是一种油封式机械真空泵。其工作压强范围为101325~1.33×10-2（Pa）属于低真空泵。它可以单独使用，也可以作为其它高真空泵或超高真空泵的前级泵。它已广泛地应用于冶金、机械、军工、电子、化工、轻工、石油及医药等生产和科研部门。 　　旋片泵可以抽除密封容器中的干燥气体，若附有气镇装置，还可以抽除一定量的可凝性气体。但它不适于抽除含氧过高的，对金属有腐蚀性的、对泵油会起化学反应以及含有颗粒尘埃的气体。 　　旋片泵是真空技术中最基本的真空获得设备之一。旋片泵多为中小型泵。旋片泵有单级和双级两种。所谓双级，就是在结构上将两个单级泵串联起来。一般多做成双级的，以获得较高的真空度。旋片泵的抽速与入口压强的关系规定如下：在入口压强为1333Pa、1.33Pa和1.33×10-1（Pa）下，其抽速值分别不得低于泵的名义抽速的95%、50%和20%。  　　旋片泵主要由泵体、转子、旋片、端盖、弹簧等组成。在旋片泵的腔内偏心地安装一个转子，转子外圆与泵腔内表面相切（二者有很小的间隙），转子槽内装有带弹簧的二个旋片。旋转时，靠离心力和弹簧的张力使旋片顶端与泵腔的内壁保持接触，转子旋转带动旋片沿泵腔内壁滑动。 　　两个旋片把转子、泵腔和两个端盖所围成的月牙形空间分隔成A、B、C三部分。当转子按箭头方向旋转时，与吸气口相通的空间A 的容积是逐渐增大的，正处于吸气过程。而与排气口相通的空间C的容积是逐渐缩小的，正处于排气过程。居中的空间B的容积也是逐渐减小的，正处于压缩过程。由于空间A的容积是逐渐增大（即膨胀），气体压强降低，泵的入口处外部气体压强大于空间A内的压强，因此将气体吸入。当空间A与吸气口隔绝时，即转至空间B的位置，气体开始被压缩，容积逐渐缩小，最后与排气口相通。当被压缩气体超过排气压强时，排气阀被压缩气体推开，气体穿过油箱内的油层排至大气中。由泵的连续运转，达到连续抽气的目的。如果排出的气体通过气道而转入另一级（低真空级），由低真空级抽走，再经低真空级压缩后排至大气中，即组成了双级泵。这时总的压缩比由两级来负担，因而提高了极限真空度。 旋片泵油封泵低真空泵机械真空泵真空技术网真空技术网整理 2008-08-26 14:50 真空技术在汽车空调生产过程中的应用 http://www.chvacuum.com/application/else/0810.html 通常情况下，汽车空调是由压缩机及电控离合器、蒸发器、冷凝器、贮液干燥器、热力膨胀阀和控制系统构成的。 　　通常情况下，汽车空调是由压缩机及电控离合器、蒸发器、冷凝器、贮液干燥器、热力膨胀阀和控制系统构成的。目前的汽车空调主要是使用R134a冷媒作为制冷剂，经过压缩机压缩后在蒸发器里绝热膨胀，使车内的空气温度降低。 　　R134a冷媒是一种环保制冷剂，它对臭氧层没有破坏性，具有良好的安全性能，具有不易燃、无毒、无剌激性等特性。但它易于与水分子发生化学反应，形成腐蚀性极强的氯化氢气体。而且，R134a制冷剂的压缩机要求使用合成润滑油，这种合成润滑油具有吸潮性，可自动从空气中吸收水蒸气。吸收到的水蒸气分子随后溶解在油里，使润滑油的含水量增加。因此，使用R134a制冷剂的空调系统在加注冷媒前必须彻底干燥，否则残留在系统中的水蒸气分子会与R134a反应生成氯化氢气体，对空调系统的金属零件造成严重的腐蚀。 　　系统工作流程 　　在一般汽车的空调系统制冷剂加注工艺流程中，抽真空是最为关键的一步。抽真空不仅是为了去除空调系统中的气体，更重要的是通过抽真空的方法去除系统中的水分。因为水在大气压力下的沸点是100℃，而在真空状态的低压力下，即使是20℃的室温也能让水沸腾。所以真空可以让系统中的水分快速蒸发掉，从而达到彻底干燥空调系统的目的。 　　