新型等离子体束溅射镀膜机(2)

1.3、发展前景

1.3.1、可做多种材料共溅射

　　从图2中可以看到，通过调节靶偏压可以对沉积速率进行控制。当使用多块靶时，如果各靶之间相互绝缘，并将每个靶施加不同的偏压，就可以做到多成分共溅射，即可通过调节各溅射靶的偏压很容易地实现镀制薄膜的成分控制。图5即为系统共溅射示意图及其靶的组成。

图5 系统共溅射示意及靶组成

1.3.2、应用

　　等离子体束溅射镀膜还可以应用于大规模生产，如在卷绕镀膜机及多靶连续镀膜机上的应用，其示意图分别如图6及图7所示。

图6 卷绕镀膜机原理图

图7 多靶连续镀膜机

2、国外试验结果

　　在实际的等离子体束溅射镀膜应用中，4英寸基片和4英寸靶组合情况下的膜厚均匀性可以达到±0.25%。在其等离子体的清洗和镀膜过程中二次电子的轰击作用实质上是对基片的表面改性，从而提高膜与基片的结合力。例如，在PET基片上沉积金膜，可以不用过渡层，也可以得到具有很高结合力的薄膜；另外，通过镀膜工艺参数的控制，可以使薄膜具有压应力，零应力和拉应力，如图8 所示。

图8 PET 基片上的金膜（没有中间层）和应力控制膜

　　表1 给出了等离子体束溅射镀膜机实际运行结果，表2 给出了等离子体束溅射镀膜对铁磁性材料进行镀膜的运行结果。

表1 反应溅射沉积介质薄膜