退火温度对氧化镍(NiO)薄膜的影响(2)

2009-04-15 张宏斌 河南科技大学材料科学与工程学院

3、退火温度对氧化镍(NiO)薄膜组成的影响

          为考察薄膜的化学组成,对不同退火温度下Si 基片上的NiO 薄膜进行能谱分析,结果见表1。可以看出,Ni:O大致为1:1,这接近NiO的理论值,表明薄膜可能由NiO粒子构成。值得注意的是,从500℃到700℃薄膜中氧的含量随着退火温度的升高而逐渐增大,这可能是在低温退火时,沉积在基片上的无定形Ni 没有完全被氧化,随着退火温度的升高,Ni 的氧化程度增加所致。同时,部分Si 也可能被氧化,从而导致氧含量增加。

不同退火温度下,Si 基片上沉积薄膜的Ni、O含量 

表1 不同退火温度下,Si 基片上沉积薄膜的Ni、O含量

4、电化学性能初步研究

          通过上述分析,500℃退火的NiO 薄膜形貌、组成和结构均较好。采用该温度下的薄膜在氩气氛保护的手套箱中装配成电池;其中NiO薄膜为工作电极,高纯锂片为对电极,电解液LiPF6/EC+DMC (w/w=1/1);500℃退火NiO薄膜的恒流充放电曲线如图3 所示,截止电压0.01~3.0V,电流密度40μA/cm2。

500℃退火2h制得NiO薄膜的充放电曲线 

图3 500℃退火2h制得NiO薄膜的充放电曲线

           可以看出,首次放电过程中,在0.2~0.3V范围内有一较大的电压平台, 且在第一次循环后,容量损失较大。显然,此过程是一不可逆反应,其反应机理目前尚无定论,有待进一步研究。

         从第二次循环开始曲线的重合性很好,表明电池容量衰减很慢,具有良好的电化学循环稳定性。人们研究发现NiO 的储锂机理与传统的锂嵌入脱锂或形成锂合金机理均不一样。在锂嵌入过程中,Li与NiO发生还原反应, 生成Li2O和Ni;在脱锂过程中,Li2O 与Ni 能够再生成Li 和NiO,该过程如(1)所示:

Li + NiO=Li2O+Ni (1)

       (1) 采用直流溅射并结合热处理工艺在400~500℃退火温度下制备了表面光滑、结构致密、无微孔和裂缝的纳米晶NiO 薄膜;

       (2) 随着退火温度的升高,薄膜的晶粒尺寸增大,晶粒大小约10~60nm;

       (3) 500℃退火条件下制得的NiO 薄膜组成和结构较好,具有良好的电化学循环稳定性,有望成为高性能的全固态薄膜锂电池阳极材料。