在真空状态下，不同的压力对应系统的干燥程度是不一样的。总的来说，抽真空的压力越低，系统就越干燥。但是，要想使系统达到较低的压力，所需要的抽真空时间就越长。空调的抽真空过程中，大部分的时间都是用来干燥系统的。 　　汽车制冷剂真空加注机一般是由真空系统、制冷剂输入控制及加压系统、制冷剂加注计量系统、电控系统等部份组成，可完成对汽车空调系统的抽真空、泄漏检测、精确定量加注制冷剂等工作。 　　汽车制冷剂真空加注机一般可分为固定式和随行式二种。由于汽车装配线上每个工位的跨度范围比较大，每辆车在制冷剂加注过程中通常都要移动3～8m。随行式加注机在加注过程中可随汽车移动，当加注完成时自动返回起点的位置。而固定式的加注机则是让加注接头和加注管路随着汽车移动，加注机本身固定在一个位置不动。随行式加注机一般适应比较快的生产节拍，但价格比较昂贵。固定式加注机只能用于较慢的生产节拍，但价格相对便宜。 　　在欧美国家，随着汽车生产流水线生产速度的加快，空调系统的抽真空与制冷剂加注已分离成两个独立的步骤来完成，只有这样才有足够长的时间进行抽<a href="http://www.chvacuum.com/application/vacuumdrying/">真空干燥</a>，同时又能缩短生产节拍。 　　制冷剂加注设备发展的另一个方向是要实现制冷剂加注时的零排放，也就是说每次加注完成后脱离加注枪时，系统不能有多余的制冷剂泄漏露到大气中。 真空加注机其他应用真空技术网真空技术网整理 2008-08-15 15:28 真空冷冻干燥技术及设备的现状及发展趋势 http://www.chvacuum.com/application/vacuumdrying/0822.html 通过分析真空冷冻干燥技术、设备、工艺和理论研究的现状,找出其存在的问题,预测今后的发展趋势。 1 引言       近几年来, 真空冷冻干燥技术发展非常迅速, 国内尤为突出。十年前, 国内生产冻干设备的工厂只有3 家,现在已近30 家。冻干产品由生物制品到药品,再发展到出口冻干食品。生产冻干食品的厂家从无到有,目前已有几十家。冻干理论研究也活跃起来,有十几所高等院校和科研机关在研究冻干过程的传热传质,发表论文数十篇,出版了5 本专著[1～5 ] 。可以肯定地说,冻干设备、工艺和理论研究已经取得了可喜的成果,但也存在着不足。 2 冻干设备的现状及发展趋势     医药用冻干机已经基本成熟, 国内也制定了相应技术标准。有关厂家生产的医药用冻干机,已能代替进口设备。其压盖、清洗、消毒灭菌等功能齐全,产品质量和自动化程度较高,只是水分在线测量仪和个别电器元件等尚需进口。食品冻干机发展较快,生产厂家较多,质量、性能、规格型号各不相同。前几年多从国外引进,近几年已经基本国产化了。 目前,国产食品冻干机还都是非标准化产品。大部分生产厂家走的是仿制道路。有的厂家在采用国外先进技术的同时, 并且进行了很大的改进。如: 加热板内采用了特殊导流装置, 使板内流体的流量均匀, 保证了加热的均匀和稳定; 捕水器在工作中可实现交替捕水和融冰, 捕水器盘管内氨液制冷方式由传统的氨液相变制冷改为氨液无相变制冷, 使捕水器盘管内温度均匀, 结霜性能良好。除仿制之外, 国内自己的研制能力也在提高, 有的单位已经脱离了仿制国外机型, 抽气系统采用低架式水蒸汽喷射泵抽水蒸气, 省去了捕水器和制冷系统, 使设备价格有所降低。设计采用地车式装卸料, 地车采用万向胶轮支撑运输装卸料盘的料车进出冻干箱。它与我国台湾产地车运送料盘不同,与丹麦ATLAS 公司等引进的设备采用上吊车的结构也有区别, 是两者优点的结合, 既省去了车间铺吊轨、影响美观、进出冻干室需搬道叉的麻烦,又克服了地车送料盘装卸料时间长、传导加热温度不均匀等缺点。