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真空刻蚀
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单晶片注入用机械扫描技术
2007-12-13 12:10:36
随着集成电路工艺技术的提高,对离子注入提出更高的要求,传统的批注入已不能满足当前的工艺,从而开发出了适应当前工艺的单晶片注入的机械扫描技术。这种注入技术解决了当前工艺技术上的难题,也很好地控制了成本风险,具有更高精度、更少污染等一系列优点,成为当前
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