这种设备结构简单,制造容易,使用方便。          食品冻干机还存在着许多不足, 无论是国产还是引进设备其共同的缺点是价格贵, 耗能高,收回投资慢。因此,降低成本,减少能耗是食品冻干机今后的主攻方向。除此之外,国产冻干机还存在一些不足之处: (1) 搁板温度不均匀,造成冻干产品含水率不均匀,产品合格率受影响。造成温度不均匀的原因各不相同。有的是搁板结构和材料质量不好;有的是加热流体分流或流程有缺欠; 有的是捕水器在干燥箱内绝热不好。 (2) 干燥速率低, 干燥箱内各点干燥快慢不一致,反映在产品上仍然是合格率受影响。其原因除搁板温度不均匀外,还与真空系统配置得不合理有关。主要体现在捕水器配置得不合理;水蒸汽喷射泵性能不稳定;抽气口位置不合理等。 (3) 无法判断干燥何时结束,这是重要缺欠,因为它可能造成产品含水率高而不合格,也可能造成干燥时间过长而浪费能源。 (4) 捕水器效率低。主要体现在捕水器面积大而捕水量小,有部分无效面积,其根本原因是捕水器设计不合理。 (5) 真空度不稳定。除操作原因外,可能是真空系统设计不合理。对于水蒸汽喷射泵而言,可能出现的问题是蒸汽锅炉压力不稳定。        食品用冻干机的研究方向和发展趋势应该是:  (1) 改进结构,优化设计,降低成本,减少能耗。国外有些冻干机不采用不锈钢制造, 而采用低碳钢涂覆食品用可烘干树脂, 涂层厚度为0. 12～0. 20 mm ,在室温下就会发出红外线。搁板表面涂高性能远红外发射材料,增强其辐射能力, 料盘表面处理, 增强其吸热能力。料盘在两块辐射搁板之间有一最佳位置, 而不是取中间位置,因此应优化设计。捕水器的结构、尺寸、结霜特性的优化,更有实际意义,因为它的造价目前几乎相当于冻干箱的造价, 运转功耗较大。对于冻干机而言, 加热系统只是补充升华热,功率消耗本不应太高,但现有设备并不尽如人意,应该通过结构优化,降低能耗。 (2) 保证质量, 提高性能。有的厂家生产的冻干机从安装好之后, 一直不能投入正常生产; 有的冻干机虽然能生产,但能耗太高,生产的产品越多,赔钱越多; 还有的元器件不断出现故障,影响正常生产。因此,今后生产的冻干机质量必须保证,可靠性要好。提高性能是指除加热速率、抽气速率、温度均匀性、真空度稳定性之外,增强设备新的功能。例如增加冻干结束的判断功能,最简单的办法是称重法。目前已经有人试验,但都不太成功。原因是没有离开天平和地秤的模式,致使小设备安装困难,大设备笨重而不稳定。应该发展重量传感器,用很小的一次元件给出重量随时间的变化。 (3) 开发连续式冻干设备, 当前生产的冻干机都是间歇式产品, 随着工业技 术的发展,人民生活水平的提高,消费量会增大,因此发展连续冻干设备,增加冻干产品的产量是必然趋势。   #p#副标题#e# 3 冻干工艺的现状及发展趋势 目前,研究冻干工艺的人员比研究冻干设备的人员要多,研究食品冻干工艺的人员比研究医药冻干工艺的人员要多。被研究的冻干食品品种也越来越多。仅就本校已研究过的冻干品种有:  (1) 中草药类:人参、冬虫夏草、山药。 (2) 水果类:桃、梨、苹果、香蕉、草莓。 (3) 蔬菜类:葱、菠菜、洋葱、胡萝卜。 (4) 肉类:牛肉、牛肝、鸡肝。 (5) 水产类:虾、海带、海参、扇贝。 (6)其它类:蜂蜜、幼竹鲜汁、紫草红色素、“勿忘我”鲜花等。 本校研究的冻干工艺都没有进行优化研究, 不能算是最佳工艺, 从实验室走入生产车间还应该进一步优化, 使其适合于产业化、快速、节能的要求。有的单位对几种食品的冻干工艺研究得比较出色,其中比较有代表性的食品是蘑菇、大蒜粉、芦笋、速溶咖啡、速溶茶等,并给出了脱水大蒜和脱水洋葱的技术要求,这是冻干食品走向成熟的标志。     西药、血液制品和生物制品的冻干工艺比较难,工艺成熟与否关系重大,产品质量直接关系到人的生命安全。所以研究人员比较少,研究成果有一定时间的保密性。西药冻干的关键问题是避免染菌,一但染菌就会造成重大事故。生物制品则要求更加严格,除避免染菌外还要防止菌种变异,保持活菌活毒的活性。在冻干过程中要加入添加剂和保护剂,这是技术水平很高的工作, 国内外有不同的冻干保护剂, 我国六大生物制品研究所之间也各有妙方。     生物体的冻干工艺已经提到了日程上,本校将灰鼠皮肤去毛冻干后在沈阳药科大学做药理实验证明了与新鲜皮肤的药理作用相同, 复水后在生物显微镜下做组织观察, 与鲜皮细胞组织基本相同。现正在国家自然科学基金的资助下,与中国医科大学合作开展家兔角膜的冻干实验研究。 4 冻干理论的研究现状及发展趋势       真空冷冻干燥技术的理论研究可概括为低压低温传热传质的理论研究,非稳态流场的理论研究和热物性参数与其测量方法研究三大部分。其中低压低温传热传质的理论研究进行得比较早,效果比较明显,目前公认的冻干模型可归纳成三种:一种是1976 年Sandall 等提出的冰界面均匀后移的稳态模型(URIF) ; 另一种是1968 年Dryer [6 ]等提出的准稳态模型; 第三种是1979 年Litchield 等提出的吸附- 升华模型。这几种模型都可以描述冻干过程,但又都存在着不足,描述传热过程比较准确,描述传质过程误差较大。主要问题是在传质过程中要发生固- 汽相变,水蒸气在多孔的通道中传递,通道长度要随时间不同而变化,是非稳态过程。多孔通道的结构尺寸还与预冻速度、被冻干物料的物质结构等有关。从近几年的研究报道中还没有见到有新的突破。冻干过程传热传质的理论研究重点是研究发生在被冻干物料内部的过程。非稳态流场的理论研究,重点是研究物料之外、冻干机之内的低压低温空间环境。描述该空间环境的参数有温度、压力、湿度等,这些参数形成的温度场、压力场、湿度分布等都是随时间变化的非稳态流场,这些非稳态流场的模拟方法至今还是个难题。冻干机捕水器中的非稳态流场中又增加了一个汽- 固相变的问题,使研究更加复杂化。因此,近几年虽然有人研究并发表了论文,但都没有形成有效的理论,仍然是值得深入研究的课题之一。无论是传热传质理论研究还是非稳态流场理论研究,都需要一些热物性参数,例如被冻干物料的密度、导热系数、传质系数、水分含量等。由于被冻干物料是各种各样的,无法查找这些数据,需要自己测量。测量时采用什么方法、什么仪表、什么原理等都是研究的课题。还有一类热物性参数测量更是比较困难,这就是在低温低压下湿空气和霜层的特性参数。例如,在真空条件下霜层的密度、厚度、导热系数等都随时间、温度、压力而变化,研究工作相当困难,进展缓慢。 5 结束语      从上述分析可见,冻干技术发展很快,存在问题也不少。迈向21 世纪的冻干技术,除了在设备、工艺和理论方面开展更新、更好、更深入地研究之外,还有待于开拓市场。目前冻干产品销售情况不景气, 除国际市场受东南亚经济危机的影响外, 也受冻干产品质量和品种的制约。国内市场受冻干产品的价格限制,也受新鲜果蔬生产和保鲜技术的冲击。开拓市场的方向应该是上品种、重质量、降价格、面向国外。冻干技术还需开发新的应用领域,生命科学、材料科学等都是冻干技术的交叉学科,是很有发展前途的领域,应该作为开发应用新领域的首选范围。 参考文献: [ 1 ] 赵鹤臬,林秀试. 冷冻干燥技术[M] . 湖北:华中理工大学出版社,1990. [ 2 ] 徐成海. 真空低温技术与设备[M] . 北京:冶金工业出版社,1995. [ 3 ] 张兆祥,晏继文,徐成海,等. 真空冷冻干燥与气调保鲜[M] . 北京:中国民航出版社,1996. [ 4 ] 高福成. 冻干食品[M] . 北京:中国轻工业出版社,1998 ,5. [ 5 ] 余善鸣,白杰,马国庆. 果蔬保鲜与冷冻干燥技术[M] . 哈尔滨:黑龙江科学技术出版社,1999. [ 6 ] DYRE D E ,SUNDERLAND J E. Heat and mass t ransfer mechanisms in sublimation deh ydration[J ] . Journal of Heat Transfer ,1968 ,12 :379. 真空冷冻干燥真空冷冻真空技术网真空技术网整理 2008-08-26 14:29 真空热水锅炉的构造特点 http://www.chvacuum.com/application/else/0813.html 真空热水锅炉的工作原理：真空热水锅炉早在70年代就已出现，第一台成品机是在日本面世的。国内在80年代后期就有一些厂家研制真空热水锅炉，但由于技术方面的问题，一直未得到推广。现在这种在日本已经比较成 <h2>真空热水锅炉的工作原理： </h2> 　　真空热水锅炉早在70年代就已出现，第一台成品机是在日本面世的。国内在80年代后期就有一些厂家研制真空热水锅炉，但由于技术方面的问题，一直未得到推广。现在这种在日本已经比较成熟的机型，在中国也有了合资工厂生产，笔者就是选用了该工厂的双回路真空热水锅炉。 　　真空热水锅炉的结构见图(一)，是由燃烧室(火炉)、水管、负压蒸汽室、热交换器、热媒介水等组成的。机体内部为真空状态，与外部空气隔绝，形成密闭状态。热媒水覆盖着火炉和水管并密闭在机体内部，因负压蒸汽室内的压力保持在大气压之下，当密闭在内的热媒水在燃烧加热后，立即就沸腾起来，产生与热媒水相同温度的蒸汽。机内产生的蒸汽在上升过程中，接触到配置在负压蒸汽室内的热交换器表面，由于热交换器内的水温低于蒸汽温度，蒸汽会在热交换器表面上冷凝并放出大量汽化热，加热热交换器中的水，冷凝水在策略作用下重又回到热媒水中。因此，热媒水不断在封闭的机体内进行着"沸腾=蒸发=冷凝=热媒水"的循环。无须补充冷凝水，也无空烧的危险。热交换器中的水被加热后输送给用户用于空调和卫生热水。 <img alt="真空热水炉结构图" src="/uploads/allimg/080815/1546060.jpg" /> <a title="真空热水炉结构图" href="http://www.chvacuum.com/uploads/allimg/080815/1546060.jpg">真空热水炉结构图</a> 　　为确保真空热水锅炉的运行可靠性，制造厂在三个方面要保证： 1．为了保证锅炉内部的真空度，在工厂制作时要经过严密的检查，采用拟气进行洩漏检测，保证制作过程锅炉罐体的密闭性。为维持真空度，并且为防止万一，工厂装备了作为标准件的抽气泵。在真空热水锅炉罐体内，热媒水被加热到90℃时，抽气泵根据罐体内的真空度自动作业，不仅将罐内空气抽出，也将溶存在热媒水中的氧除去，使其保持一定的负压，罐体内产不会腐蚀。 2．热媒水是一种经制造工厂特殊除杂、除氧、软化处理的清水，在制作中一次性灌注的，可以在运行时循环使用，一般无特殊情况无需加注。笔者在设计调研中走访该厂用户，上海某电机厂，87年投入运行的一台真空热水锅炉，使用了十年从未加注过热媒水，至今仍能正常工作。 3．锅炉内的热交换器具特殊要求，采用了SUS444不锈钢管，这种管材加工时需要特殊工艺。该管材不易结水垢，传热效率高，不会生锈，在水质、流速的限制方面更优于普通的换热管。 真空热水锅炉热交换器换热管其他应用真空技术网真空技术网整理 2008-08-15 15:43 一种氦质谱检漏用双流道喷枪的设计及实验 http://www.chvacuum.com/leakhunting/042486.html 为解决普通喷枪在检漏时对漏孔定位能力低的问题，设计了一种钟罩式双流道喷枪，并对其开展了测试实验。 　　为解决普通喷枪在<a href="http://www.chvacuum.com/leakhunting/">检漏</a>时对<a href="http://www.chvacuum.com/leakhunting/052205.html">漏孔</a>定位能力低的问题，设计了一种钟罩式双流道喷枪，并对其开展了测试实验。结果表明：喷氦法检漏时，利用钟罩式双流道喷枪可分辨出相距15mm 的相邻漏孔，对单一漏孔定位范围为Φ20 mm，较大的提高了喷氦法检漏时对漏孔的定位能力。 　　喷枪作为喷氦法氦质谱检漏的一个重要工具，用以对被检部位喷射氦气。目前喷枪一般直接采用喷漆枪或稍作改造，但利用其对大体积密封结构的焊缝等部位实施检漏时，对漏孔位置的准确判定存在一定难度，甚至出现误判。为此，本文设计了一种钟罩式双流道喷枪，可较好地对被检部件漏孔实施定位检测。 <h2>1、喷氦法最小可检漏率分析</h2> 　　喷氦法检漏时的检漏系统最小可检漏率与仪器最小可检漏率存在以下关系[<a href="#参考文献1">1</a>]： <img border="0" alt="" width="392" height="77" src="/uploads/userup/1204/212132443460.jpg" /> 　　式中Q'min———检漏系统最小可检漏率，Pa·m3/s 　　　　Qmin———仪器最小可检漏率，Pa·m3/s 　　　　γHe———被检部位处所喷氦气体积浓度 　　　　Δt ———喷嘴在漏孔的停留时间，s 　　　　τ———由<a href="http://www.chvacuum.com/systemdesign/">真空系统</a>所决定的仪器的反应时间，s，τ= V/SHe（V—系统容积，m3,SHe—系统对氦的抽速，m3/s）。 　　仪器最小可检漏率为2×10-8 Pa·m3/s 时，喷嘴在漏孔处停留时间与检漏系统最小可检漏率关系见图1。 　　由式（1）及图1 可见：喷氦法检漏时其最小可检漏率与所喷氦气浓度γHe 和喷氦时间Δt 有关。提高喷氦法检漏最小可检漏率的途径主要有两条，一是使γHe→1，即提高漏孔处氦浓度，二是使exp(-Δt/τ)→0，即增加喷氦时间Δt，但喷氦时间的提高意味着检漏效率的降低。 　　检漏时采用的普通喷枪喷嘴一般为敞开式结构（见图2）。 <img border="0" alt="" width="473" height="374" src="/uploads/userup/1204/212133305525.jpg" /> 　　因此，采用普通喷枪检漏时由于受喷嘴相对漏孔的夹角、距离、移动速度以及喷射氦气的流量等因素影响，漏孔处氦气的浓度和影响范围难以确定，实际检漏最小可检漏率不高；喷枪所喷的多余氦气不能被及时清除，使得检漏环境氦本底较高，影响到周围其它漏孔，易造成对漏孔位置的误判，尤其在被检部位结构比较复杂的情况下，氦气更不易扩散清除[<a href="#参考文献2">2</a>~<a href="#参考文献4">4</a>]。 <img border="0" alt="普通喷枪检漏示意图" width="330" height="231" src="/uploads/userup/1204/2121343064L.jpg" /> <h2>2、钟罩式双流道喷枪</h2> 　　针对普通喷枪的不足，以提高漏孔处氦浓度、减少所喷氦气对检漏环境的影响为目的，设计了钟罩式双流道喷枪，见图3。 <img border="0" alt="钟罩式双流道喷枪原理示意图" width="393" height="232" src="/uploads/userup/1204/212135049194.jpg" /> 　　钟罩式双流道喷枪由喷枪枪体、PU 管、锁母接头、透明管浮子流量计、<a href="http://www.chvacuum.com/pumps/jixie/rotary-pump/">旋片式真空泵</a>等构成，见图4。 <img border="0" alt="金属压扁毛细管型漏孔" width="406" height="276" src="/uploads/userup/1204/212135319621.jpg" /> 　　喷嘴采用橡胶钟罩式以提高被检部位氦气浓度。枪体由两根双流道管路构成，氦气自内管喷出，外管联通真空泵将多余氦气抽除，从而避免对环境本底的影响。联接内管与外管的管路上分别设有调节喷氦流量和真空泵抽气流量的调节阀，通过调节<a href="http://www.chvacuum.com/valve/">阀门</a>，使喷氦流量与抽气流量相匹配，从而保证被检部位保持较高的氦浓度。 　　被检密封结构的焊缝宽度一般为20 mm，因此设计内钟罩直径为20 mm，外钟罩直径为40 mm。 <h2>3、测试方法及结果</h2> <h3>3.1、测试装置</h3> 　　测试装置主要由金属压扁<a href="http://www.chvacuum.com/liuti/11281621.html">毛细管</a>型漏孔（见图5）、漏孔阵列法兰盘等组成。漏孔阵列法兰盘上分布有相距为15 mm、20 mm、25 mm、30 mm、35 mm、40 mm、45 mm、50 mm 的螺纹孔，不同漏率的漏孔与<a href="http://www.chvacuum.com/material/pipeline/11362.html">法兰盘</a>上不同距离的螺纹孔联接，可分别组成不同距离的相邻漏孔。 <h2>4、结论</h2> 　　（1）钟罩式双流道喷枪的设计原理是可行的，实验表明其可将相距15 mm 的漏孔区分开，并将漏孔确定在钟罩直径Φ20 mm 范围内，较普通喷枪大大提高了对漏孔的定位能力，该技术已成功应用于某容器大法兰金属焊封罩焊缝的检漏。 　　（2）由于受被检容器焊缝宽度要求，喷氦钟罩直径设计为20 mm，如将其直径减小，对漏孔定位精度或将更高，这对某些狭窄空间的微小部位的检漏具有很好的应用前景。 参考文献 　　<a name="参考文献1"></a>[1] 达道安.真空设计手册.3 版[M]. 北京：国防工业出版社,2004:1306- 1307. 　　<a name="参考文献2"></a>[2] 孙开磊,孙新利.真空氦质谱检漏原理与方法综述[J].真空电子技术.2003，（6）：63. 　　<a name="参考文献3"></a>[3] 梁凯基、张远青,等.复杂结构的大容器氦质谱检漏技术[J].真空与低温.2000，(2):108- 109. 　　<a name="参考文献4"></a>[4] 范垂祯. 再议质谱检漏技术中的喷吹法和吸入法[J].真空.1998，（1）：27- 28. 　　<a name="参考文献5"></a>[5] 闫荣鑫，肖祥正，吴孝俭,等.液体燃料箱体的氦质谱加压吸枪检漏研究[J]. 导弹与航天运载技术.1996，（219）：61- 62. 氦质谱检漏钟罩式双流道真空检漏冯晓西北核技术研究所 2012-04-21 21:03